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鋰離子電池管理芯片的研究及其低功耗設(shè)計(jì)-----版圖實(shí)現(xiàn)及驗(yàn)證

作者: 時(shí)間:2017-06-04 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

5.1版圖設(shè)計(jì)

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201706/348228.htm

5.1.1數(shù)模版圖設(shè)計(jì)

版圖設(shè)計(jì)是集成電路的物理實(shí)現(xiàn),是電子系統(tǒng)和工藝間的橋梁??偟恼f(shuō)來(lái),版圖設(shè)計(jì)以減少芯片面積、提高電路性能、節(jié)省設(shè)計(jì)費(fèi)用為目標(biāo)。對(duì)于電源管理芯片而言,由于對(duì)電路性能要求比較高,采用自上而下的分層設(shè)計(jì)方法,能夠更有效地實(shí)現(xiàn)縮小芯片面積,降低制造成本。

自上而下是指從電路圖或邏輯圖設(shè)計(jì)版圖。首先,要對(duì)電路或邏輯進(jìn)行分析,主要分析對(duì)系統(tǒng)性能、版圖面積或芯片布局起很重要作用的關(guān)鍵部分。然后,開始布局設(shè)計(jì),解決電路或邏輯圖中的每個(gè)功能單元在版圖中位置的擺放、壓點(diǎn)分布、電源線、地線以及主要信號(hào)線的走向等。完成分層布局后,接下來(lái)則采取自下而上的方法,從元器件級(jí)到子單元,再由子單元到單元,直至完成整個(gè)芯片設(shè)計(jì)。需要指出的是,在電路或邏輯設(shè)計(jì)之初,不一定對(duì)版圖結(jié)構(gòu)進(jìn)行深入考慮,甚至有些是不可預(yù)料的。因此,版圖設(shè)計(jì)是暴露出的問(wèn)題,要求電路設(shè)計(jì)還要進(jìn)行重新修改或?qū)﹄娐穮?shù)進(jìn)行調(diào)整,而且往往這需要多次反饋才能滿足要求。

版圖設(shè)計(jì)中,除可以采用一些常見的設(shè)計(jì)方法來(lái)實(shí)現(xiàn)性能、面積的雙贏外,還有一些重要的因素必須認(rèn)真考慮,比如噪聲。影響噪聲的主要因素有:開關(guān)引起的電源噪聲、通過(guò)襯底引起的耦合、芯片連線層次的內(nèi)連線耦合及包括了封裝寄生效應(yīng)在內(nèi)的I/O耦合。幾乎所有模擬電路都會(huì)由于數(shù)字電路噪聲而惡化,現(xiàn)有的技術(shù)可以盡量減小噪聲的影響,但是無(wú)法完全消除噪聲[116]。

中,由于電源線的電阻和電感,當(dāng)邏輯模塊的開關(guān)電流將引起電源電壓的擾動(dòng),所以在設(shè)計(jì)中必須加以重視。如果模擬電路和邏輯電路的電源線是共用的,則必然要受到電源擾動(dòng)的影響。在電路設(shè)計(jì)層次,正如前一章提出的,降低電源電壓噪聲的影響本質(zhì)上是降低電路與電源電壓的相關(guān)性,這可以設(shè)計(jì)高PSRR的電路實(shí)現(xiàn);在版圖設(shè)計(jì)層次,則可以將模擬和邏輯電源線分開,減小電源擾動(dòng)影響,但是這種方法顯然將給版圖設(shè)計(jì)電源線分布和設(shè)計(jì)驗(yàn)證階段增加了額外的難度。而降低電源總線上的串聯(lián)電阻和電感能有效地降低電源噪聲,這需要在芯片級(jí)布局將電源線均勻分布或是使電源線寬度或沿線通孔最大。

而且,有必要對(duì)模擬電路電源總線仔細(xì)設(shè)計(jì),以使邏輯干擾效應(yīng)降到最小。

5.1.2系統(tǒng)版圖

系統(tǒng)版圖設(shè)計(jì)中,除要注意上述所提出的混合電路版圖設(shè)計(jì)中的共性問(wèn)題以外,還要對(duì)系統(tǒng)中的一些特殊器件版圖作專門考慮,如PNP管的實(shí)現(xiàn)、高壓管的版圖設(shè)計(jì)等。

圖5.1.1給出了縱向襯底的剖面圖及版圖結(jié)構(gòu)。當(dāng)基極和集電極同時(shí)接電源電壓VDD端時(shí),則從發(fā)射極可以輸出一個(gè)相對(duì)于V DD的V BE。圖5.1.2所示的則是系統(tǒng)所用高壓、低壓管的剖面圖。低壓管的工作電壓在0V~5V,高壓管的工作電壓可以在0V~30V間變化。



