利用低門限電壓延長(zhǎng)電池壽命
在通常的FET結(jié)構(gòu)中,L和W是由器件的幾何尺寸確定的,而溝道厚度T是兩個(gè)耗盡層之間的距離。耗盡層的位置會(huì)隨柵源偏置電壓或漏源電壓而變。耗盡層的位置會(huì)隨柵源偏置電壓或漏源電壓而變。當(dāng)T在VGS和VDS的影響下減小到零時(shí),兩個(gè)對(duì)邊的耗盡層就會(huì)連在一起,增加的溝道電阻(rDS(on))會(huì)接近無窮大。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/117036.htm圖1是rDS(on)與VGS特性的關(guān)系曲線。區(qū)域1對(duì)應(yīng)的是累積電荷不足以產(chǎn)生反向的情況。區(qū)域2對(duì)應(yīng)的條件是有足夠的電荷,使P區(qū)的一部分反向并形成溝道,但這還不夠,因?yàn)?ldquo;空間電荷”效應(yīng)也是很重要的。區(qū)域3對(duì)應(yīng)的是電荷有限的情況,當(dāng)柵體電勢(shì)升高時(shí),rDS(on)沒有明顯變化。
閾值電壓(VGS(th))是用來描述需要多大電壓來使溝道導(dǎo)通的參數(shù)。VGS控制著飽和電流ID的大小,VGS增加會(huì)使常量ID變小,因此需要更小的VDS來達(dá)到曲線的拐點(diǎn)(圖2所示)。
可以通過采用低閾值電壓的晶體管來實(shí)現(xiàn)高速性能和低功耗工作。在信號(hào)路徑上使用低閾值功率MOSFET,可以降低供電電壓(VDD),從而在不影響性能的前提下減少開關(guān)功率耗散。這就是為什么,為滿足用戶在降低功耗、延長(zhǎng)電池壽命方面與日俱增的需求,許多用于便攜式電子系統(tǒng)的ASIC采用1.5V左右的內(nèi)核電壓進(jìn)行工作。然而直到現(xiàn)在,由于缺少能在這樣低的電壓下導(dǎo)通的功率MSOFET,設(shè)計(jì)者如果不使用電平轉(zhuǎn)換電路,就難以發(fā)揮低于1.8V的電壓在降低功耗上的好處,而使用電平轉(zhuǎn)換電路會(huì)使電路變得更復(fù)雜,同時(shí)也會(huì)增加功耗。Vishay Siliconix在業(yè)界率先推出了一系列突破性的功率MOSFET,能保證在1.5V電壓下導(dǎo)通,從而解決了這個(gè)難題。
從以往的經(jīng)驗(yàn)來看,我們需要一個(gè)不低于1.8V的閾值電壓對(duì)所有功率MSOFE中閾值點(diǎn)的負(fù)溫度系數(shù)進(jìn)行補(bǔ)償。如果器件工作在125℃的溫度下(這在便攜式應(yīng)用是很可能出現(xiàn)的情況),現(xiàn)有的MOSFET設(shè)計(jì)不得不提高M(jìn)OSFET的閾值電壓,防止MOSFET發(fā)生自導(dǎo)通,因?yàn)榧幢闼┘拥腣GS為0V,低閾值電壓的MOSFET也可能發(fā)生自導(dǎo)通。
尤其是便攜式設(shè)備和手機(jī)對(duì)多媒體功能的要求是永無止境的。設(shè)計(jì)者要盡力提供更強(qiáng)的數(shù)據(jù)處理能力,同時(shí)盡量滿足下一代便攜式設(shè)備的特殊電源需求。不過毫無疑問的一點(diǎn)是,采用先進(jìn)硅片工藝和封裝技術(shù)的功率MOSFET將能夠提供設(shè)計(jì)者所期望的電源效率、超小尺寸和低成本,把這些多媒體手機(jī)由設(shè)想變?yōu)楝F(xiàn)實(shí)。
評(píng)論