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宜特晶背FIB電路修補(bǔ)能力突破7奈米工藝

作者: 時間:2019-03-15 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

  隨半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)朝更先進(jìn)工藝 發(fā)展之際,電路修補(bǔ)技術(shù)(IC Circuit Edit)檢測技術(shù)再突破!今(3/15)宣布,通過先進(jìn)工藝 客戶肯定,IC芯片背面(Backside,簡稱晶背)FIB電路修補(bǔ)技術(shù)達(dá)7奈米(nm)工藝 。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201903/398547.htm

  宜特針對IC設(shè)計業(yè)者為何須進(jìn)行電路修補(bǔ)進(jìn)行說明。由于即使電路仿真軟件不斷地提升演進(jìn),仍難以100%來確保芯片的設(shè)計及布局正確性,一旦發(fā)現(xiàn)電路瑕疵只能再次進(jìn)行光罩改版;然而光罩價格不斐,且重新下光罩后,等待修補(bǔ)過后的芯片時間通常超過一個月。因此,多數(shù)IC設(shè)計業(yè)者,會選擇進(jìn)行IC電路修補(bǔ),只需幾個小時內(nèi)即可完成修補(bǔ),確保電路設(shè)計符合預(yù)期,并降低時間及金錢的成本耗損。

  宜特表示,隨著摩爾定律,半導(dǎo)體工藝 從1微米(um)、0.5微米(um)、0.13微米(um)不斷微縮到奈米(nm)等級,如此先進(jìn)工藝 的電路修補(bǔ),考驗FIB實驗室的技術(shù)發(fā)展及應(yīng)用能力。特別當(dāng)工藝 來到16奈米(nm)以下的工藝 ,包裝型式多數(shù)為覆晶技術(shù)(Flip Chip),因此FIB電路修補(bǔ)就必須從晶背來執(zhí)行,整體困難度也隨之增加。

  宜特進(jìn)一步指出,7奈米(nm)先進(jìn)工藝 的修補(bǔ),有兩個挑戰(zhàn)。第一,晶體管密度倍增:每平方毫米密度約是16nm工藝 的3.5倍,要穿越遍布于底層的晶體管進(jìn)行修補(bǔ)困難度將大幅度提升;第二,薄且小的間隙:7奈米(nm)工藝 的金屬與介電層的間隙、寬度、厚度,多為40奈米(nm)或以下,面對薄且小的工藝 ,如何精準(zhǔn)定位目標(biāo)、清楚辨識電路及避免過度曝露金屬,更是修補(bǔ)技術(shù)能力重要關(guān)鍵。

  宜特表示,宜特1994年成立,從IC芯片的FIB電路修補(bǔ)起家,2011年即提供40/28奈米(nm)先進(jìn)工藝 電路修補(bǔ)技術(shù),2015年時完成20/16奈米(nm)芯片正面的電路修補(bǔ)技術(shù),并于2016年挑戰(zhàn)完成16奈米(nm)的IC 晶背(Backside)FIB電路修補(bǔ)技術(shù)。2018年完成12奈米(nm)修補(bǔ)。

  今年,宜特FIB電路修補(bǔ)技術(shù)再突破,成功完成7奈米(nm)工藝 的back-side電路修補(bǔ),協(xié)助先進(jìn)工藝芯片設(shè)計業(yè)者在電路驗證、偵錯、失效分析上更直接、靈活且快速的選擇,加速產(chǎn)品上市時間(Time-To-Market)。

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  圖說:宜特FIB電路修補(bǔ)技術(shù)各階段里程碑



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