一種精密運放的數(shù)字修調(diào)技術(shù)
許凌飛,張國俊,王? 婧(電子科技大學(xué)電子薄膜與集成器件國家重點實驗室,四川 成都 610054)
摘? 要:提出了一種數(shù)字修調(diào)技術(shù),該技術(shù)將數(shù)字電路與模擬電路相結(jié)合,利用數(shù)字電路可精確控制的特性,設(shè)計了一種輸出修調(diào)電流與輸入修調(diào)信號一一對應(yīng)的失調(diào)校準(zhǔn)技術(shù)。采用該結(jié)構(gòu)設(shè)計的運算放大器通過測試失調(diào)電壓的大小,并計算出相應(yīng)的輸入修調(diào)信號,最終能使運放的失調(diào)電壓減小到μV量級。
關(guān)鍵詞:數(shù)字修調(diào);失調(diào)電壓;運算放大器;精確控制
0 引言
20世紀(jì)80年代初期,隨著數(shù)字電路的飛速發(fā)展,數(shù)字信號處理能力日益強大,自1925年Lilienned和Heil申請專利并率先提出了金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET,Metal Oxide Semiconductor Field EffectTransistor)這一概念[1];1963年,F(xiàn)rank Wanlass 發(fā)明了互補MOS(CMOS,Complementary Metal OxideSemiconductor Transistor)電路,CMOS工藝很快地占領(lǐng)了數(shù)字領(lǐng)域。CMOS工藝在數(shù)字領(lǐng)域的應(yīng)用,使得數(shù)字信號處理功能能夠應(yīng)用于硅片之上,這使許多傳統(tǒng)意義上應(yīng)用模擬電路來實現(xiàn)的功能能夠在數(shù)字領(lǐng)域完成。
得益于微電子技術(shù)的飛速發(fā)展,現(xiàn)代集成電路越來越趨向低電壓、低功耗和高精度設(shè)計,而CMOS工藝優(yōu)異的低功耗、低成本的特性使其在模擬集成電路設(shè)計中極受青睞。但對于運算放大器而言,采用CMOS工藝設(shè)計出的運放,如果不進(jìn)行特殊處理,其失調(diào)電壓通常會達(dá)到10 mV以上[2]。結(jié)合此種現(xiàn)象,文中將一種數(shù)字修調(diào)技術(shù)應(yīng)用于一個CMOS軌到軌運算放大器中,通過對其修調(diào)方式的分析和失調(diào)電壓的檢測,來驗證這種數(shù)字修調(diào)技術(shù)的優(yōu)異性能。
1 傳統(tǒng)的失調(diào)誤差修整技術(shù)
輸入失調(diào)電壓是由于放大器差分輸入級的電阻對(或電流)不平衡而造成的,所以只要調(diào)整其中一邊的電阻(或電流)就可以減小失調(diào)電壓,這就是失調(diào)誤差修整技術(shù)。事實上,正是各種失調(diào)誤差修整技術(shù)的出現(xiàn)確保了精密放大器家族的存在。幾種常見的失調(diào)電壓修正技術(shù)包括:激光修整、齊納擊穿、鏈接修整、EEPROM修整以及數(shù)字修整技術(shù)[3]。本文采用的失調(diào)誤差修整技術(shù)為數(shù)字修整技術(shù)。
2 數(shù)字修調(diào)技術(shù)原理分析
實際應(yīng)用中數(shù)字修調(diào)技術(shù)一般時被嵌入到電路內(nèi)部進(jìn)行修調(diào)的,并且修調(diào)輸入端口與運放的輸入端口公用同一個引腳,實現(xiàn)引腳多功能復(fù)用設(shè)計。大致的芯片內(nèi)部連接方式如圖1所示。BAIS為偏置電路,A-OPAMP為放大器電路,A-TRIM輸出的修調(diào)電流端口接入到是放大器第一級的輸出導(dǎo)線上。
數(shù)字修調(diào)電路對運放修調(diào)主要分為兩步。
