PCB堿性蝕刻常見(jiàn)問(wèn)題原因及解決方法
1.問(wèn)題:印制電路中蝕刻速率降低
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201807/383992.htm原因:
由于工藝參數(shù)控制不當(dāng)引起的
解決方法:
按工藝要求進(jìn)行檢查及調(diào)整溫度、噴淋壓力、溶液比重、PH值和氯化銨的含量等工藝參數(shù)到工藝規(guī)定值。
2.問(wèn)題:印制電路中蝕刻液出現(xiàn)沉淀
原因:
(1)氨的含量過(guò)低
(2)水稀釋過(guò)量
(3)溶液比重過(guò)大
解決方法:
(1)調(diào)整PH值到達(dá)工藝規(guī)定值或適當(dāng)降低抽風(fēng)量。
(2)調(diào)整時(shí)嚴(yán)格按工藝要求的規(guī)定或適當(dāng)降低抽風(fēng)量執(zhí)行。
(3)按工藝要求排放出部分比重高的溶液經(jīng)分析后補(bǔ)加氯化銨和氨的水溶液,使蝕刻液的比重調(diào)整到工藝充許的范圍。
3.問(wèn)題:印制電路中金屬抗蝕鍍層被浸蝕
原因:
(1)蝕刻液的PH值過(guò)低
(2)氯離子含量過(guò)高
解決方法:
(1)按工藝規(guī)定調(diào)整到合適的PH值。
(2)調(diào)整氯離子濃度到工藝規(guī)定值。
4.問(wèn)題:印制電路中銅表面發(fā)黑,蝕刻不動(dòng)
原因:
蝕刻液中的氯化鈉含量過(guò)低
解決方法:
按工藝要求調(diào)整氯化鈉到工藝規(guī)定值。
5.問(wèn)題:印制電路中基板表面有殘銅
原因:
(1)蝕刻時(shí)間不夠
(2)去膜不干凈或有抗蝕金屬
解決方法:
(1)按工藝要求進(jìn)行首件試驗(yàn),確定蝕刻時(shí)間(即調(diào)整傳送速度)。
(2)蝕刻前應(yīng)按工藝要求進(jìn)行檢查板面,要求無(wú)殘膜、無(wú)抗蝕金屬滲鍍。
6.問(wèn)題:印制電路中基板兩面蝕刻效果差異明顯
原因:
(1)設(shè)備蝕刻段噴咀被堵塞
(2)設(shè)備內(nèi)的輸送滾輪需在各桿前后交錯(cuò)排列,否則會(huì)造成板面出現(xiàn)痕道
(3)噴管漏水造成噴淋壓力下降(經(jīng)常出在噴管與歧管的各接頭處)
(4)備液槽中溶液不足,造成馬達(dá)空轉(zhuǎn)
解決方法:
(1)檢查噴咀堵塞情況,有針對(duì)性進(jìn)行清理。
(2)重新徹底檢查和安排設(shè)備各段的滾輪交錯(cuò)位置。
(3)檢查管路各個(gè)接頭處并進(jìn)行修理及維護(hù)。
(4)經(jīng)常觀(guān)察并及時(shí)進(jìn)行補(bǔ)加到工藝規(guī)定的位置。
7.問(wèn)題:印制電路中板面蝕刻不均使部分還有留有殘銅
原因:
(1)基板表面退膜不夠完全,有殘膜存在
(2)全板鍍銅時(shí)致使板面鍍銅層厚度不均勻
(3)板面用油墨修正或修補(bǔ)時(shí)沾到蝕刻機(jī)的傳動(dòng)的滾輪上
