- 柵極氧化層可靠性是SiC器件應用的一個關注點。本節(jié)介紹SiC柵極絕緣層加工工藝,重點介紹其與Si的不同之處。SiC可以通過與Si類似的熱氧化過程,在晶圓表面形成優(yōu)質的SiO2絕緣膜。這在制造SiC器件方面具有非常大的優(yōu)勢。在平面柵SiC MOSFET中,這種熱氧化形成的SiO2通常被用作柵極絕緣膜,并已實現產品化。然而,SiC的熱氧化與Si的熱氧化存在一些差異,在將熱氧化工藝應用于SiC器件時必須考慮到這一點。首先,與Si相比,SiC的熱氧化速率低。因此,該過程需要很長時間,而且還需要高溫。在SiC的熱氧
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三菱電機 SiC 柵極絕緣層
- 離子注入是SiC器件制造的重要工藝之一。通過離子注入,可以實現對n型區(qū)域和p型區(qū)域導電性控制。本文簡要介紹離子注入工藝及其注意事項。SiC的雜質原子擴散系數非常小,因此無法利用熱擴散工藝制造施主和受主等摻雜原子的器件結構(形成pn結)。因此,SiC器件的制造采用了基于離子注入工藝的摻雜技術:在SiC中進行離子注入時,對于n型區(qū)域通常使用氮(N)或磷(P),這是容易低電阻化的施主元素,而對于p型區(qū)域則通常使用鋁(Al)作為受主元素。另外,用于Al離子注入的原料通常是固體,要穩(wěn)定地進行高濃度的Al離子注入,需
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三菱電機 SiC
- 摘要本文介紹了為工業(yè)應用設計的第8代1800A/1200V IGBT功率模塊,該功率模塊采用了先進的第8代IGBT和二極管。與傳統(tǒng)功率模塊相比,該模塊采用了分段式柵極溝槽(SDA)結構,并通過可以控制載流子的等離子體層(CPL)結構減少芯片厚度,從而顯著的降低了功率損耗。特別是,在開通dv/dt與傳統(tǒng)模塊相同的情況下,SDA結構可將Eon降低約60%,通過大幅降低功率損耗,模塊可以提高功率密度。通過采用這些技術并擴大芯片面積,第8代1200V IGBT功率模塊在相同的三菱電機LV100封裝中實現了1800
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三菱電機 IGBT
- 與Si材料相比,SiC半導體材料在物理特性上優(yōu)勢明顯,比如擊穿電場強度高、耐高溫、熱傳導性好等,使其適合于制造高耐壓、低損耗功率器件。本篇章帶你詳細了解SiC材料的物理特性。SiC作為半導體功率器件材料,具有許多優(yōu)異的特性。4H-SiC與Si、GaN的物理特性對比見表1。與Si相比,4H-SiC擁有10倍的擊穿電場強度,可實現高耐壓。與另一種寬禁帶半導體GaN相比,物理特性相似,但在p型器件導通控制和熱氧化工藝形成柵極氧化膜方面存在較大差異,4H-SiC在多用途功率MOS晶體管的制備方面具有優(yōu)勢。此外,由
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三菱電機 SiC
- 三菱電機從事SiC器件開發(fā)和應用研究已有近30年的歷史,從基礎研究、應用研究到批量商業(yè)化,從2英寸、4英寸晶圓到6英寸晶圓,三菱電機一直致力于開發(fā)和應用高性能、高可靠性且高性價比的SiC器件,本篇章帶你了解三菱電機SiC器件發(fā)展史。三菱電機從上世紀90年代已經開始啟動SiC相關的研發(fā)工作。最初階段,SiC晶體的品質并不理想,適合SiC的器件結構和制造工藝仍處于探索階段,但研發(fā)人員堅信SiC MOSFET是能夠最大限度發(fā)揮SiC材料優(yōu)異物理性能的器件,因此一直致力于相關研發(fā)。三菱電機于2003年開發(fā)出耐壓2
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三菱電機 SiC器件
- 11月,日本三菱電機、安世半導體(Nexperia)宣布,將聯合開發(fā)高效的碳化硅(SiC)MOSFET分立產品功率半導體。雙方將聯手開發(fā),將促進SiC寬禁帶半導體的能效和性能提升至新高度,同時滿足對高效分立式功率半導體快速增長的需求。目前芯片供應量尚未確認,預計最早將于2023年內開始供應。公開消息顯示,安世半導體總部位于荷蘭,目前是中國聞泰科技的子公司。11月初,安世半導體被迫轉手出售其于2021年收購的英國NWF晶圓廠。盡管同屬功率半導體公司,三菱電機與安世半導體的側重點不同,前者以“多個離散元件組合
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三菱電機 安世 SiC 功率半導體
- Nexperia近日宣布與三菱電機公司建立戰(zhàn)略合作伙伴關系,共同開發(fā)碳化硅(SiC) MOSFET分立產品。Nexperia和三菱電機都是各自行業(yè)領域的領軍企業(yè),雙方聯手開發(fā),將促進SiC寬禁帶半導體的能效和性能提升至新高度,同時滿足對高效分立式功率半導體快速增長的需求。三菱電機的功率半導體產品有助于客戶在汽車、家用電器、工業(yè)設備和牽引電機等眾多領域實現大幅節(jié)能。該公司提供的高性能SiC模塊產品性能可靠,在業(yè)界享有盛譽。日本備受贊譽的高速新干線列車采用了這些模塊,并以出色的效率、安全性和可靠性聞名遐邇。N