首先分別測量出PMOS差分對工作時的失調(diào)電壓與NMOS差分對工作時的失調(diào)電壓,
其中: Vos (MP1/MP2) 為P差分對管的失調(diào)電壓, Vos(其它) 為P管工作時其他晶體管帶來的失調(diào)電壓; Vos (MN1/MN2)
是N差分對管的失調(diào)電壓, V′os 為N管工作時其他晶體管帶來的失調(diào)電壓。
計算出差分對管工作時所需的補償電流為:
再根據(jù)芯片所需的補償電流大小推算出熔斷某幾根熔絲所需的修調(diào)輸入信號,最終在成片修調(diào)之時將修調(diào)輸入信號接入,燒斷相應(yīng)的熔絲即可對芯片進(jìn)行修調(diào)處理。
本文中我們所采用的數(shù)字修調(diào)技術(shù)包括三個模塊,其中包括信號產(chǎn)生模塊(VCMCOM),熔絲模塊(A-TRIM-CONTRL)和開關(guān)電路模塊(A-TRIM)
三個部分。下面我們將具體對這三個模塊進(jìn)行功能性分析。
2.1 信號產(chǎn)生模塊(VCMCOM)
信號產(chǎn)生模塊的功能是將運放輸入的模擬信號經(jīng)過轉(zhuǎn)換變成后一級熔絲模塊電路能接收處理的數(shù)字信號。信號產(chǎn)生模塊由一個五位計數(shù)器、29位移位寄存器和相關(guān)邏輯門與模擬電路組合而成。運放的兩個輸入端口分別提供時鐘信號與輸入有效數(shù)據(jù)信號;時鐘信號與輸入有效數(shù)據(jù)信號經(jīng)過模擬電路轉(zhuǎn)變成一個較為“干凈”的數(shù)字輸出信號。當(dāng)輸入端口連續(xù)輸入一個1000 0001 D9~D21 0111 1110的固定包頭包尾信號之時,29位移位寄存器將會將D9~D21位的數(shù)據(jù)同時輸出傳遞給下一級熔絲模塊電路;熔絲模塊電路將會根據(jù)的輸出不同的D9~D21位的數(shù)據(jù)來決定熔斷本模塊內(nèi)的某一熔絲的熔斷。VCMCOM模塊的具體工作機制如下圖2所示:
2.2 熔絲模塊(A-TRIM-CONTRL)
熔絲模塊電路由14個trim電路與相關(guān)電路連接形成。其中trim電路起固定信號的作用,其他的電路則是一些邏輯電路,進(jìn)行邏輯轉(zhuǎn)換。
這部分我們主要對trim電路的熔斷機制進(jìn)行分析,trim電路的內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖如圖3所示,其中A=1, B=0。熔絲電阻未熔斷時輸出Y始終為0,熔絲熔斷后,Y的值保持為1。
通過對圖3電路的分析可知,當(dāng)D端口輸入為1,同時E端口的輸入也為1時,熔絲電阻熔斷。此時無論C=1/0,trim電路輸出Y為1,顯然這種熔斷機制是不可逆的。
2.3 開關(guān)電路模塊(A-TRIM)
開關(guān)電路模塊則是通過不同的開關(guān)開啟與否來輸出一個確定大小的修調(diào)電流。其電路包含兩個部分,分別為修調(diào)電路1和修調(diào)電路2。修調(diào)電路1用來校正PMOS差分對工作時電路產(chǎn)生的失調(diào)電壓,修調(diào)電路2用來校正NMOS差分對工作時電路產(chǎn)生的失調(diào)電壓。Itrack是用來追蹤NMOS差分對的電流,開關(guān)電路模塊的具體電路如圖4所示:
其中Ma1,Ma2,···Man是一組電流源晶體管, 由Ma0偏置,偏置電流大小由電流源I1控制;Mc1,Ma2,···Mcn為另一組電流源晶體管,由Mc0偏置,偏置電流由NMOS差分對的電流控制;Mb1,Mb2,···Mbn;Md1,Md2,···Mdn為兩組開關(guān)晶體管,可通過數(shù)字電路控制[4],在本電路中開關(guān)電路的控制信號來源為上一級電路中trim電路的輸出Y信號通過邏輯門轉(zhuǎn)換得到,通過控制這些電路的開與關(guān)來控制Me1,Me2,Me3,Me4晶體管上流過的電流的大小。Me1,Me2,Me3,Me4晶體管也由上一級數(shù)字電路輸出決定,這四個晶體管的開關(guān)用于決定修調(diào)輸出由POSTRIM還是由NEGTRIM端口產(chǎn)生補償電流信號。
