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關于光通信模塊中電磁兼容結構的研究與設計

作者: 時間:2014-01-11 來源:網(wǎng)絡 收藏
ght: 24px; color: rgb(62, 62, 62); font-family: Tahoma, Arial, sans-serif; font-size: 14px; text-align: justify; ">改善前的XFP模塊電磁騷擾場強在水平方向的測試結果如圖3和表1所示:

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/227026.htm

關于光通信模塊中電磁兼容結構的研究與設計

圖3改善前水平方向測試圖

關于光通信模塊中電磁兼容結構的研究與設計

表1改善前水平方向測試數(shù)據(jù)改善后的XFP模塊電磁騷擾場強在水平方向的測試結果如圖4和表2所示:

關于光通信模塊中電磁兼容結構的研究與設計

圖4 改善后水平方向測試圖

關于光通信模塊中電磁兼容結構的研究與設計

表2改善后水平方向測試數(shù)據(jù)

由以上測試數(shù)據(jù)可見,改善后的電磁騷擾場強最大峰值下降了近2dBμV/m,平均值下降了近6dBμV/m。

4 結束語

在光收發(fā)合一模塊的結構設計中,必須要將電磁屏蔽設計作為重點考慮的內(nèi)容。具體展開屏蔽設計時,應先確定騷擾源的特征,再選擇合適的屏蔽材料,然后結合適當?shù)钠帘畏绞揭郧筮_到最佳的屏蔽效果。通過樣品的測試結果表明,模塊的電磁兼容性能得到了很大的改善,且模塊各項工作性能指標沒有受到任何影響。


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