上海華力微電子采用明導(dǎo)國(guó)際Calibre? RET和OPC計(jì)算光刻平臺(tái)

　　明導(dǎo)國(guó)際(納斯達(dá)克代碼：MENT)今日宣布，由中國(guó)政府、上海聯(lián)創(chuàng)投資管理有限公司、上海華虹(集團(tuán))有限公司、上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司以及上海華虹NEC電子有限公司等合資成立的晶圓代工企業(yè)上海華力微電子有限公司采用了Calibre® RET 和OPC計(jì)算光刻平臺(tái)，以支持其65、55和45nm工藝的開發(fā)和生產(chǎn)。Mentor® Calibre nmOPC與Calibre OPCverify™產(chǎn)品是根據(jù)綜合技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)比選用的，Calibre方案被證明具有更高的精確度，更好的易用性,更低的擁有成本，以及更好的整體支持能力。

　　華力生產(chǎn)副廠長(zhǎng)郭明升(Ming-Sheng Guo)表示：“作為一家新成立的晶圓代工企業(yè)，華力在制定可以投入生產(chǎn)的RET和OPC方案時(shí)面臨著陡峭的學(xué)習(xí)曲線和嚴(yán)峻的時(shí)間限制。明導(dǎo)國(guó)際憑借其對(duì)華力技術(shù)交付及技術(shù)支持方面的堅(jiān)定承諾脫穎而出。我們之所以選擇明導(dǎo)國(guó)際作為獨(dú)家合作伙伴，在于它能夠滿足我們極具挑戰(zhàn)性的技術(shù)、時(shí)間和成本要求。我們相信該合作關(guān)系對(duì)建立在當(dāng)今代工市場(chǎng)領(lǐng)域中具備競(jìng)爭(zhēng)力的后GDSII流片流程至關(guān)重要。”

　　明導(dǎo)國(guó)際公司“從設(shè)計(jì)到晶片”事業(yè)部副總裁兼總經(jīng)理Joseph Sawicki說(shuō)：“最先進(jìn)的技術(shù)和幫助客戶取得成功的不懈努力，使明導(dǎo)國(guó)際在集成電路制造領(lǐng)域具備優(yōu)勢(shì)。Calibre OPC / RET / MDP是業(yè)內(nèi)最常用的生產(chǎn)應(yīng)用軟件平臺(tái)，該平臺(tái)使華力擁有了完整的光掩膜數(shù)據(jù)準(zhǔn)備流程，并能在統(tǒng)一平臺(tái)及一致的環(huán)境中進(jìn)行OPC的研發(fā)和量產(chǎn)。”