靜電測(cè)試模型與標(biāo)準(zhǔn)
導(dǎo)語:
電子產(chǎn)品的靜電失效來源于生產(chǎn)、裝配、封裝、運(yùn)輸、組裝和測(cè)試各個(gè)環(huán)節(jié)。為了模擬電子產(chǎn)品在不同環(huán)境中的不同放電方式,以期完整地評(píng)估電子產(chǎn)品對(duì)靜電放電的敏感度,國內(nèi)外各大組織機(jī)構(gòu)已構(gòu)建了相應(yīng)的靜電放電模式和測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)。
正文:
因靜電放電產(chǎn)生原因和對(duì)集成電路等電子產(chǎn)品破壞方式的不同,國內(nèi)外已形成一套靜電放電測(cè)試標(biāo)準(zhǔn),其目的是建立可重復(fù)的測(cè)試方法來提供可靠且準(zhǔn)確的結(jié)果,判別芯片對(duì)靜電放電的敏感等級(jí),并可用來重現(xiàn)靜電放電造成的故障。靜電測(cè)試可以分為產(chǎn)品通過型測(cè)試和樣品研究型測(cè)試兩類。
1、產(chǎn)品通過型測(cè)試
產(chǎn)品通過型測(cè)試包括人體模型(Human Body Model, HBM)、機(jī)器模型(Machine Model, MM)、元件充電模型(Charged Device Model, CDM)等器件級(jí)測(cè)試,IEC國際電工委員會(huì)IEC 61000-4-2標(biāo)準(zhǔn)定義的接觸放電和空氣放電系統(tǒng)級(jí)測(cè)試。器件級(jí)HBM、MM、CDM測(cè)試的目的都是保證IC在制造過程中不受損壞,而IEC 61000-4-2規(guī)定的系統(tǒng)級(jí)測(cè)試則用于模擬現(xiàn)實(shí)世界中的終端用戶ESD事件,衡量終端用戶電子產(chǎn)品的ESD性能。
(1)人體模型
HBM ESD事件描述的放電過程為:人體在地上走動(dòng)摩擦積累靜電,當(dāng)人直接接觸到接地的器件,人體靜電傳遞到器件放電到地。該過程可以被仿真為從一個(gè)預(yù)充電的電容CESD通過RESD放電到測(cè)試器件DUT的過程,CESD=100pF,RESD=1.5kΩ。
圖1 人體模型放電等效電路和放電波形圖
(2)機(jī)器模型
MM ESD事件描述的放電過程為:積累靜電的金屬機(jī)器接觸到接地的電子元器件,器件放電到地。該過程放電過程寄生電阻幾乎為零,ESD峰值電流高于HBM ESD事件,等效電路中的CESD≈200pF,RESD≈0 Ω。
圖2 機(jī)器放電等效電路和放電波形圖
(3)元件充電模型
CDM ESD事件描述的放電過程為:IC元器件內(nèi)部因摩擦等原因積累靜電,此IC在各種操作過程中接觸到地面時(shí),靜電荷泄放到地。CDM放電時(shí)間約幾毫秒,放電電流高達(dá)幾十安培。其等效電路中的CESD≈6.8pF,RESD≈1Ω。
圖3 元件充電模型放電等效電路和放電波形圖
(4)IEC模型
系統(tǒng)級(jí)ESD測(cè)試的目的是模擬用戶在使用產(chǎn)品過程中的ESD放電是否會(huì)影響產(chǎn)品的功能和性能。接觸放電測(cè)試是IEC標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試的首選方法,當(dāng)ESD測(cè)試槍無法直接接觸被測(cè)器件或被測(cè)系統(tǒng)時(shí),可采用空氣放電測(cè)試。IEC模式的放電等效電路與HBM類似,只是CESD=150pF,RESD=330Ω,ESD脈沖上升時(shí)間極短(0.7~1ns),峰值電流遠(yuǎn)高于HBM ESD事件。
圖4 IEC模型放電等效電路和放電波形圖
2、樣品研究型測(cè)試
雖然產(chǎn)品通過型測(cè)試可以獲得ESD防護(hù)器件的失效閾值,但是不能給出幫助分析ESD防護(hù)器件失效原理的詳細(xì)數(shù)據(jù)。ESD防護(hù)器件設(shè)計(jì)的關(guān)鍵是對(duì)其失效原理的正確分析,傳輸線脈沖(Transmission Line Pulse,TLP)測(cè)試技術(shù)可以獲得器件的關(guān)鍵性能參數(shù),包括ESD器件的觸發(fā)點(diǎn)、維持點(diǎn)和失效點(diǎn)的電流、電壓,以便在生產(chǎn)制造過程中調(diào)整相關(guān)設(shè)計(jì),從根本上提高產(chǎn)品的ESD防護(hù)能力,保證良率。同時(shí),由于直流特性在大電流時(shí)有嚴(yán)重的自熱效應(yīng),并不能表征ESD事情發(fā)生時(shí)的瞬態(tài)特性,所以TLP測(cè)試就變得十分必要了。TLP測(cè)試就是研究型測(cè)試,與直流IV測(cè)試相比它屬于準(zhǔn)靜態(tài)測(cè)試,其測(cè)試原理如圖5所示。
圖5 TLP測(cè)試系統(tǒng)生成的脈沖方波示意圖和典型TLP測(cè)試曲線
3、測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)
針對(duì)上述各類測(cè)試模型,各大組織機(jī)構(gòu)都提出了各自的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn),標(biāo)準(zhǔn)列于表1供大家查閱參考。
表1 測(cè)試模型與標(biāo)準(zhǔn)
模型 | 標(biāo)準(zhǔn) |
HBM | 美國軍標(biāo)883:MIL-STD-883H Method 3015.7 電子工業(yè)協(xié)會(huì):JEDEC EIA/JESD22-A114-F |
MM | 美國靜電協(xié)會(huì):ESDA STM5.2-2012 電子工業(yè)協(xié)會(huì):JEDEC EIA/JESD22-A115C-2010 |
CDM | 美國靜電協(xié)會(huì):ESD S5.3.1-2009 電子工業(yè)協(xié)會(huì):JEDEC EIA/JESD22-C101E -2009 |
TLP | 美國國家標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì):ANSI ESD STM5.5.1-2008 |
System Level測(cè)試模型 | 國際電工委員會(huì):IEC 61000-4-2 |
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