解決方法:
(1)基板表面退膜不夠完全,有殘膜存在。
(2)全板鍍銅時(shí)致使板面鍍銅層厚度不均勻。
(3)板面用油墨修正或修補(bǔ)時(shí)沾到蝕刻機(jī)的傳動(dòng)的滾輪上。
(4)檢查退膜工藝條件,加以調(diào)整及改進(jìn)。
(5)要根據(jù)電路圖形的密度情況及導(dǎo)線(xiàn)精度,確保銅層厚度的一致性,可采用刷磨削平工藝方法。
(6)經(jīng)修補(bǔ)的油墨必須進(jìn)行固化處理,并檢查和清洗已受到沾污的滾輪。
8.問(wèn)題:印制電路板中蝕刻后發(fā)現(xiàn)導(dǎo)線(xiàn)嚴(yán)重的側(cè)蝕
原因:
(1)噴咀角度不對(duì),噴管失調(diào)
(2)噴淋壓力過(guò)大,導(dǎo)致反彈而使側(cè)蝕嚴(yán)重
解決方法:
(1)根據(jù)說(shuō)明書(shū)調(diào)整噴咀角度及噴管達(dá)到技術(shù)要求。
(2)按照工藝要求通常噴淋壓力設(shè)定20-30PSIG,并通過(guò)工藝試驗(yàn)法進(jìn)行調(diào)整
9.問(wèn)題:印制電路中輸送帶上前進(jìn)的基板呈現(xiàn)斜走現(xiàn)象
原因:
(1)設(shè)備安裝其水平度較差
(2)蝕刻機(jī)內(nèi)的噴管會(huì)自動(dòng)左右往復(fù)擺動(dòng),有可能部分噴管擺動(dòng)不正確,造成 板面噴淋壓力不均引起基板走斜
(3)蝕刻機(jī)輸送帶齒輪損壞造成部分傳動(dòng)輪桿的停止工作
(4)蝕刻機(jī)內(nèi)的傳動(dòng)桿彎曲或扭曲
(5)擠水止水滾輪損壞
(6)蝕刻機(jī)部分擋板位置太低使輸送的板子受阻
(7)蝕刻機(jī)上下噴淋壓力不均勻,下壓過(guò)大時(shí)會(huì)頂高板子
解決方法:
(1)按設(shè)備說(shuō)明書(shū)進(jìn)行調(diào)整,調(diào)整各段滾輪的水平角度與排列,應(yīng)符合技術(shù)要 求。
(2)詳細(xì)檢查各段噴管擺動(dòng)是否正確,并按設(shè)備說(shuō)明書(shū)進(jìn)行調(diào)整。
(3)應(yīng)按照工藝要求逐段地進(jìn)行檢查,將損壞或損傷的齒輪和滾輪更換。
(4)經(jīng)詳細(xì)檢查后將損壞的傳動(dòng)桿進(jìn)行更換.
(5)應(yīng)將損壞的附件進(jìn)行更換。
(6)經(jīng)檢查后應(yīng)按照設(shè)備說(shuō)明書(shū)調(diào)整擋板的角度及高度。
(7)適當(dāng)?shù)恼{(diào)整噴淋壓力。
10. 問(wèn)題:印制電路中板面線(xiàn)路蝕銅未徹底,部分邊緣留有殘銅
原因:
(1)干膜未除盡(有可能由于兩次鍍銅與錫鉛鍍層過(guò)厚增寬遮蓋少量干膜而導(dǎo) 致退膜困難)
(2)蝕刻機(jī)中輸送帶速度過(guò)快
(3)鍍錫鉛時(shí)鍍液滲入干膜底部造成極薄鍍層沾污的干膜,使該處蝕銅的速度減慢形成導(dǎo)線(xiàn)邊緣留有殘銅.
