新聞中心

EEPW首頁 > 模擬技術(shù) > 設計應用 > 通過增益校準提高DAC積分非線性(INL)

通過增益校準提高DAC積分非線性(INL)

作者:OnurOzbek 時間:2012-08-21 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

  數(shù)字模擬() 的靜態(tài)絕對精度可以從三個基本錯誤類型來描述:偏移、增益誤差和非線性。線性誤差是這三個中最具挑戰(zhàn)性的,在許多應用中,用戶可以忽略偏移和增益誤差或者在系統(tǒng)設計中建立終端自動校驗來補償。然而,線性錯誤則需要更復雜的修正方法。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/135954.htm

  (見圖1)把數(shù)字輸入代碼轉(zhuǎn)換為模擬輸出信號,可能是電流或電壓。的分辨率指的是DAC能產(chǎn)生的單位輸出電平數(shù)量。例如,一個8位分辨率的DAC能夠產(chǎn)生28(256)的不同輸出電平。理想情況下,每一個數(shù)字代碼提供同等的模擬階數(shù);然而,實際上很難達到?! ?/p>


圖1:8位DAC符號

  DAC線性問題

  在介紹提高DAC積分非線性(INL)之前,最好先回顧一下如何確定其線性,如圖2所示。在DAC中,我們通常都把注意力放在兩個方面:微分非線性(DNL)和積分非線性(INL)。DNL是指實際模擬輸出階數(shù)的最大偏差,即相鄰輸入代碼之間與理想階數(shù)值(Δ) 的最大偏差。INL是指在傳遞函數(shù)中的任何點,實際輸出和理想階數(shù)的最大偏差。理想值是零和DAC滿量衡之間的一條直線 (見圖2)?! ?/p>


圖2:DAC線性誤差,DNL和INL

  傳統(tǒng)的終端校準技術(shù)用來消除DAC 增益誤差。然而,增益誤差一般不會在DAC滿量程都是線性的,因為硅內(nèi)部有各種非理想體系。這些體系模式可能造成單向梯度,從而導致比較差的INL性能。

  非線性主要原因如下:

  • 邊緣效應,例如長度擴散(LOD)
  • 摻雜梯度
  • 氧化層厚度梯度變化導致閾值移位
  • 熱梯度
  • 供電線路電壓下降 ?

  因此,終端校正技術(shù)并不足以完全清除增益誤差,INL性能仍舊很差。需要輸出精度高的應用就需要很低的INL。

  固件技術(shù)

  提高INL性能的方式之一是使用固件技術(shù)。該方法充分利用了片上系統(tǒng) ()技術(shù),在系統(tǒng)中建立兩點自動校驗。在這個例子中,我們將使用P® 3系列,其有4個多重范圍 8位電壓/電流DAC(INL約為1.5 LSB)。片上20位 Delta-Sigma模擬/數(shù)字(ADC)的 INL在12位模式下小于1 LSB。這足夠用來校準8位DAC。需要固件來完成DAC輸出和ADC之間的反饋回路 (見圖3)。


上一頁 1 2 3 下一頁

關鍵詞: DAC SoC 轉(zhuǎn)換器

評論


相關推薦

技術(shù)專區(qū)

關閉