一種低功耗的電平位移電路
作者 / 陳智昕 電子科技大學(四川 成都 610054)
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201809/392391.htm陳智昕,男(漢族),四川成都人,碩士研究生,主要從事模擬集成電路的研究設計。
摘要:提出了一種基于0.35μm BCD工藝的電平位移電路。該電路使用了耐壓5V的CMOS器件。通過對常規(guī)電平位移電路進行分析,提出了優(yōu)化改善的電平位移電路。電路仿真結(jié)果顯示,與常規(guī)的電平位移電路相比,改進的電路具有功耗低、輸出電平穩(wěn)定可靠等特點。
0 引言
隨著最小特征尺寸的不斷下降,功耗問題已經(jīng)成為現(xiàn)代集成電路設計的主要考慮因素之一。Dynamic Voltage Scaling Operating(動態(tài)電壓調(diào)整)技術(shù)能為集成電路提供多種電源電壓。一方面,用低電源電壓給非關(guān)鍵路徑模塊供電,另一方面,在模擬和高速數(shù)字模塊中使用較高的電源電壓。這樣的技術(shù)對于減少動態(tài)以及靜態(tài)功耗是很必要的[1]。
在集成電路中,不同模組工作在不同的速度下,所以需要一種雙重供電結(jié)構(gòu)。在雙重電壓供給系統(tǒng)中,需要用電平位移電路(Level-shifter Circuit)將低電壓轉(zhuǎn)換為高電壓以滿足后續(xù)的模組工作。為了確保整體電路的工作性能,電平位移電路需要具備低功耗的特點[2]。
本文正是基于這樣的應用需求,設計了一種低功耗的電平位移電路。文章剩余部分按照以下結(jié)構(gòu)展開。第一部分對傳統(tǒng)電平位移電路進行回顧,第二部分為本文所提出的電平位移電路原理,第三部分呈現(xiàn)了所設計電平位移電路的仿真結(jié)果。
1 常規(guī)電平位移電路
圖1(a)為一種傳統(tǒng)的電平位移電路,當輸入信號IN為“1”(VIN=VDDL)時,MN1開啟,MN2關(guān)斷,MN1管將結(jié)點a電位下拉,從而MP2導通,對結(jié)點b充電,隨著結(jié)點b電位的上升,MP1關(guān)斷。類似的,當輸入信號變至“0”(VIN=VSS)時,MN1關(guān)斷而MN2導通,整個過程將反置。值得注意的是,當輸入信號由“1”變“0”時,a點的初始電位不能瞬變而仍然為“0”,因此MP2一開始仍然導通,對結(jié)點b進行充電,削弱了MN2對結(jié)點b放電的作用,使得電位轉(zhuǎn)換變得緩慢(對結(jié)點a的分析同理)。我們可以看到在結(jié)點a、b存在著上拉管(MP1和MP2)和下拉管(MN1和MN2)的電位爭奪,上拉P管對N管的下拉產(chǎn)生阻礙作用。所以,當輸入電壓與VDDL/VDDH偏差很大,特別是低于閾值電壓時,下拉管的下拉能力遠小于上拉管的上拉能力,電路無法正常轉(zhuǎn)換電平[3]。
為了解決這樣的問題,提出了基于電流鏡的電平位移電路。如圖1(b)所示,該結(jié)構(gòu)利用電流鏡限制了電流,從而在下拉管對輸出結(jié)點放電時削弱了上拉管的上拉能力。然而,該結(jié)構(gòu)存在一個明顯的缺點,當輸入信號IN處于“1”時,存在較大的流經(jīng)MP1和MN1的恒定電流,產(chǎn)生了額外功耗。為減少這樣的靜態(tài)功耗,提出了如圖1(c)所示基于威爾遜電流鏡的電路。電路中引入MP3以消除恒定電流,當輸入信號IN為“1”時,輸出電位上拉至“1”,使得MP3處于關(guān)斷狀態(tài),從而截斷了之前存在的恒定電流。但是,這種結(jié)構(gòu)會造成結(jié)點b產(chǎn)生電壓降,當結(jié)點b電位還未完全上拉至VDDH時,MP3已經(jīng)關(guān)斷,造成結(jié)點a電位上浮而關(guān)斷MP2管,使得結(jié)點b的電平浮動且低于VDDH[4-5]。
2 改進的電平位移電路
通過對常規(guī)電平位移電路的分析研究,我們可以看出上述電路存在著N管下拉電流能力較弱、持續(xù)恒定的大電流以及輸出信號無法被完全上拉至VDDH等問題。而這些問題的產(chǎn)生會使得電路在工作過程中產(chǎn)生更多的功耗。因此,本節(jié)在圖1(c)所示電路結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上,提出了一種改進的電平位移電路,可以優(yōu)化功耗問題。電路原理圖如圖2所示。
將圖1(c)中MP3管上移至電流鏡的上方(即圖2中MP4管),使輸出端在上電過程中,結(jié)點a的電位始終被下拉到地。而不會像圖1(c)中那樣,結(jié)點a的電位因MP3管的斷開而上浮,使MP2管的上拉能力減弱而影響輸出端電位無法上升到VDDH。與此同時,當輸入IN為“1”時,MP4管抑制了流過MP4、MP1和MN1管的電流I1,使得功耗減小。
