打破技術(shù)壁壘 加快ITO靶材產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程

　　自主開發(fā)ITO靶材意義重大

　　目前工業(yè)ITO靶材都是以ITO粉末為原料經(jīng)高溫?zé)Y(jié)而成，其燒結(jié)成型方法主要有3種：熱壓法HP、冷等靜壓法CIP、高溫氣氛燒結(jié)法MMP。

　　國(guó)內(nèi)目前ITO靶材的生產(chǎn)，多采用高成本的熱等靜壓工藝。該技術(shù)工藝生產(chǎn)的靶材，一旦產(chǎn)品規(guī)格超過200mm×200mm，就會(huì)出現(xiàn)斷裂、密度低等問題，而且在使用過程中，經(jīng)常出現(xiàn)靶材中毒現(xiàn)象。這也是我國(guó)靶材行業(yè)落后于先進(jìn)國(guó)家的主要原因之一。

　　自主開發(fā)生產(chǎn)ITO靶材對(duì)于促進(jìn)我國(guó)平板顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展意義重大，主要表現(xiàn)在以下幾方面：

　　第一，打破技術(shù)壁壘，讓高端靶材不再依賴進(jìn)口。國(guó)外對(duì)ITO靶材生產(chǎn)技術(shù)進(jìn)行嚴(yán)密封鎖使我國(guó)對(duì)這一關(guān)鍵的信息功能材料的制造技術(shù)嚴(yán)重滯后，致使ITO靶材不得不長(zhǎng)期依賴進(jìn)口，嚴(yán)重阻礙了我國(guó)信息產(chǎn)業(yè)鏈的建立，限制了我國(guó)信息產(chǎn)業(yè)向高端發(fā)展。因此，必須優(yōu)先發(fā)展具有我國(guó)自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的ITO靶材制備技術(shù)，加快ITO產(chǎn)業(yè)化建設(shè)，促進(jìn)高端ITO靶材國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。

　　第二，有利于資源保護(hù)，提高銦產(chǎn)品高附加值。突破限制我國(guó)平板顯示器產(chǎn)業(yè)鏈健康發(fā)展的瓶頸制約，對(duì)提高我國(guó)信息產(chǎn)業(yè)的核心競(jìng)爭(zhēng)力，開發(fā)對(duì)稀缺金屬原材料的深加工具有重大的戰(zhàn)略意義和深遠(yuǎn)歷史意義。

　　第三，填補(bǔ)我國(guó)ITO靶材在中、高端平板顯示器制造領(lǐng)域應(yīng)用的空白。

　　第四，有利于ITO靶材平板生產(chǎn)工藝研究開發(fā)與人才培養(yǎng)。

　　第五，有利于提高國(guó)內(nèi)ITO靶材原料加工、鍍膜等整體技術(shù)水平。

　　目前全球信息產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，我們應(yīng)抓住ITO材料市場(chǎng)需求猛增的大好時(shí)機(jī)，加速ITO靶材的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程，打破發(fā)達(dá)國(guó)家設(shè)置的技術(shù)壁壘，促進(jìn)ITO靶材國(guó)產(chǎn)化，改變目前ITO靶材主要依賴進(jìn)口的現(xiàn)狀，實(shí)現(xiàn)我國(guó)成為光電產(chǎn)業(yè)領(lǐng)先國(guó)家的目標(biāo)。