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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 成膜裝置

AMAT發(fā)布第3代low-k膜專用裝置

  • 　　美國(guó)應(yīng)用材料(AMAT)發(fā)布了可形成適用于22nm～14nm邏輯IC的低介電率(low-k)層間絕緣膜的兩款制造裝置。分別是成膜裝置“Producer Black Diamond 3”和紫外線(UV)固化裝置“Producer Nanocure 3”。
  • 關(guān)鍵字： AMAT  固化裝置  成膜裝置  
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成膜裝置介紹

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