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《中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)年度報(bào)告(2020版)》發(fā)布

發(fā)布人:xinsixiang 時(shí)間:2021-04-07 來(lái)源:工程師 發(fā)布文章

為加強(qiáng)集成電路產(chǎn)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)工作,促進(jìn)我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展和國(guó)際合作,中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)工作部和上海硅知識(shí)產(chǎn)權(quán)交易中心繼續(xù)聯(lián)合編寫《中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)年度報(bào)告(2020版)》,以資會(huì)員單位和行業(yè)能夠以更快捷高效的方式獲得我國(guó)2020年度集成電路產(chǎn)業(yè)的專利公開(kāi)數(shù)量、技術(shù)分布、主要專利權(quán)人,以及布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)等情況,以資工作參考。

本報(bào)告主要以我國(guó)集成電路專利與布圖設(shè)計(jì)為主要研究對(duì)象,統(tǒng)計(jì)2020 年專利的增量(同時(shí)顯示 2019 年增量以作參考),布圖設(shè)計(jì)的總數(shù)和 2020 年增量,在專利技術(shù)分布方面將集成電路根據(jù)技術(shù)類別分成三大類(設(shè)計(jì)、制造、封測(cè))進(jìn)行分析,每類下又分成若干從類統(tǒng)計(jì)分析。

本報(bào)告重點(diǎn)關(guān)注集成電路領(lǐng)域?qū)@?2020 年年度發(fā)展?fàn)顩r、2020 年度集成電路專利技術(shù)分布、2020 年度主要權(quán)利人、國(guó)內(nèi)主要集成電路企業(yè)在中國(guó)和美國(guó)的專利累計(jì)公開(kāi)量、國(guó)內(nèi)集成電路領(lǐng)域主要上市公司在中國(guó)和美國(guó)的專利累計(jì)公開(kāi)量對(duì)比;以及布圖設(shè)計(jì)的申請(qǐng)趨勢(shì)、各省市排名情況,國(guó)內(nèi)外主要權(quán)利人的情況。

近年來(lái),本領(lǐng)域中國(guó)專利年度公開(kāi)數(shù)量開(kāi)始超過(guò)美國(guó)專利年度公開(kāi)數(shù)量。2020 年度中國(guó)專利年度公開(kāi)數(shù)量維持四萬(wàn)件以上,同比增長(zhǎng) 13.7%。

從集成電路領(lǐng)域 2020 年度中國(guó)專利整體上,83%的集成電路領(lǐng)域中國(guó)專利是中國(guó)權(quán)利人申請(qǐng),17%由國(guó)外權(quán)利人申請(qǐng),和 2019 年度相比持平。從專利的類型來(lái)看,77.7%的集成電路領(lǐng)域中國(guó)專利是發(fā)明專利,20.8%的集成電路領(lǐng)域中國(guó)專利是實(shí)用新型專利。與 2019 年度集成電路領(lǐng)域中國(guó)專利相比,2020 年中國(guó)發(fā)明專利占全年專利總量的比重略有下降。

從 2020 年當(dāng)年集成電路領(lǐng)域?qū)@夹g(shù)分布情況看,設(shè)計(jì)技術(shù)相關(guān)專利數(shù)量最多、其次是制造和封測(cè)技術(shù)。國(guó)外權(quán)利人在設(shè)計(jì)、制造及封測(cè)技術(shù)分支的專利數(shù)量占比分別達(dá) 18%、20%、8%,可見(jiàn)國(guó)外權(quán)利人對(duì)中國(guó)集成電路市場(chǎng)相當(dāng)?shù)闹匾暋?/p>

2020 年中國(guó)集成電路領(lǐng)域排名前二十的專利權(quán)人中,中國(guó)權(quán)利人共有 15 位,其中 4 位科研院所,1 位來(lái)自中國(guó)臺(tái)灣地區(qū),5 位是大陸主要的集成電路制造企業(yè)和一個(gè)電子信息龍頭企業(yè)。前二十中的國(guó)外權(quán)利人有 5 位,可見(jiàn)國(guó)外權(quán)利人在中國(guó)的專利布局的實(shí)力和地位。

專利檢索數(shù)據(jù)源、檢索方法、檢索式等均有可能造成數(shù)據(jù)結(jié)果的偏差,加之我們業(yè)務(wù)水平仍有待持續(xù)提高,敬請(qǐng)讀者批評(píng)指正以茲改進(jìn)。因此報(bào)告中不足之處,和讀者對(duì)特定領(lǐng)域和產(chǎn)品方向的專利進(jìn)一步分析,請(qǐng)郵箱聯(lián)系:ipmap@ssipex.com。

本報(bào)告是公益性質(zhì)的研究,版權(quán)歸屬上海硅知識(shí)產(chǎn)權(quán)交易中心有限公司(SSIPEX)。如需對(duì)特定領(lǐng)域的分析如第三方和讀者進(jìn)行非商業(yè)用途研究時(shí)引用,請(qǐng)加注資料出處。

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