圖5.1.3給出了系統(tǒng)版圖。芯片占用面積為0.77mm 2。圖中可見,電阻所占面積較大。原因在于,為了降低電路靜態(tài)功耗,取樣電路和電壓基準(zhǔn)源中采用的電阻面積較大,而且為了達(dá)到高精度電壓檢測(cè),必須采用Trimming工藝調(diào)整電阻阻值,這又進(jìn)一步增大了電阻所占用的版圖面積。



5.2系統(tǒng)后模擬驗(yàn)證

5.2.1版圖驗(yàn)證

版圖驗(yàn)證是版圖設(shè)計(jì)中一個(gè)必不可少的重要環(huán)節(jié)。版圖驗(yàn)證通常有兩種方法,一種是DRC,ERC和LVS驗(yàn)證;另一種是DRC,ERC和晶體管級(jí)網(wǎng)表提取與開關(guān)級(jí)模擬驗(yàn)證。

其中,DRC和ERC是對(duì)版圖進(jìn)行幾何設(shè)計(jì)規(guī)則和電學(xué)規(guī)則檢查,關(guān)鍵在于編寫合格的檢查文件,按設(shè)計(jì)規(guī)則,逐條編寫。LVS檢查又稱網(wǎng)表一致性檢查,即對(duì)版圖進(jìn)行器件及其連接關(guān)系進(jìn)行提取,獲得電路網(wǎng)表,并和原設(shè)計(jì)的電路圖或邏輯圖進(jìn)行比較,檢查其一致性。不言而喻,LVS檢查存在一定局限性,對(duì)于速度不高、無(wú)競(jìng)爭(zhēng)、分布寄生參數(shù)影響不大的電路,有一定的效果,反之,則需要后模擬驗(yàn)證。

后模擬(Post-Simulation)的驗(yàn)證策略是包括從版圖上提取分布寄生參數(shù)在內(nèi)的仿真驗(yàn)證。但對(duì)于元器件較多的電路,要進(jìn)行晶體管級(jí)的仿真驗(yàn)證,現(xiàn)有的軟硬件都有些力不從心。因此,后模擬驗(yàn)證方式不能一概而論,需要根據(jù)電路性質(zhì)、電路規(guī)模和設(shè)計(jì)模式選用不同的驗(yàn)證方式。數(shù)字電路可以根據(jù)規(guī)模大小、功能復(fù)雜程度采用開關(guān)級(jí)或分級(jí)邏輯仿真,所用軟件主要采用時(shí)鐘驅(qū)動(dòng)算法分析電路結(jié)點(diǎn)的邏輯狀態(tài);模擬電路則一般采用SPICE驗(yàn)證,利用求解非線性微分方程組的數(shù)值計(jì)算方法求解電路方程。由此可知,因?yàn)橛?jì)算方法和輸出結(jié)果類型的巨大差異,邏輯仿真和電路仿真不可能完全統(tǒng)一,所以混合信號(hào)的仿真問(wèn)題,在沒(méi)有一個(gè)統(tǒng)一的進(jìn)行數(shù)模混合仿真算法的前提下,只能取得模擬精度和速度的折衷。

本文所設(shè)計(jì)的系統(tǒng)包括了模擬電路和邏輯電路部分,采用的后模擬驗(yàn)證途徑為,從版圖中提取晶體管及其連線的R、C參數(shù),在此基礎(chǔ)上進(jìn)行HSPICE電路仿真。為了解決前面所提到的混合信號(hào)模擬問(wèn)題,在模擬時(shí)采用了以下的處理方法,即按照電路仿真方法對(duì)整個(gè)電路進(jìn)行性能模擬,但在模擬中做一些必要的假定。另外,采用POWERMILL軟件,在降低仿真精度的基礎(chǔ)上,利用查表方式,快速地對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行功能和功耗模擬驗(yàn)證。

5.2.2后模擬結(jié)果

1模擬條件及功能驗(yàn)證

系統(tǒng)后模擬所用的電路圖如圖5.2.1所示,若沒(méi)有特殊說(shuō)明,判斷CO、DO端是否為高電平的依據(jù)為CO、DO電壓是否高于外接NMOS管的閾值電壓1V.系統(tǒng)仿真同時(shí)采用了POWERMILL及HSPICE的驗(yàn)證方法。