3 仿真與分析
本次仿真通過測試一個兩級CMOS運放的修調(diào)前后的失調(diào)電壓大小來證明此技術(shù)的適應(yīng)性。對于隨機失調(diào)電壓,由于芯片在流片過程中,工藝或多或少存在一些誤差,導(dǎo)致了運放晶體管的不匹配,產(chǎn)生了失調(diào)電壓。仿真隨機失調(diào)電壓一般可以用蒙特卡羅分析得出隨機失調(diào)電壓,但是仿真采用的電路的工藝庫缺少蒙特卡羅參數(shù),因此無法使用此方法。要得到隨機失調(diào)電壓,我們可以人為將輸入對管的寬敞進(jìn)行修改,以模仿隨機失調(diào)電壓的影響。
仿真測得測試芯片的失調(diào)電壓如上圖5所示。經(jīng)推算知此時在輸入的一個端口輸入一個T = 1 μs, f = 1 MHz的時鐘信號,另一個端口輸入脈沖寬度為1 μs,脈沖序列為1000 0001 1000001 011000 0111 1110 1000 00010110000 010000 0111 1110后再對芯片的失調(diào)電壓進(jìn)行測量,仿真結(jié)果如圖6所示:
由仿真結(jié)果知,當(dāng)輸入電壓較低時,PMOS差分對工作,此時,失調(diào)電壓約為1.932 mV;輸入電壓較高時,NMOS差分對工作,此時,失調(diào)電壓約為-2.402 mV。經(jīng)過修調(diào)后在PMOS差分對管工作的時候,失調(diào)電壓約為34.88 μV;NMOS差分對管工作時,失調(diào)電壓約為88.74 μV。對修調(diào)后的Vos曲線,我們可以觀察到在0 V、3.1 V、5 V左右失調(diào)電壓均有所,這是由于此時補償電流剛開始產(chǎn)生,或即將消失而導(dǎo)致的,但這些區(qū)間內(nèi)失調(diào)電壓變化不大,且區(qū)間小,可忽略不計。
4 結(jié)論
本文討論了一種數(shù)字修調(diào)技術(shù),這種技術(shù)可以廣泛的應(yīng)用于精密運算放大器之中。文中對其原理進(jìn)行了詳盡地介紹,同時還將其應(yīng)用到具體電路當(dāng)中,通過仿真驗證,印證了技術(shù)的適應(yīng)性與正確性。仿真結(jié)果知,低壓工作時,未修調(diào)芯片的失調(diào)電壓約為1.932 mV,高壓工作時,未修調(diào)芯片的失調(diào)電壓約為-2.402 mV;修調(diào)后,低壓工作時,失調(diào)電壓約為34.88 μV,高壓工作時,失調(diào)電壓約為88.74 μV。以上結(jié)果證明,將數(shù)字修調(diào)電路應(yīng)用到運放之中能將運放的失調(diào)電壓減小到μV級別,極大地提升了運放的性能。另外由于修調(diào)電路直接嵌入到芯片內(nèi)部,運放輸入與修調(diào)輸入公用同一個引腳,這節(jié)省了一定的引腳資源,在一定程度上縮小了封裝體積,實現(xiàn)小型化,降低了使用成本。
參考文獻(xiàn)
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[4] Gabriel Nagy, DanielArbet and Viera Stopjaková.Digital Methods of OffsetCompensationin90nmCMOSOperationa lAmplifiers[J]. Solid-StateCircuit, IEEE Journal of, 2013.
本文來源于科技期刊《電子產(chǎn)品世界》2020年第02期第77頁,歡迎您寫論文時引用,并注明出處。
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