Mentor Tanner模擬/混合信號工具獲得TSMC模擬 IC設計專有工藝認證

Mentor, a Siemens business 日前宣布，其 Tanner? 模擬/混合信號 (AMS) 設計工具 — Tanner S-Edit 原理圖輸入工具和 Tanner L-Edit 版圖編輯器 — 現(xiàn)已獲得認證，可用于 TSMC 的可互操作的 PDK (iPDK)，適用于廣泛的 TSMC 專有工藝技術，以實現(xiàn)高產量的模擬 IC 設計。

Mentor 的 Tanner AMS 設計工具經過優(yōu)化，可創(chuàng)建全定制模擬或“Analog on Top”混合信號集成電路 (IC)，適用于 22nm 及以上工藝。許多領先的 IC 供應商使用 Mentor 的 Tanner 工具為廣泛的市場（包括汽車、可穿戴設備和工業(yè)物聯(lián)網 (IoT) 領域）設計高度復雜的 AMS 設備。

“在全球增長速度最快的市場當中，很多市場對專用 AMS 芯片的需求越來越大，這些芯片能夠無縫銜接模擬和數(shù)字世界。Mentor 的 Tanner 工具經過專門設計，旨在幫助 IC 設計人員滿足這一日益增長的需求，同時為創(chuàng)建高度創(chuàng)新的 AMS 設計提供一個理想的平臺?！盡entor, a Siemens business 的集成電路設計系統(tǒng)部總經理 Greg Lebsack 表示，“適用于支持模擬 IC 設計的 TSMC 專有工藝的 Tanner AMS 工具已獲得認證，這對我們的客戶來說是個好消息，它有助于加快上市時間和降低風險。對我們的共同客戶來說，Mentor Tanner AMS 解決方案與 TSMC 專有工藝結合用于模擬 IC 設計是真正的強強聯(lián)合?！?/p>

TSMC 用于專有工藝技術的 iPDK 可幫助芯片制造商滿足前沿 AMS IC 設計的特定要求。Mentor 的 AMS 工具現(xiàn)已獲得認證，可用于許多晶圓代工廠的 iPDK，包括 22nm 超低功耗、28nm 高性能計算、40nm 混合信號技術以及適用于當今最先進的模擬 IC 的其他專有工藝技術。

“我們與 Mentor 之間的長期合作可確保能在特殊節(jié)點為我們雙方的客戶提供成功設計和制造芯片所需的 EDA 解決方案和服務以及相關支持，”TSMC 設計基礎架構管理事業(yè)部高級總監(jiān) Suk Lee 表示，“這項合作成果結合了 TSMC 的專有工藝技術與 Mentor 的高級設計工具，幫助我們的客戶在汽車、智能可穿戴設備和工業(yè)物聯(lián)網等廣泛的市場領域中獲得創(chuàng)新成功?！?/p>