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Nexperia 三菱電機 SiC MOSFET
- 三菱電機將與Nexperia(安世)合力開發(fā)SiC芯片,通過SiC功率模塊來積累相關技術經驗。東京--(美國商業(yè)資訊)--三菱電機株式會社(Mitsubishi Electric Corporation,TOKYO: 6503)今天宣布,將與Nexperia B.V.建立戰(zhàn)略合作伙伴關系,共同開發(fā)面向電力電子市場的碳化硅(SiC)功率半導體。三菱電機將利用其寬帶隙半導體技術開發(fā)并提供SiC MOSFET芯片,Nexperia將使用這些芯片開發(fā)SiC分離器件。電動汽車市場正在全球范圍內擴大,并有助于推動Si
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三菱電機 安世 SiC
- Denso和三菱電機宣布將分別投資5億美元,入股Coherent的碳化硅(SiC)業(yè)務子公司。據外媒,日本電裝株式會社(Denso)和三菱電機宣布,將分別投資5億美元,入股美國半導體材料、網絡及激光供應商Coherent的碳化硅(SiC)業(yè)務子公司Silicon Carbide,并分別取得12.5%股權(兩家日企合計取得25%股權)。據悉,Silicon Carbide主要從事SiC晶圓等產品的制造,是于2023年4月從Coherent公司分拆出來設立的SiC業(yè)務子公司。Denso與三菱電機將向該公司采購
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三菱電機 Denso 碳化硅
- 近日,美國激光技術與加工系統(tǒng)供應商Coherent和三菱電機宣布,雙方已簽署一份諒解備忘錄 (MOU)并達成項目合作,將在200毫米技術平臺上擴大SiC電力電子產品的規(guī)模化生產。三菱電機宣布在截至2026年3月的五年內投資約2600億日元。其中,大約1000億日元將用于建設基于200mm技術平臺的SiC功率器件新工廠,并加強相關生產設備。根據諒解備忘錄,Coherent將為三菱電機未來在新工廠生產的SiC功率器件開發(fā)200毫米n型4H SiC襯底。資料顯示,Coherent于1966年成立于美國加利福尼亞
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三菱電機 Coherent 8英寸 SiC襯底
- 1800億只,是寧波康強電子股份有限公司沖壓引線框架的年產能。從1992年開始,康強電子深耕半導體封裝材料領域,以技術創(chuàng)新為驅動,穿越行業(yè)周期,不斷發(fā)展壯大。其三大業(yè)務領域引線框架、鍵合絲與電極絲均為國內翹楚,其中引線框架產銷量在國內同行中連續(xù)數年排名第一,全球市場占有率位居前七,榮獲“中國半導體材料十強企業(yè)”“中國電子材料50強企業(yè)”等榮譽稱號。2022年10月,國家級第四批專精特新“小巨人”企業(yè)的認定,不僅堅定了康強電子在這一細分領域的發(fā)展信心,更為三菱電機謀劃未來打開了新的機遇之窗。客戶痛點:精益求
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三菱電機 專精特新
- 三菱電機集團近日宣布,其新型SLIMDIP-Z功率半導體模塊將于2023年2月發(fā)布,該模塊具有30A的高額定電流,主要應用于家用電器逆變器系統(tǒng)。該緊湊型模塊將使SLIMDIP?系列能夠滿足逆變器單元更廣泛的功率和尺寸需求,有助于簡化和縮小空調、洗衣機和冰箱等多功能和復雜產品的體積。30A的高額定電流將助力簡化和縮小家電應用中的逆變器系統(tǒng)三菱電機集團近日宣布,其新型SLIMDIP-Z功率半導體模塊將于2023年2月發(fā)布,該模塊具有30A的高額定電流,主要應用于家用電器逆變器系統(tǒng)。該緊湊型模塊將使SLIMDI
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三菱電機 功率半導體模塊
- 據三菱電機官網消息,該公司決定退出液晶面板生產,其全資子公司Melco Display Technology Inc。(MDTI) 將于2022年6月結束TFT-LCD模組生產。圖源:鉅亨網 官網顯示,MDTI于2002年4月成立,公司預定以法人身份進行清算,在該公司工作的約 430 名員工,也將異動至動力半導體等部門。不過該公司位于日本熊本縣菊池市的工廠,目前還尚未決定如何處置?! ぃ怆姍C的LCD業(yè)務目前主要集中于工業(yè)和汽車用中小
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三菱電機 液晶面板 LCD
- 近日,據外媒報道,日本三菱電機公司宣布已開發(fā)出一種緊湊的LiDAR(激光雷達)解決方案,據稱,該解決方案集成了微機電系統(tǒng)(MEMS),實現了超寬的水平掃描角度,可以準確探測自動駕駛系統(tǒng)前方物體的形狀和距離。
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