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25G高速無源通道的設計挑戰(zhàn)

作者: 時間:2011-08-16 來源:網(wǎng)絡 收藏
圖2:CEI-25 LR鏈路示意圖。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/155904.htm

  

圖3:興森快捷高速實驗室25Gbps眼圖實測:分別對應于發(fā)射端、一半通道長度以及接收端測得的眼圖。(電子系統(tǒng)設計)

  圖3:興森快捷實驗室bps眼圖實測:分別對應于發(fā)射端、一半長度以及接收端測得的眼圖。

  一旦選定了連接器,其本身的插損也就被確定下來。大多數(shù)背板連接器都采用壓接方式,所以者唯一要做的就是盡可能地優(yōu)化過孔,將過孔的插損減到最小。由于連接器廠商一般會推薦連接器的布局(layout)方式,者能做的就是將過孔的分支(stub)減至最小,常見的方法有背鉆。除此之外,在實際的板級設計中,經(jīng)常會遇到表面微帶線轉換到帶狀線的做法,針對這種狀況要找出最優(yōu)的過孔實在不易。因為過孔在率下的模型非常復雜,而影響過孔的主要因素有孔徑、孔深、反焊盤和過孔鍍銅厚度。通常使用仿真軟件仿真不同過孔的S參數(shù),從而找出最優(yōu)的過孔。另外,過孔性能與頻率相關。在不同的上升沿下,過孔所表現(xiàn)的性能并不一樣,這時需要設計者對其做出一定的權衡和取舍。事實上,仿真和實測結果之間一般存在著誤差,并且有時誤差會相當大,這一差異產(chǎn)生的原因是由于實際制造工藝并不能像仿真時那樣理想,在信號速率越高時越是如此。

  不斷的仿真和測試可以幫助設計者找出最優(yōu)的過孔(圖4)。興森快捷公司在CPCA期間展示的100G以太網(wǎng)板,就是經(jīng)過兩版仿真和實測驗證才找出的適合單28G速率的信號過孔。如果放在以前,在28G速率時竟然還能打孔設計,這幾乎是天方夜譚。很多公司的設計規(guī)范里都有規(guī)定,10G速率的PCB布線不能打孔,這就是因為過孔的參數(shù)特性很難控制,人們缺少必要的手段和條件對其進行研究和驗證。為此,興森快捷的實驗室投入了大量的人力與物力,致力于高速無源鏈路的研究,努力幫助客戶打通高速無源鏈路的設計瓶頸。

  

圖4:某板材損耗的仿真和實測對比:需要進行多次仿真修正,才能縮小理論和實測之間的差距。(電子系統(tǒng)設計)

  圖4:某板材損耗的仿真和實測對比:需要進行多次仿真修正,才能縮小理論和實測之間的差距。

  PCB布線是影響傳輸損耗的另一個關鍵因素。線上損耗的主要原因有:趨膚效應、介質損耗、銅箔粗糙度和波纖效應,這幾個因素均和信號的速率相關。在設計的初始階段,設計者便會借助軟件來計算PCB布線的阻抗和損耗。軟件通常都不會單獨考慮銅箔粗糙度的影響,或者將此影響歸類到趨膚效應。而事實上,銅箔粗糙度和趨膚效應存在著區(qū)別。當速率達到10Gbps時,銅箔粗糙度的影響便不可忽略。經(jīng)過興森快捷的高速實驗室的測試驗證,在bps速率下,高粗糙度銅箔所產(chǎn)生的額外損耗往往會比低粗糙度銅箔高出很多。而在PCB制造時,PCB廠商通常都會默認為采用普通銅箔,也就是高粗糙度銅箔,這在高速設計時是常被忽略的地方。因為一般的PCB工廠都不會去研究銅箔粗糙度的影響,興森快捷公司在這方面所做的研究工作已處于業(yè)界的前列。

  介質的損耗將隨著頻率的升高而越變越大(圖5),這時能否找到一款性價比高的板材將成為成功的關鍵。因為,在如此高的速率下,即使采用以前用于10G BASE KR的改性FR4板材(如 Nelco 4000-13)也將無法滿足要求,更不用說普通的FR4。而業(yè)界原本廣為使用的Megtron 6也因為日本地震而受到很大影響,所以尋找到一款可替代的高頻板材已迫在眉睫,而新材料的認證又需要一個相對較長的周期(需要做環(huán)境測試、插損測試、眼圖測試和BER測試等)。所要用到的儀器設備包括:恒溫箱、矢量網(wǎng)絡分析儀或TDR、碼型發(fā)生器、采樣示波器或實時示波器以及BERT等。為了更好地對bps無源進行量化和建模,興森快捷的高速實驗室對此做了大量的研究工作,找出了性價比更高的Megtron 6替代板材,目前興森快捷還購買了業(yè)界最大可探測面積的探針臺,10G速率以上的超高速背板及系統(tǒng)的設計已變得更加容易。

  

  圖5:CEI-25G LR規(guī)范規(guī)定的插損要比10G Base嚴格很多。10G Base只需要考慮6GHz時的損耗,而CEI-25G LR則需要考慮12.5GHz時的損耗。

  在估算通道損耗時,一般會認為介質是均勻的。事實上不同的疊層會使用不同厚度的PP(聚丙烯),不同厚度PP的構成是不一樣的。PP主要由玻璃纖維和樹脂組成。波纖的經(jīng)緯交叉點和空隙中的樹脂含量不同,這會導致介質的不均勻性,主要是波纖交叉點和空隙中的Dk和Df值區(qū)別很大。在最壞情況下,一對差分走線中的一根走在交叉線上,而另一根則走在空隙當中,這樣差分對的傳輸延遲和損耗都會不同,這將造成眼圖的閉合和造成EMI。采用Intel推薦的10度角設計是一種常規(guī)的解決玻纖效應的做法,但這通常被用于10G速率及以下,當通道速率達到25Gbps時,玻纖效應對傳輸線的影響需要被更加嚴格地進行評估。

  此外,布線的方式也將影響到插損,比如傳輸線是微帶線還是帶狀線。兩者所帶來的損耗大不相同,在頻率越高的情況下區(qū)別會越大。除了損耗,兩種傳輸線周圍的電磁場分布以及傳播特性也不盡相同。總體而言,帶狀線會比微帶線具有更好的性能表現(xiàn),但前提條件是,必須設計出參數(shù)和特性均可控的過孔。

  所有的影響因素均需要被考慮在內,才能符合規(guī)范要求。由于仿真和測試之間存在很大的差異,需要設計者不斷修正仿真模型和優(yōu)化算法,并反復和實測結果進行對比,才能得到可信的仿真結果和經(jīng)驗修正值。



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