半導(dǎo)體線寬檢測(cè) 文章 進(jìn)入半導(dǎo)體線寬檢測(cè)技術(shù)社區(qū)

中國(guó)科大主導(dǎo)制定半導(dǎo)體線寬檢測(cè)的首個(gè)ISO國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)

• 近日,國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織(ISO)正式發(fā)布了微束分析領(lǐng)域中的一項(xiàng)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn):“基于測(cè)長(zhǎng)掃描電鏡的關(guān)鍵尺寸評(píng)測(cè)方法”(Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM (ISO 21466)),該標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)物理學(xué)院和微尺度物質(zhì)科學(xué)國(guó)家研究中心的丁澤軍團(tuán)隊(duì)主導(dǎo)制定,是半導(dǎo)體線寬測(cè)量方面的首個(gè)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),也是半導(dǎo)體檢測(cè)領(lǐng)域由中國(guó)主導(dǎo)制定的首個(gè)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),
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