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下一代的MOCVD技術(shù)的趨勢是什么?

—— 半導(dǎo)體照明市場將會保持年增長率31%的速度
作者: 時間:2010-10-21 來源:中國IC網(wǎng) 收藏

  今年,中國企業(yè)在上游芯片領(lǐng)域動作層出不窮,紛紛啟動了建廠、擴廠計劃。據(jù)悉,中國購買的訂單已經(jīng)排到三年之后。業(yè)內(nèi)專家認(rèn)為,隨著未來大量的投產(chǎn),芯片價格會下降,這對產(chǎn)業(yè)是利好消息,但是哪個企業(yè)最終搶占商機,人才是最關(guān)鍵的因素。買來的質(zhì)量如何?型號是否先進?下一代的MOCVD技術(shù)的趨勢是什么?這些都是企業(yè)應(yīng)該思考的問題,也能從Michael Heuken的報告中得到很多啟示。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/113781.htm

  Michael Heuken首先對未來的半導(dǎo)體照明市場進行了預(yù)測,他認(rèn)為從2009年到2014年,半導(dǎo)體照明市場將會保持年增長率31%的速度,這將大大推動半導(dǎo)體照明技術(shù)的發(fā)展。大尺寸襯底是未來發(fā)展趨勢,因為它符合價格降低、提高產(chǎn)能、高程度自動化及最大程度利用硅襯底的需求。目前2英寸和4英寸還是市場主流,但是有些公司已經(jīng)開始考慮6英寸,甚至開始著手做8英寸的設(shè)計。據(jù)Michael Heuken介紹,AixtrON公司的Crius 200mm/300mm MOCVD系統(tǒng)能夠在大尺寸的襯底上外延,并保持良好的厚度和波長均勻性。

  Michael Heuken認(rèn)為溫度管理非常重要,他說,“對外延技術(shù)而言有三個非常關(guān)鍵的指標(biāo),第一個是溫度,第二個是溫度,第三個還是溫度”,溫度管理可以幫助加強統(tǒng)一性,也可以對比較大直徑的晶片做更好的控制。

  未來可能和技術(shù)融合的技術(shù)包括Si基技術(shù)和GaN量子線技術(shù)。

  此外,Michael Heuken還介紹了Aixtron新開發(fā)的G5 HT設(shè)備,它能夠滿足56x2 inch / 14x4 inch / 8x6 inch / 5x8 inch的外延需求。G5 HT在600 mbar以上的高壓下能以極高的速率完成高質(zhì)量的氮化鎵沉淀,相比G4 HT產(chǎn)能可提升33%。



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