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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 雙重成像

條狀過孔成大勢所趨

  • 對于28納米及以下節(jié)點，各種新的設計要求使工程師不得不調整傳統(tǒng)的數(shù)字電路板圖設計和驗證流程。尤其值得一提的是，過孔的使用受到了很大的影響。新的過孔類型已推出，雙重成像（double patterning）、FinFETS 和其它新的設計技巧的加入不僅使過孔的使用顯著增多
  • 關鍵字： 條狀過孔  雙重成像  FinFETS  矩形過孔  布局布線  
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雙重成像介紹

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