圖5.2.2~5.2.3都是HSPICE仿真的結(jié)果。其中,圖5.2.2給出了過(guò)充電保護(hù)和釋放模擬波形,結(jié)果表明在充電過(guò)程中,當(dāng)電源電壓VDD升高到過(guò)充檢測(cè)電壓VCU時(shí),CO端將經(jīng)過(guò)適當(dāng)延時(shí)后降為低電平,切斷充電回路;當(dāng)VDD下降到過(guò)充釋放電壓VCL時(shí),CO端將立即轉(zhuǎn)為高電平。在整個(gè)過(guò)程中,因?yàn)殡娫措妷阂恢备哂谶^(guò)放檢測(cè)電壓V DL,所以DO端一直保持高電平,允許系統(tǒng)放電。圖5.2.3則是過(guò)放電保護(hù)和釋放模擬結(jié)果,圖中表明,在放電時(shí)當(dāng)V DD低于V DL時(shí),DO端將經(jīng)過(guò)一定的延時(shí)后降為低電平,禁止系統(tǒng)再進(jìn)一步放電;當(dāng)V DD上升到高于過(guò)放釋放電壓V DU時(shí),DO端及時(shí)轉(zhuǎn)變?yōu)楦唠娖健M瑯?,在整個(gè)過(guò)程中,CO一直為高電平。需要指出的是,為了減少模擬時(shí)間,延時(shí)時(shí)間直接在網(wǎng)表中設(shè)定,設(shè)定的時(shí)間比實(shí)際延時(shí)要短。電路檢測(cè)到非正常信號(hào)后的延時(shí)另外用POWERMILL模擬。



圖5.2.4給出了放電過(guò)程中,三級(jí)過(guò)流檢測(cè)和保護(hù)的HSPICE仿真結(jié)果,圖(a)、(b)、(c)中分別對(duì)應(yīng)過(guò)流1、過(guò)流2和短路保護(hù)情況。由圖5.2.4(a)、(b)可知,當(dāng)放電電流檢測(cè)端VM電壓高于150mV、500mV時(shí),比較器輸出Vcomp_oct1和V comp_oct2立即翻轉(zhuǎn),分別延時(shí)6.35ms、1.61ms后,放電控制端DO降為低電平,關(guān)斷放電回路;從圖5.2.4(c)還得到,當(dāng)VM上升比V DD低1.1V時(shí),延遲0.58μs后,短路保護(hù)開始起作用,及時(shí)關(guān)斷放電回路。



圖5.2.5是非正常充電電流檢測(cè)及保護(hù)的HSPICE功能仿真圖。當(dāng)在低電池電壓下充電的過(guò)程中,VM降到-1.3V,比較器輸出V out及時(shí)翻轉(zhuǎn),而此時(shí)V DD仍比較低,所以CO仍保持高電平,允許充電器繼續(xù)對(duì)電池充電,而在延時(shí)2ms后,DO才由低電平轉(zhuǎn)為高電平,允許電池接負(fù)載放電。圖5.2.6則給出了電路在過(guò)放狀態(tài)下進(jìn)入Power Down狀態(tài),并在開始充電時(shí)退出Power Down的模擬曲線。



2電學(xué)參數(shù)比較

考慮了五種工藝漂移、溫度變化(-5°C~55°C)、電源電壓變化后,整個(gè)芯片的HSPICE/POWERMILL后模擬結(jié)果見表5.1和表5.2.表中還給出了中高精度的S82系列產(chǎn)品的指標(biāo)對(duì)比。






由表5.1和表5.2可見,和文獻(xiàn)報(bào)道的同類先進(jìn)產(chǎn)品指標(biāo)相比,本設(shè)計(jì)的電學(xué)參數(shù)性能均達(dá)到設(shè)計(jì)要求,檢測(cè)電壓和延時(shí)精度優(yōu)于文獻(xiàn)指標(biāo)。另外,在有負(fù)載或充電器情況下,由于采用了動(dòng)態(tài)功耗管理技術(shù),芯片的電流功耗降低了14%左右,而這方面的指標(biāo),尚未見文獻(xiàn)給出。可以肯定的是,將這種功耗管理技術(shù)應(yīng)用在SBS中,節(jié)省的功耗將更為可觀。

5.3小結(jié)在前章提出的電池管理芯片電路實(shí)現(xiàn)的基礎(chǔ)上,本章完成了系統(tǒng)的版圖設(shè)計(jì)和后模擬驗(yàn)證。首先,介紹了自上而下的版圖設(shè)計(jì)方法,對(duì)本次版圖設(shè)計(jì)中的重要問(wèn)題作了討論;其次,結(jié)合所用工藝,介紹了系統(tǒng)中的一些特殊器件的制作,完成了整個(gè)系統(tǒng)版圖的設(shè)計(jì);然后,分析了常用的版圖驗(yàn)證途徑,介紹了混合信號(hào)電路中后模擬所遇到的困難,結(jié)合本設(shè)計(jì)提出了解決方案,并在此基礎(chǔ)上對(duì)系統(tǒng)功能、包括功耗在內(nèi)的性能指標(biāo)作了仿真驗(yàn)證;最后,將本系統(tǒng)的驗(yàn)證結(jié)果和文獻(xiàn)報(bào)道的同類先進(jìn)產(chǎn)品作了分析比較,結(jié)果表明,在考慮了工藝漂移、溫度變化等因素的影響之后,本芯片能實(shí)現(xiàn)所有的設(shè)計(jì)功能,電學(xué)指標(biāo)達(dá)到或優(yōu)于文獻(xiàn),由于進(jìn)行了有效的功耗管理,在實(shí)際應(yīng)用中,能節(jié)省14%左右的電流消耗。



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