一文看懂3D晶體管
上圖是最近比較常用的MOS元件結(jié)構(gòu),我們可以發(fā)現(xiàn)和之前列出來的簡圖有不少差異,事實(shí)上增加的部份都是為了避免通道產(chǎn)生速度過慢、短通道效應(yīng)、性能不良等等問題而來。但是這些解法也會(huì)帶來副作用,互相牽制以致沒有一個(gè)完美的解決方案。(不然大家趕著變成3D干嘛?)
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201611/339540.htm影響推動(dòng)力的最主要因素還是來自于短通道效應(yīng),特別是本身就已經(jīng)夠短的30nm閘極通道更容易發(fā)生。為了解決短通道效應(yīng),有人會(huì)預(yù)先在通道形成的部位加入雜質(zhì),使得原本的NP接面導(dǎo)通電壓下降。其原理就是讓P型半導(dǎo)體不要這么偏向P型,有點(diǎn)接近N型,但是這樣一來也造成了通道切斷時(shí)很可能會(huì)有漏電流,因?yàn)榻槊娴哪苷献冃。壹尤腚s質(zhì)會(huì)創(chuàng)造許多自由電子和電洞成對(duì)出現(xiàn)的機(jī)會(huì)。
▲短通道效應(yīng):通道提早縮水了
關(guān)不掉的晶體管
在沒有外部電場的情況下,這成對(duì)的電子和電洞因靜電力平衡會(huì)再度中和掉對(duì)方而消失;但是當(dāng)有外部電場(源極有電壓的時(shí)候)時(shí),這些隨機(jī)產(chǎn)生的電子就會(huì)變成額外的導(dǎo)電品,使得晶體管永遠(yuǎn)關(guān)不起來。原本我們希望閘極在拉高電位一到飽和態(tài)后,晶體管就可以把源極的輸出降到零,現(xiàn)在辦不到了?這就叫做關(guān)閉態(tài)的漏電流。就算我們不加入雜質(zhì)讓能障變小,當(dāng)閘極電壓小于汲極電壓太多時(shí),這個(gè)能障一樣會(huì)變小,在30nm以下的晶體管中產(chǎn)生漏電流的比例就會(huì)遠(yuǎn)高于過去90nm或120nm的晶體管了。
▲關(guān)不起來的電壓
閘極太短的漏電流
▲閘極過短導(dǎo)致的漏電
在上圖中,我們又看到了另一種漏電流的產(chǎn)生原因,當(dāng)我們的電場施加于3個(gè)極時(shí),我們可以看到因靜電力之故,某些區(qū)域的電子、電洞都飄往源極以及汲極,并且閘極為了形成通道也會(huì)吸取中間部位大多的電子、電洞聚集到通道,這些被吸走電洞、電子的區(qū)域形成了空乏區(qū),這空乏區(qū)沒什么能障,原本也沒什么作用,但是若是閘極通道很短就好玩了。
我們看到圖中的汲極到源極之間除了通道外全部被空乏區(qū)連起來了,任何不小心落入這空乏區(qū)的電荷都會(huì)被來自汲極的電場用力一推,就往源極跑出去了!(額外不受控制的電流輸出,又是一個(gè)漏電的來源)
推動(dòng)力不足也可能是因?yàn)樾纬赏ǖ赖碾姾闪烤褪遣粔?,造成通道太薄太小,如果我們使用增加晶體管寬度的方法解決這種問題,就會(huì)造成制造成本升高,但是如果增加通道形成區(qū)附近的雜質(zhì),又會(huì)漏電。所以最好的方法恐怕只有換一個(gè)晶體管結(jié)構(gòu)了!
寄生電容
由于材料介接的影響,對(duì)于高頻訊號(hào)來說,原本良好的導(dǎo)體其實(shí)訊號(hào)跑起來并沒這么良好。會(huì)跑出訊號(hào)經(jīng)過電容器一般的濾波效應(yīng),讓訊號(hào)變差,但是我們明明沒有在導(dǎo)體上面放電容器,這個(gè)電容效應(yīng)是導(dǎo)體自發(fā)的物理現(xiàn)象,所以我們叫它寄生電容。
本征電子
就如同高中提到的酸堿平衡一樣,水的成分是氧化氫,但是就算是純水,其中也會(huì)固定解離出等量的氫離子和氫氧根離子。我們?cè)诓牧现蟹胚M(jìn)雜質(zhì)以利產(chǎn)生電洞時(shí),也會(huì)因熱效應(yīng)而產(chǎn)生一些等量的電子和電洞,但是他們出現(xiàn)一下子就又會(huì)結(jié)合在一起了,就好像情人暫時(shí)分手但是馬上又復(fù)合一樣。而當(dāng)某一對(duì)分手的電子電洞復(fù)合的時(shí)候,又會(huì)有另一對(duì)分手,所以材料中永遠(yuǎn)會(huì)有一些自由電子,這叫本征電子(洞)。
評(píng)論