基于SOI高壓集成技術(shù)的電平位移電路設(shè)計(jì)
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技術(shù)方案與實(shí)用技巧
通過(guò)以上分析，發(fā)現(xiàn)提高nLDMOS的開(kāi)態(tài)擊穿電壓最有效的方法是縮短?hào)艠O場(chǎng)板和提高體區(qū)注入劑量。這二種方法的實(shí)質(zhì)提高導(dǎo)通阻抗或降低電流能力。但是對(duì)于普通應(yīng)用的nLDMOS，電流能力本身就比pLDMOS有優(yōu)勢(shì)。當(dāng)應(yīng)用到負(fù)電源電平位移電路中時(shí)，厚柵氧高柵源電壓使得nLDMOS的電流能力更加突出，但是同時(shí)也導(dǎo)致了開(kāi)態(tài)耐壓的降低。所以提高nLDMOS開(kāi)態(tài)擊穿電壓就必須降低其電流能力。如圖6所示，在nLD-MOS正常工作時(shí)，源端的電壓為-100V，此時(shí)飽和電流相差0.05mA/μm。
在縮短?hào)艠O場(chǎng)板到1μm，提高體區(qū)注入劑量到5e14 cm-2的情況下，在得到nLDMOS的閾值電壓為24V，關(guān)態(tài)擊穿電壓215V，開(kāi)態(tài)擊穿電壓140V，能夠滿(mǎn)足-100V電壓的應(yīng)用要求。
3 結(jié)束語(yǔ)
本文設(shè)計(jì)一種應(yīng)用于8～-100V電源的電平位移電路。通過(guò)在常規(guī)正電源電平位移電路的基礎(chǔ)上改變低壓控制方式來(lái)實(shí)現(xiàn)從0～8V低壓邏輯輸入到8～-100V高壓驅(qū)動(dòng)輸出的轉(zhuǎn)換。基于此電路結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)了滿(mǎn)足電路應(yīng)用需求的高壓器件。并對(duì)高壓LDMOS進(jìn)行了優(yōu)化設(shè)計(jì)，尤其是高壓nLDMOS的開(kāi)態(tài)耐壓。得到高壓nLDMOS的關(guān)態(tài)擊穿電壓215V，開(kāi)態(tài)擊穿電壓140V，閾值電壓24V;高壓pLDMOS的關(guān)態(tài)擊穿電壓200V，開(kāi)態(tài)擊穿電壓160V，閾值電壓-1V。
評(píng)論