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NI發(fā)布業(yè)界最高精度的PXI源測量單元

作者: 時間:2016-07-27 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

  (美國國家儀器,National Instruments, 簡稱) 作為致力于為工程師和科學家提供解決方案來應(yīng)對全球最嚴峻的工程挑戰(zhàn)的供應(yīng)商,近日宣布推出 e-4135源測量單元(SMU),其測量靈敏度達10 fA,輸出電壓高達200V。工程師可以使用NI e-4135 SMU來測量低電流信號,并利用NI SMU的高通道密度、高速的測試吞吐率和靈活性來實現(xiàn)晶圓級參數(shù)測試、材料研究以及分析低電流傳感器和集成電路的特性等各種應(yīng)用。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201607/294610.htm

  “我們的順序參數(shù)測試需要采集數(shù)百萬個數(shù)據(jù)點,電流泄露通常在pA級。”IMEC研究人員Bart De Wachter博士表示, “在受益于PXI平臺提供的高速度和LabVIEW的系統(tǒng)編程靈活性的同時,全新的NI PXI SMU可幫助我們精確地測量低電流信號。”

  模塊化NI PXI SMU可幫助工程師來構(gòu)建緊湊型并行高通道數(shù)系統(tǒng),在單個PXI機箱中提供了高達68個SMU通道,而且可擴展至數(shù)百個通道來滿足晶圓級可靠性和并行測試需求。 此外,用戶還可利用高速通信總線、確定性硬件序列生成、以及使用數(shù)字控制回路技術(shù)對任意待測設(shè)備自定義調(diào)節(jié)SMU響應(yīng),從而提高測試吞吐量。工程師還可以通過軟件控制SMU響應(yīng),避免了長時間等待SMU穩(wěn)定,并可借助NI PXI SMU的靈活性來最小化過沖和振蕩,即使是在帶有高電容性的負載的情況下也是如此。

  “半導體器件復雜性的增加要求我們重新思考傳統(tǒng)的研究、特性分析和晶片可靠性測量方法,而這一直是我們投資PXI SMU的關(guān)鍵動力,”NI自動化測試總監(jiān)Luke Schreier表示, “NI SMU降低了測量時間,提高了通道密度,而且現(xiàn)在更提供了更好的測量質(zhì)量和高達10 fA的靈敏度。”

  NI PXI SMU不僅提供了臺式SMU的易用性,其交互式軟件前面板也可用于進行基本的測量和調(diào)試自動化應(yīng)用。 驅(qū)動程序包含了幫助文件、文檔描述和可立即運行的范例程序,可輔助測試代碼開發(fā),并包含了一個編程接口,可支持C、Microsoft .NET和LabVIEW系統(tǒng)設(shè)計軟件等各種開發(fā)環(huán)境。工程師還可結(jié)合NI TestStand測試管理軟件使用NI PXI SMU,簡化實驗室或生產(chǎn)車間的測試系統(tǒng)開發(fā)和部署。

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