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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 薄膜沉積制程

SAFC Hitech開設(shè)臺灣新廠

  • 　　SAFC Hitech今天藉由投資數(shù)億臺幣的臺灣高雄新廠設(shè)施落成，來強(qiáng)調(diào)承諾開發(fā)亞太電子市場。新廠占地270, 000 平方英尺，大幅增加了該廠量產(chǎn)的高亮度LED (HBLED) 所使用的高品質(zhì)三甲基鎵 (TMG) 、三乙基鎵 (TEG) 和三甲基銦 (TMI) 的產(chǎn)能。該廠也將繼續(xù)為硅半導(dǎo)體市場制造原子層沉積 (ALD) 和化學(xué)氣相沉積 (CVD) 的前驅(qū)體，并提供亞太地區(qū)分裝及技術(shù)的服務(wù)和支援。 　　作為微電子和光電市場薄膜沉積制程所使用的超高純度金屬有機(jī)物和硅前驅(qū)體的供應(yīng)商，SAFC Hite
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薄膜沉積制程介紹

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