TI計劃于 2005 年第一季度推出采用創(chuàng)新型 65nm半導(dǎo)體工藝技術(shù)的樣片

德州儀器 (TI)近期宣布了 65nm半導(dǎo)體制造工藝技術(shù)的詳細(xì)信息。與90nm技術(shù)相比，采用該技術(shù)可將晶體管體積縮小一半，性能提高 40%。該公司目前已經(jīng)有 4 MB SRAM 內(nèi)存測試陣列投入正常使用，并計劃于 2005 年第一季度推出采用新工藝技術(shù)構(gòu)建的無線產(chǎn)品樣片。www.ti.com