AIXTRON推出新款MOCVD設(shè)備AIX G5 HT
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時(shí)間：2010-03-02
來(lái)源：電子產(chǎn)品世界
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德國(guó)LED設(shè)備大廠AIXTRON AG指出，新一代MOCVD Platform AIX G5 HT系統(tǒng)已達(dá)成生產(chǎn)力目標(biāo)。
本文引用地址：http://m.butianyuan.cn/article/106411.htm據(jù)悉，新系統(tǒng)在600 mbar以上的高壓下能以極高的速率完成高質(zhì)量的氮化鎵沉淀，產(chǎn)量超過(guò)前一代系統(tǒng)的1倍，氮化鎵/氮化銦鎵也有優(yōu)異的均一性。在無(wú)反應(yīng)爐烘培或替換任何零件的情況下，上述晶膜的生成在臺(tái)灣晶電廠區(qū)連續(xù)進(jìn)行。目前，此MOCVD反應(yīng)爐正要轉(zhuǎn)換至量產(chǎn)階段。
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