- 5月26日,韓國媒體The Elec引用知情人士消息稱,三星電子近日在其半導體研究中心內組建了一個開發(fā)團隊,以量產4F2結構DRAM。4F2結構DRAM能夠大大提高DRAM的存儲密度,方便研究團隊克服DRAM線寬縮減的極限,增加DRAM制造的效率。報道稱,如果三星4F2 DRAM存儲單元結構研究成功,在不改變節(jié)點的情況下,與現有的6F2 DRAM存儲單元結構相比,芯片DIE面積可以減少30%左右。4F2結構是大約10年前DRAM產業(yè)未能商業(yè)化的單元結構技術,據說工藝難點頗多。不過三星認為,與SK海力士和美
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三星 4F2結構 DRAM
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