深紫外光刻機(jī) 文章 進(jìn)入深紫外光刻機(jī)技術(shù)社區(qū)

美國(guó)發(fā)起的對(duì)華聯(lián)合出口限制留下漏洞？

• 據(jù)報(bào)道，荷蘭和日本已與美國(guó)達(dá)成協(xié)議，共同限制向中國(guó)出口芯片制造工具，這將進(jìn)一步削弱中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，因?yàn)槌讼拗浦袊?guó)制造商使用 EUV 光刻機(jī)外，進(jìn)一步限制其使用浸沒(méi)式 DUV 光刻機(jī)。但在美國(guó)對(duì)中國(guó)發(fā)起的嚴(yán)格出口限制中，中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)是否可以利用任何關(guān)鍵漏洞來(lái)緩沖沖擊？這似乎是一個(gè)值得仔細(xì)研究的問(wèn)題。近年來(lái)，美國(guó)加大了對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設(shè)計(jì)了各種策略和行動(dòng)，還動(dòng)員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對(duì)向中國(guó)出口先進(jìn)芯片制造工具和技術(shù)實(shí)施全面出口限制后，美國(guó)急于讓擁有 ASML
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