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版圖數據處理 文章 進入版圖數據處理技術社區(qū)

本土EDA巨頭華大九天多種解決方案 滿足客戶定制化需求

  • 當前，芯片設計和制造的工藝節(jié)點走向納米量級，芯片功能越來越復雜，客戶定制化需求越來越多，FAB正在面臨著紛繁復雜的問題：工藝庫更新速度快定制多，工作處理的數據規(guī)模變得越來越大，IP與客戶數據融合工作越來越繁重復雜，版圖數據版本多差異小，快速出具DRC/LVS檢驗報告等。針對這些問題，華大九天提出了以下相應解決方案，這些方案貼近FAB工程
  • 關鍵字： 版圖數據處理  語法規(guī)則  芯片驗證  
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版圖數據處理介紹

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