當輸入信號由高變低時,由于結(jié)點b電位無法瞬變而仍為“0”。此時,MP4、MN1管和MP5、MN3管開啟,MN2管關(guān)斷。從而產(chǎn)生流經(jīng)MP4、MP1和MN1管的電流I1以及流經(jīng)MP5、MP3和MN3的電流I3。兩股電流被鏡像,產(chǎn)生電流I2,并上拉結(jié)點b的電位。最后,結(jié)點b電位變?yōu)椤?”,并反饋至MP4和MP5管使它們關(guān)斷,從而截斷電流I1、I3,也不再鏡像電流I2。輸出端變?yōu)椤?”。因為MN1和MN3管始終開啟,致使結(jié)點a、c保持地電位,MP2、MP6管處于常開狀態(tài),從而保證結(jié)點b電位能夠始終處于VDDH而不浮動,從而對常規(guī)電平位移電路結(jié)點出現(xiàn)電壓降的問題進行了優(yōu)化改善。
當輸入信號由低變高時,結(jié)點b信號起初仍然為“1”。在不添加輔助模塊時,起初結(jié)點a電位仍然為“0”,MP4管關(guān)斷,使得MP2管處于強上拉狀態(tài),這樣很大程度的削弱了MN2管對結(jié)點b電位的下拉作用(因為P管的上拉能力大于N管的下拉能力),導致輸出端電位下降較慢。添加輔助模塊后,由MP2和MP6兩個P管作開關(guān),有效的抑制了結(jié)點b電位受P管上拉作用的影響,使得結(jié)點b電位能夠較穩(wěn)定地被下拉至“0”。
3 仿真結(jié)果及分析
本文所提電平位移電路的仿真結(jié)果是基于華虹NEC 0.35μm BCD工藝進行,實現(xiàn)從2.5 V轉(zhuǎn)換為5 V工作電壓的功能。本節(jié)分別從整體功能、電流功耗以及具體問題優(yōu)化情況三方面進行分析。
如圖3所示為改進電平位移電路功能波形圖。仿真結(jié)果表明,所提出的電平位移電路輸入2.5 V,經(jīng)過大約200 ps穩(wěn)定地轉(zhuǎn)換為5 V輸出電壓環(huán)境,正確實現(xiàn)電路功能。
圖4為電路功耗仿真結(jié)果,通過對IVDDL+IVDDH值進行對比間接反映常規(guī)電平位移電路與改進電平位移電路的功耗大小。從仿真結(jié)果來看,改進電路功耗明顯減小,與常規(guī)電路相比,功耗下降約45%,改善結(jié)果顯著。
圖5所示,為圖1(c)常規(guī)電路和圖2改進電路結(jié)點b在N管對該結(jié)點電位進行下拉時的電位變化仿真圖。由圖可知,常規(guī)電路結(jié)點b在電位被N管下拉時受到上拉管MP2未關(guān)斷的影響,下拉有明顯變緩的過程,波形下降沿出現(xiàn)“二段式”的曲線。而改進電路b結(jié)點的下拉過程則更加穩(wěn)定,反映出改進電路中輔助模塊有效地抑制了P管上拉能力強對結(jié)點b電位的影響,削弱了P管上拉能力,使得b點電位能被下拉N管穩(wěn)定地放電至“0”。
4 結(jié)論
本文提出一種改進的電平位移電路,通過調(diào)整反饋PMOS管的位置和添加輔助模塊以改善電路功耗等問題。與常規(guī)電平位移電路相比,所提出的電路具有低功耗,輸出電平穩(wěn)定可靠等優(yōu)點。
參考文獻:
[1] K. Usami et al., “Automated low-power technique exploiting multiple supply voltages applied to a media processor,” IEEE J. Solid-State Circuits, vol. 33, no. 3, pp. 463–472, Mar. 1998.
[2] A. Shapiro and E. G. Friedman, “Power efficient level shifter for 16 nm FinFET near threshold circuits,” IEEE Trans. Very Large Scale Integr. (VLSI) Syst., vol. 24, no. 2, pp. 774–778, Feb. 2016.
[3] B.Razavi.Design of Analog CMOS Integrated Circuits.McCraw-Hill Companies Inc.Boston,MA,2001.
[4] S. Lütkemeier and U. Ruckert, “A subthreshold to above-threshold level shifter comprising a Wilson current mirror,” IEEE Trans. Circuits Syst. II, Exp. Briefs, vol. 57, no. 9, pp. 721–724, Sep. 2010.
[5] P. Corsonello, S. Perri, and F. Frustaci, “Exploring well configurations for voltage level converter design in 28 nm UTBB FDSOI technology,” in Proc. IEEE Int. Conf. Comput. Design (ICCD), Oct. 2015, pp. 499–504.
本文來源于《電子產(chǎn)品世界》2018年第10期第43頁,歡迎您寫論文時引用,并注明出處。
評論