解決方法:
(1)檢查退膜情形,嚴(yán)格控制鍍層厚度,避免鍍層延伸。
(2)根據(jù)蝕刻質(zhì)量調(diào)整蝕刻機(jī)輸送帶的速度。
(3)A檢查貼膜程序,選擇適當(dāng)?shù)馁N膜溫度和壓力,提高干膜與銅表面的附著力
B檢查貼膜前銅表面微粗化狀態(tài)。
11. 問(wèn)題:印制電路中板兩面蝕刻效果不同步
原因:
(1)兩面銅層厚度不一致
(2)上下噴淋壓力不均
解決方法:
(1)A根據(jù)兩面鍍層厚度凋整上下噴淋壓力(銅層厚度朝下);
B采用單面蝕刻只開(kāi)動(dòng)下噴咀壓力。
(2)A根據(jù)蝕刻板子的質(zhì)量情況,檢查上下噴淋壓力并進(jìn)行調(diào)整;
B檢查蝕刻機(jī)內(nèi)蝕刻段的噴咀是否被堵塞,并采用試驗(yàn)板進(jìn)行上下噴淋壓力的調(diào)整。
12. 問(wèn)題:印制電路中堿性蝕刻液過(guò)度結(jié)晶
原因:
當(dāng)堿性蝕刻液的PH值低于80時(shí),則溶解度變差致使形成銅鹽沉淀與結(jié)晶
解決方法:
(1)檢查補(bǔ)充用的備用槽中的子液量是否足夠。
(2)檢查子液補(bǔ)充的控制器、管路、泵、電磁閥等是否堵塞異常。 (3)檢 查是否過(guò)度抽風(fēng),而造成氨氣的大量逸出致使PH降低。 (4)檢測(cè)PH計(jì)的功能是否正常。
13. 問(wèn)題:印制電路中連續(xù)蝕刻時(shí)蝕刻速度下降,但若停機(jī)一段時(shí)間則又能恢復(fù)蝕刻速度
原因:
抽風(fēng)量過(guò)低,導(dǎo)致氧氣補(bǔ)充不足
解決方法:
(1)通過(guò)工藝試驗(yàn)法找出正確抽風(fēng)量。
(2)應(yīng)按照供應(yīng)商提供的說(shuō)明書(shū)進(jìn)行調(diào)試,找出正確的數(shù)據(jù)。
14. 問(wèn)題:光致抗蝕劑脫落(干膜或油墨)
原因:
(1)蝕刻液PH值太高,堿性水溶干膜與油墨就很容易遭到破壞
(2)子液補(bǔ)給系統(tǒng)失控
(3)光致抗蝕劑本身的類(lèi)型不正確,耐堿性能差
解決方法:
(1)按照工藝規(guī)范確定的值進(jìn)行調(diào)整。
(2)檢測(cè)子液的PH值,保持適宜的通風(fēng),勿使氨氣直接進(jìn)入板子輸送行進(jìn)的區(qū)域。
(3)A良好的干膜可耐PH=9以上。
B采用工藝試驗(yàn)法檢驗(yàn)干膜耐堿性能或更換新的光致抗蝕劑品牌。
15. 問(wèn)題:印制電路中蝕刻過(guò)度導(dǎo)線(xiàn)變細(xì)
原因:
(1)輸送帶傳動(dòng)速度太慢
(2)PH過(guò)高時(shí)會(huì)加重側(cè)蝕
(3)蝕刻液的比重值低于規(guī)范設(shè)定值
解決方法:
(1)檢查銅層厚度與傳動(dòng)速度之間的關(guān)系,并設(shè)定操作參數(shù)。
(2)檢測(cè)蝕刻液的PH,如高出工藝規(guī)定的范圍,可采用加強(qiáng)抽風(fēng)直到恢復(fù)正常 (3)檢測(cè)比重值,若低于設(shè)定值時(shí),則應(yīng)添加銅鹽并停止子液的補(bǔ)充,使其比重值回升到工藝規(guī)定的范圍內(nèi)。
16. 問(wèn)題:印制電路中蝕刻不足,殘足太大
原因:
(1)輸送帶傳動(dòng)速度太快
(2)蝕刻液PH太低(其數(shù)值對(duì)蝕刻速度影響不大,但當(dāng)PH降低時(shí)側(cè)蝕將會(huì)減少,但殘足變大)
(3)蝕刻液比重超出正常數(shù)值(比重對(duì)蝕刻速度影響不大,但比重增大時(shí),側(cè)蝕將會(huì)減少)
(4)蝕刻液溫度不足
(5)噴淋壓力不足
解決方法:
(1)檢查銅層厚度與蝕刻機(jī)傳送速度之間的關(guān)系,通過(guò)工藝試驗(yàn)法找出最佳操作條件。
(2)檢測(cè)蝕刻液的PH值,當(dāng)該值低于80時(shí)即需采取提高的方法,如添加氨水或加速子液的補(bǔ)充與降低抽風(fēng)等。
(3)A檢測(cè)蝕刻液的比重值,并加較多子液以降低比重值至工藝規(guī)定范圍。
B檢查子液補(bǔ)給系統(tǒng)是否失靈。
(4)檢查加熱器的功能是否有異常。
(5)A檢查噴淋壓力,應(yīng)調(diào)整到最隹狀態(tài)。
B檢查泵或管路是否有異常。
C備液槽中水位太低,造成泵空轉(zhuǎn),檢查液位控制、補(bǔ)充、與排放泵的操作程序。
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