應(yīng)對單芯片手機設(shè)計挑戰(zhàn)
為獲得低成本的手機解決方案,過去已經(jīng)發(fā)展了幾種集成方法,包括集成外部器件、將混合信號構(gòu)建單元與數(shù)字功能合并等,主要的目的就是減少外部元器件數(shù)量(分立芯片器件、電阻、電容、電感器件,以及外部調(diào)節(jié)器件等),從而減少需要處理的器件并最終降低生產(chǎn)成本。朝SoC的方向再前進一步就是將數(shù)字(包括存儲器)部分、混合信號和射頻功能利用同一種工藝集成到單塊芯片上,或者將這些構(gòu)建模塊組裝到一個封裝單元中。每種方法都有其優(yōu)點和缺點,但單芯片方法能夠提供最經(jīng)濟的解決方案,因為所需要的處理和封裝成本最少,并且有可能實現(xiàn)最優(yōu)測試理念。
英飛凌公司單芯片GSM/GPRS解決方案E-GOLDradio 在單個純CMOS裸片上集成了手機應(yīng)用所需要的基本構(gòu)建模塊,如基帶功能、內(nèi)部存儲器(RAM和ROM)、混合信號和射頻功能。高度集成的這一完整GSM/GPRS系統(tǒng)可以容納在99 mm2 LF2BGA-233倒裝片封裝中。其MODEM功能支持高達12級的多時隙GPRS傳輸。
用標準CMOS工藝達到最高集成度
為達到最高的集成度,需要考慮不同的晶圓工藝技術(shù)。BiCMOS, SOI 或SiGe工藝都可以使用,但最適合的還是標準CMOS技術(shù),因為CMOS技術(shù)被廣泛用于幾乎所有邏輯元器件的生產(chǎn)。為了獲得成本優(yōu)化的解決方案,必須對這些不同技術(shù)(如CMOS和BiCMOS)之間進行仔細的分析和折衷。例如,與相應(yīng)的BiCMOS工藝比較,由于需要的掩膜和工藝步驟較少,典型的0.25mm CMOS工藝成本約降低30% ~ 50%。SOI 和 SiGe工藝也是可能的選擇,但相應(yīng)的原材料比較昂貴,而且工藝復(fù)雜性也更高。這些都與經(jīng)濟的CMOS技術(shù)形成鮮明的對比。
當然,最適合的工藝技術(shù)在很大程度上也與芯片架構(gòu)和芯片劃分有關(guān)。顯然,對于真正意義上的單片集成來說,射頻宏單元必須采用與基帶部分同樣的技術(shù)實現(xiàn)。因此,所選擇的工藝技術(shù)參數(shù)必須能夠同時滿足兩者的要求。其中一個方面就是相關(guān)工藝所能夠達到的速度,或者更準確地說,是特定工藝技術(shù)的躍遷頻率(ft)。在選擇最適合工藝技術(shù)的時候,這一參數(shù)具有關(guān)鍵作用。作為一個基本原則,所選擇工藝技術(shù)的ft必須是不同構(gòu)建模塊中所處理的最高信號頻率的10倍。
但是,如果數(shù)字設(shè)計和射頻設(shè)計采用同樣的工藝技術(shù),那么必須考慮到這一技術(shù)并非是針對"模擬"要求而優(yōu)化的。對于典型的射頻設(shè)計構(gòu)建模塊,晶體管、電阻、電容和電感器的射頻和噪聲性能對于整個系統(tǒng)的行為和性能有很大的影響。因此通常必須特別考慮到CMOS制造工藝的變化,特別是電路缺陷和CMOS的特有缺點(如1/f噪聲)對接收器和發(fā)射器行為的影響。為了滿足GSM/GPRS射頻參數(shù)所提出的極為苛刻的系統(tǒng)技術(shù)要求,就要采用特殊的設(shè)計方法,必須能夠在較寬的額定溫度范圍內(nèi)達到并保持這些性能參數(shù)。一方面要考慮到供電電壓變化對性能參數(shù)的影響,另一方面也必須考慮到CMOS工藝不穩(wěn)定所帶來的影響。
選擇適當?shù)慕邮掌骱桶l(fā)射器結(jié)構(gòu)
E-GOLDradio發(fā)射器部分主要包括一個用于發(fā)射調(diào)制的sigma-delta PLL和一個用于接收的直接轉(zhuǎn)換器。整個結(jié)構(gòu)的選擇基于SMARTi-SD2。這款獨立射頻收發(fā)器已經(jīng)通過大批量生產(chǎn)變得很成熟,保證了整個系統(tǒng)能夠以低成本實現(xiàn),同時還保證了系統(tǒng)的耐用性如靈敏度、寄生發(fā)射性能、輸出功率等。
