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薄膜沉積制程
薄膜沉積制程 文章 進(jìn)入薄膜沉積制程技術(shù)社區(qū)
SAFC Hitech開(kāi)設(shè)臺(tái)灣新廠(chǎng)
- SAFC Hitech今天藉由投資數(shù)億臺(tái)幣的臺(tái)灣高雄新廠(chǎng)設(shè)施落成,來(lái)強(qiáng)調(diào)承諾開(kāi)發(fā)亞太電子市場(chǎng)。新廠(chǎng)占地270, 000 平方英尺,大幅增加了該廠(chǎng)量產(chǎn)的高亮度LED (HBLED) 所使用的高品質(zhì)三甲基鎵 (TMG) 、三乙基鎵 (TEG) 和三甲基銦 (TMI) 的產(chǎn)能。該廠(chǎng)也將繼續(xù)為硅半導(dǎo)體市場(chǎng)制造原子層沉積 (ALD) 和化學(xué)氣相沉積 (CVD) 的前驅(qū)體,并提供亞太地區(qū)分裝及技術(shù)的服務(wù)和支援。 作為微電子和光電市場(chǎng)薄膜沉積制程所使用的超高純度金屬有機(jī)物和硅前驅(qū)體的供應(yīng)商,SAFC Hite
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薄膜沉積制程介紹
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