3d芯片 文章 進入3d芯片技術(shù)社區(qū)
混合鍵合在3D芯片中發(fā)揮著重要作用
- 上周,IEEE電子元件與技術(shù)會議(ECTC)的研究人員推動了一項對尖端處理器和存儲器至關(guān)重要的技術(shù)。該技術(shù)被稱為混合鍵合,將兩個或多個芯片堆疊在同一封裝中,使芯片制造商能夠增加其處理器和存儲器中的晶體管數(shù)量,盡管曾經(jīng)定義摩爾定律的傳統(tǒng)晶體管收縮速度普遍放緩。來自主要芯片制造商和大學(xué)的研究小組展示了各種艱苦奮斗的改進,包括應(yīng)用材料公司、Imec、英特爾和索尼在內(nèi)的一些研究小組顯示的結(jié)果可能導(dǎo)致3D堆疊芯片之間的連接密度達到創(chuàng)紀錄的密度,即在一平方毫米的硅中約有700萬個鏈接。Imec設(shè)法在每2微米放置一次的
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默克:3D芯片是摩爾定律物理極限的最佳解答
- 隨著半導(dǎo)體先進制程持續(xù)往5奈米、3奈米逼近的同時,摩爾定律也正逐漸走向物理極限。制程的微縮不只越來越困難,耗用的時間也越來越長,成本也越走越高。這使得半導(dǎo)體也必須從材料端與封裝端來打破制程技術(shù)的限制,并達到技術(shù)上的突破。也由于臺灣的半導(dǎo)體實力在全世界有目共睹,這使得默克決定在臺灣高雄成立其亞洲地區(qū)集成電路材料應(yīng)用研究與開發(fā)中心。 默克研發(fā)中心的重點領(lǐng)域,包括用于薄膜制程的CVD/ALD材料,和用于后段封裝連接和黏晶的導(dǎo)電膠。默克對此研發(fā)中心的投資超過280萬歐元(約1億新臺幣),此研發(fā)中心同時與
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3D芯片設(shè)計趨于成熟 半導(dǎo)體未來走向整合開發(fā)
- 電子系統(tǒng)層級(ESL)和高階合成(HLS)方案試圖以硬體取代軟件。法新社在過去,由于軟件內(nèi)容不多、產(chǎn)品制備不容易延滯,開發(fā)業(yè)者會先設(shè)計硬體,再完成軟件設(shè)計。時至今日,軟件內(nèi)容大增,軟件設(shè)計逐漸比硬體占更多時間與成本,且是產(chǎn)品功能重要實現(xiàn)關(guān)鍵。 軟件功能受到重視之甚,使得硬體開始被視為支援軟件最佳化之平臺。現(xiàn)在許多開發(fā)業(yè)者會先設(shè)計軟件,并依據(jù)成本、功耗、存儲器容量、體積等軟件效能限制,去建造支援該軟件的硬體設(shè)計。 軟、硬體不只是技術(shù)層面需要顧及,還牽涉到公司結(jié)構(gòu)問題,傳統(tǒng)公司部門分化根深蒂固
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美光轉(zhuǎn)向3D芯片 40億美元擴建工廠
- 傳統(tǒng)的平面閃存在16/15nm工藝之后面臨瓶頸,廠商開始轉(zhuǎn)向3D閃存,這其中三星動作最快,去年就已經(jīng)開始量產(chǎn)第二代V-NAND閃存了,850 Pro及850 Evo硬盤也上市了。東芝/閃迪系也在跟進,在日本擴建Fab 2工廠準(zhǔn)備3D閃存生產(chǎn),Intel/美光系去年底也公開了他們的3D NAND閃存,現(xiàn)在也準(zhǔn)備量產(chǎn)了。日前美光宣布投資40億美元擴建新加坡的Fab 10晶圓廠,明年底開始量產(chǎn)第二代3D NAND閃存。 ? 美光斥資40億美元升級Fab 10X晶圓廠生產(chǎn)3D N
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腦科學(xué)屆的革命:3D芯片精確控制腦神經(jīng)
- 用光精確地控制神經(jīng)元可以在腦科學(xué)研究和腦疾病治療方面掀起一場革命。 光遺傳學(xué)把光敏基因和光源結(jié)合在一起,用來選擇性地打開或關(guān)閉大腦。光遺傳學(xué)已經(jīng)成為有希望的研究工具和潛在療法。不過,這一技術(shù)大部分時候只把光打到某個點上,而腦部活動經(jīng)常包括不同區(qū)域以復(fù)雜的順序被激活。一個新的設(shè)備可以讓光遺傳學(xué)變成三維技術(shù),把光的模式發(fā)送到腦部不同坐標(biāo)的神經(jīng)元上。 “在接下來的幾年里,會出現(xiàn)大量的類似設(shè)備,”布朗大學(xué)納米光學(xué)和神經(jīng)工程實驗室(Nanophotonics and Neur
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三星將3D芯片制造技術(shù)授權(quán)給GlobalFoundries
- 4月18日消息,據(jù)路透社報道,三星電子周五表示,公司已將最新的芯片制造技術(shù)授權(quán)給美國制造商GlobalFoundries。此舉旨在幫助后者改善生產(chǎn)力,以提高其在面對像蘋果這樣的大訂單時與臺積電的競爭力。 GlobalFoundries是全球第二大合同芯片制造商。而根據(jù)周五公布的聲明,該公司如今已從三星獲得了3D芯片制造工藝的授權(quán),或稱為FinFET。 三星已計劃在今年第四季度展開14納米工藝的FinFET量產(chǎn)。公司希望不斷提高產(chǎn)能,以滿足當(dāng)前日趨增加的市場需求。 3D晶體管比傳統(tǒng)平面
