GlobalFoundries宣布開發(fā)20nm工藝 與22nm共存

　　GlobalFoundries近日宣布將會開發(fā)20nm半導體制造工藝，但與臺積電不同，新工藝將與 22nm共存，而且GF認為這種半代工藝并不會消失。

　　臺積電不久前剛剛宣布，將跳過22nm工藝，改而直接上馬更先進的20nm工藝，采用增強型高K金屬柵極(HKMG)、應變硅、低電阻銅超低K互聯(lián)等技術(shù)，可帶來更高的柵極密度和芯片性能。在此之前，臺積電和GF還先后宣布將跳過32nm Bulk工藝，從40nm直奔28nm。

　　GF目前的業(yè)務主要有兩種，一是繼續(xù)為AMD制造微處理器，二是開拓新的代工業(yè)務，為其他芯片廠商代工更簡單一些的各類芯片，這就需要新的制造工藝，特別是半代工藝。

　　GF公關(guān)總監(jiān)Jon Carvill表示：“我們在同時投資于22nm和20nm工藝。半代工藝的需求肯定會不斷增長，同時也有微處理器業(yè)務等大規(guī)模市場需要全代工藝。”

　　他同時指出：“現(xiàn)在談論從28nm轉(zhuǎn)向22/20nm工藝所能獲得的確切性能和能效還為時過早。隨著(晶體管)幾何尺寸的變小，工藝進步的幅度也同樣如此，但這并不意味著(新工藝)沒有此前工藝世代的好處或者更簡單。”

　　Jon Carvill還強調(diào)說：“在市場上保持半導體工藝的領(lǐng)先需要面臨成本和復雜性兩方面的挑戰(zhàn)。開發(fā)新的領(lǐng)先工藝會耗資數(shù)十億美元，建設新工廠也要花費40 多億美元(Fab 2)。這些巨額開銷會讓很多企業(yè)望而卻步，可能會帶來更多合并，以及更多企業(yè)放棄自家生產(chǎn)的模式。”