誰才是IC大佬們的光刻技術(shù)最愛？

　　臺積電與Globalfoundries是一對芯片代工行業(yè)的死對頭，不過他們對付彼此的戰(zhàn)略手段則各有不同。舉例而言，在提供的產(chǎn)品方面，Globalfoundries在28nm制程僅提供HKMG工藝的代工服務(wù)(至少從對外公布的路線圖上看是這樣)，而相比之下，臺積電的28nm制程則有HKMG和傳統(tǒng)的多晶硅柵+SION絕緣層兩種工藝可供用戶選擇。另外，兩者對待450mm技術(shù)的態(tài)度也不相同，臺積電是450mm的積極推進者，而Globalfoundries及其IBM制造技術(shù)聯(lián)盟的伙伴們則對這項技術(shù)鮮有公開表態(tài)。不過我們今天分析討論的重點則是其次世代光刻技術(shù)方面的戰(zhàn)略異同。

　　三家公司光刻技術(shù)策略的異同

　　Globalfoundries，臺積電以及Intel三家在光刻技術(shù)方面的策略各有不同。其中臺積電一直對無掩模的電子束直寫技術(shù)最為熱衷，但是他們最近對EUV技術(shù)的態(tài)度忽然變得熱烈起來。而Intel則對EUV技術(shù)十分看重，將其視為下一代光刻技術(shù)的首選(Intel的EUV投入量產(chǎn)時間點大概也定在2015年左右，而具體對應(yīng)的制程節(jié)點則可能會在10nm及更高等級)，當(dāng)然兩家公司對電子束直寫以及EUV也均有投入研究力量，但是側(cè)重點則有所不同而已。相比之下，Globalfoundries則與臺積電對比鮮明，他們對EUV技術(shù)顯得非常熱衷，不過他們對電子束直寫的態(tài)度最近開始變得熱烈起來。

　　傳統(tǒng)的光刻技術(shù)領(lǐng)域，臺積電主要使用ASML生產(chǎn)的光刻機，而Globalfoundries則腳踩ASML/尼康兩只船。自從45nm節(jié)點起，Globalfoundries便一直在使用193nm液浸式光刻機，他們認為193nm液浸式光刻技術(shù)至少可以沿用到20nm節(jié)點。相比之下Intel則32nm節(jié)點起才開始使用193nm液浸式光刻機，此前使用的是193nm干式光刻技術(shù)，Intel曾經(jīng)表示過準(zhǔn)備把193nm液浸式光刻技術(shù)沿用到10nm節(jié)點。

　　Globalfoundries的次世代光刻技術(shù)攻略詳述：20nm節(jié)點兩種光刻技術(shù)可選?

　　GlobalfoundriesEUV技術(shù)的熱衷程度與臺積電形成了鮮明的對比。去年Globalfoundries跳過ASML的預(yù)產(chǎn)型EUV光刻機，直接訂購了ASML的量產(chǎn)型EUV設(shè)備。據(jù)Globalfoundries高管HarryLevinson介紹，他們計劃在20nm節(jié)點為用戶提供分別采用兩種不同光刻技術(shù)的選擇。

　　第一個選擇是使用193nm液浸式光刻+雙重成像技術(shù)(以下簡稱193i+DP)制造的20nm制程產(chǎn)品，另外一個選擇則是使用EUV光刻技術(shù)制造的20nm制程產(chǎn)品。

　　據(jù)HarryLevinson表示，理論上講，193i+DP的光刻速度相對較慢，成本也相對較高，不過EUV光刻技術(shù)則急需解決曝光功率，掩模方面的問題。

　　Globalfoundries的計劃是2012年安裝自己從ASML訂購的量產(chǎn)型EUV光刻機，并于2014-2015年開始將EUV光刻技術(shù)投入量產(chǎn)。不過按照計劃，Globalfoundries會在2013年推出基于22/20nm制程的芯片產(chǎn)品。

　　這樣推斷下來，至少在Globalfoundries將EUV光刻機投入量產(chǎn)的2014年前，他們的20nm制程產(chǎn)品只能使用193i+DP技術(shù)來制造。

　　不過Levinson并沒有透露20nm節(jié)點之后Globalfoundrie在量產(chǎn)用光刻技術(shù)的布局計劃，但令人稍感意外的是，他們最近似乎開始熱衷于研究電子束直寫等無掩模型的光刻技術(shù)。對小尺寸晶圓以及ASIC即專用集成電路器件而言，無掩模技術(shù)顯得更適合作為下一代光刻技術(shù)使用。

　　臺積電的次世代光刻技術(shù)攻略詳述：16nm節(jié)點還是未知數(shù)

　　與Globalfoundrie類似，臺積電也在40nm節(jié)點開始使用193i光刻技術(shù)，臺積電計劃將這種技術(shù)沿用到28/20nm節(jié)點，至于16nm節(jié)點，臺積電則表示還在評估193i+DP，EUV以及無掩模光刻這三種技術(shù)的優(yōu)劣。