應(yīng)用材料公司推出先進(jìn)的化學(xué)機(jī)械研磨拋光墊技術(shù)

 

近日，應(yīng)用材料公司宣布為200mm CMP（化學(xué)機(jī)械研磨）系統(tǒng)推出創(chuàng)新的Applied DuraPad CMP（化學(xué)機(jī)械研磨）拋光墊技術(shù) 。DuraPad的使用壽命比現(xiàn)有的研磨墊至少延長(zhǎng)了30%，有效地增加了機(jī)臺(tái)的有效使用時(shí)間，替客戶節(jié)約了可觀的擁有成本。在DuraPad制造過(guò)程中采用先進(jìn)的six-sigma 制造技術(shù)保證了研磨墊不同批次之間性能的一致性，從而確保獲得良好的CMP研磨效果。

應(yīng)用材料公司全球服務(wù)部總經(jīng)理兼資深副總裁Manfred Kerschbaum表示：“作為工藝消耗品的研磨墊對(duì)于應(yīng)用材料公司來(lái)說(shuō)是一個(gè)新的市場(chǎng)，也是我們同Praxair Electronics公司合作的重要成果。CMP系統(tǒng)最主要的消耗品就是研磨墊。我們感到非常興奮可以把新的研磨墊技術(shù)帶給我們的客戶，幫助客戶顯著提高研磨墊的使用壽命、改善機(jī)臺(tái)研磨效果并且降低設(shè)備擁有成本。此外，DuraPad與現(xiàn)有的研磨墊在使用上很相似，只需為特定的工藝條件做很小的調(diào)整和修改。”

DuraPad的性能之所以能達(dá)到高度的一致性，關(guān)鍵在于制造過(guò)程中基片的交叉結(jié)合和處理工藝。單個(gè)研磨墊從基片上以接近凈尺寸的大小裁剪出來(lái)，然后進(jìn)行后續(xù)處理，保證了良好的墊上均一度和研磨墊之間的一致性。DuraPad還整合了Praxair公司擁有專利的氮?dú)馄鹋莘?，該方法?yōu)化了研磨墊內(nèi)的氣孔結(jié)構(gòu)，降低了缺陷率并減少了研磨液的使用量。

DuraPad拋光墊是應(yīng)用材料公司在CMP領(lǐng)域內(nèi)豐富經(jīng)驗(yàn)的結(jié)晶。應(yīng)用材料CMP系統(tǒng)的全球裝機(jī)量已經(jīng)超過(guò)了2000臺(tái)。DuraPad研磨墊已經(jīng)在我們主要客戶的CMP應(yīng)用中得到驗(yàn)證。