采用直接轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)的主要優(yōu)點之一是消除了在特定頻率偏移處存儲的非期望邊帶信號。就交叉耦合效應(yīng)來說,此類不需要的邊帶信號會與所有其它可能的寄生信號相混合,并最終導(dǎo)致整個系統(tǒng)的性能大幅度下降。理論上,外差結(jié)構(gòu)的唯一優(yōu)點就是減輕調(diào)幅干擾以及對于閃爍噪聲不那么敏感。
為了減輕從功率放大器(PA)到壓控振蕩器(VCO)的串擾,并最終降低系統(tǒng)復(fù)雜性,發(fā)射路徑基于一個受調(diào)制PLL而建立。發(fā)射結(jié)構(gòu)可以選擇采用Sigma Delta調(diào)制方法,其在載波頻率字中加入了前置補償調(diào)制,能夠為CMOS典型擴散問題實現(xiàn)最好的折衷。由于此類PLL需要大量的校準和數(shù)字過程,因此CMOS工藝具有相應(yīng)的優(yōu)勢,能夠在極小的裸片尺寸上實現(xiàn)這一邏輯。另外,在反饋環(huán)路設(shè)計中需要特別的考慮,因為系統(tǒng)需要極好的噪聲抑制能力, 所孕枰??幸恍┬W祭純刂蘋仿反?鶯???
同時,在GSM系統(tǒng)中需要達到的一個主要性能參數(shù)是接收器頻帶的噪聲要求,在低頻段20 MHz偏移時應(yīng)達到-162dBc/Hz的性能。此外,要符合接收器的靈敏度和線性度要求,也需要極好的噪聲指標。顯然,這些參數(shù)都與前端濾波器密切相關(guān)。
閃爍噪聲性能是接收器鏈路上的一個關(guān)鍵參數(shù),因為這一參數(shù)直接與總體噪聲數(shù)值的好壞有關(guān)。因此為了獲得優(yōu)異的總體系統(tǒng)性能,對解調(diào)器以及整個本地振蕩器鏈進行優(yōu)化設(shè)計非常關(guān)鍵。設(shè)計必須保證本地振蕩器開關(guān)信號工作在最佳轉(zhuǎn)換速率,并使總功耗盡可能低。
將交叉耦合的影響減至最小
為了達到E-GOLDradio所實現(xiàn)的性能,需要采用總體系統(tǒng)方法。這意味著需要考慮引起不同構(gòu)建模塊之間交叉耦合和相互影響的所有可能機制。需要仔細考慮電源設(shè)計才能保證數(shù)字部分與射頻模塊間的影響達到最小。當然,封裝以及布局對于芯片性能也有很大影響,因此需要與IC布局(如功能模塊的排列)工作密切合作,才能夠獲得最佳的總體性能。此外,還必須考慮PCB的設(shè)計。
在芯片一級,必須特別注意集成在同一裸片上的射頻和數(shù)字功能之間的交叉耦合影響。造成交叉耦合的一個根源是因為CMOS工藝本身采用了低電阻硅襯底。當然,盡管SOI對于交叉耦合效應(yīng)不那么敏感,但它比CMOS工藝昂貴得多。所謂的保護環(huán)(Guard-ring)方法是提高隔離度的另一種選擇。深槽技術(shù)也是一種可行的選擇,但代價是工藝復(fù)雜性增加。
串擾的其它來源包括電源耦合、鍵合線等帶來的感性耦合。減少耦合的對策包括良好接地、緩沖、引腳布局等。對付耦合效應(yīng)的另一種方法是仔細地進行總體頻率規(guī)劃。由于電路實現(xiàn)時的不完美以及交叉耦合效應(yīng)的存在,幾個高次諧波頻率成份會作為寄生頻率成份出現(xiàn)在所需要的單頻載波成份旁邊。這些頻率成份在發(fā)射頻譜中會非常明顯,從而影響到截止頻率。利用智能頻率轉(zhuǎn)換方法以及特殊的設(shè)計技巧等方法,可以減輕這些不需要的頻率分量。
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