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3D芯片時代將至 光學(xué)檢測設(shè)備應(yīng)用空間擴大
- 美商陸得斯科技(RudolphTechnologies,Inc.)指出,到了3D晶片時代,矽鉆孔(TSV)、微凸塊(microbumping)等半導(dǎo)體制程技術(shù)越趨復(fù)雜,每一道程式的精密控制均開出新的檢測需求,預(yù)料光學(xué)檢測設(shè)備扮演角色依舊吃重,甚至將自表面量測等現(xiàn)行主流用途,開展出更大應(yīng)用空間。 光學(xué)檢測作為制程式控制制(processcontrol)的重要環(huán)節(jié),無論是在半導(dǎo)體前段抑或后段制程,都扮演著決定成品可靠度的重要關(guān)鍵。隨著3D晶片時代箭在弦上,不僅晶片尺寸縮微,制程也更加精密,自動光
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3D芯片封測準(zhǔn)備就緒但成本需降低
- 來自全球11個國家、超過200位的半導(dǎo)體封裝技術(shù)專家,近日齊聚一堂探討能有助于維持半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新步伐的中介層(interposer)與IC封裝技術(shù);專家們的結(jié)論是, 3D晶片堆疊技術(shù)已經(jīng)準(zhǔn)備就緒,但有需要再進一步降低成本。 由美國喬治亞理工大學(xué)(Georgia Tech)封裝研究中心(Packaging Research Center,PRC)所主辦的第三屆年度中介層技術(shù)研討會上,來自Amkor、日月光(ASE)等半導(dǎo)體封裝大廠的專家明確指出,他們已經(jīng)準(zhǔn)備好為以中介層基礎(chǔ)的設(shè)計進行封裝與測試;此
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3D芯片封測準(zhǔn)備就緒但成本需降低
- 來自全球11個國家、超過200位的半導(dǎo)體封裝技術(shù)專家,近日齊聚一堂探討能有助于維持半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新步伐的中介層(interposer)與IC封裝技術(shù);專家們的結(jié)論是,3D晶片堆疊技術(shù)已經(jīng)準(zhǔn)備就緒,但有需要再進一步降低成本。 由美國喬治亞理工大學(xué)(GeorgiaTech)封裝研究中心(PackagingResearchCenter,PRC)所主辦的第三屆年度中介層技術(shù)研討會上,來自Amkor、日月光(ASE)等半導(dǎo)體封裝大廠的專家明確指出,他們已經(jīng)準(zhǔn)備好為以中介層基礎(chǔ)的設(shè)計進行封裝與測試;此外晶圓代
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各芯片廠積極研發(fā) 臺積電日月光笑看3D芯片量產(chǎn)
- 臺積電、日月光、矽品等大廠積極架構(gòu)2.5D及3DIC封測產(chǎn)能,一般預(yù)料明年將進入3DIC量產(chǎn)元年,啟動高階生產(chǎn)線及3DIC設(shè)備商機,國內(nèi)主要設(shè)備供應(yīng)商弘塑、辛耘及萬潤等業(yè)績吃香。 設(shè)備廠表示,3DIC可以改善存儲器產(chǎn)品的性能表現(xiàn)與可靠度,并可協(xié)助減低成本與縮小產(chǎn)品尺寸,現(xiàn)今全球包括臺積電、日月光、矽品、意法、三星、爾必達、美光、格羅方德、IBM、英特爾等多家公司都已陸續(xù)投入3DIC的研發(fā)與生產(chǎn)。 日月光集團研發(fā)中心總經(jīng)理唐和明透露,目前3DIC從設(shè)計工具、制造、封裝測試等所有流程的
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NVIDIA首席科學(xué)家談3D芯片、中國崛起
- GTC2012大會上,曾擔(dān)任斯坦福大學(xué)計算機科學(xué)系主任的NVIDIA首席科學(xué)家BillDally在接受EETimes采訪時談到了3D整合電路,技術(shù)層面上中國的崛起以及美國研發(fā)投資的現(xiàn)狀。 關(guān)于3D芯片方面,Dally稱GPU的未來存在著整合若干塊3D堆疊顯存的一條道路,這種設(shè)計比較有潛力發(fā)揮出更高的帶寬效果,同時整體功耗更低。此前開發(fā)出HyperMemoryCube的美光實際上已經(jīng)與NVIDIA商議過這一點,但Dally表示由于NVIDIA只想要自己獨立設(shè)計芯片,而美光提出的要求帶有在價值鏈上攫
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多維設(shè)計技術(shù)力促3D芯片
- 您可能聽說過這樣的宣傳:隨著目前還是平面結(jié)構(gòu)的裸片向多層結(jié)構(gòu)的過渡,半導(dǎo)體制造基礎(chǔ)在今后幾年內(nèi)將發(fā)生重大轉(zhuǎn)變。為了使這種多層結(jié)構(gòu)具有可制造性,全球主要半導(dǎo)體組織作出了近10年的不懈努力,從明年開始三維(
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