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Mentor EDA 軟件進一步支持三星Foundry 5/4nm 工藝技術

作者: 時間:2020-08-20 來源:電子產品世界 收藏

Mentor, a Siemens business 旗下領先的 Calibre? nmPlatform 和 Analog FastSPICE (AFS) 定制和模擬/混合信號 (AMS) 電路驗證平臺現已符合三星Foundry最新的5/4 nm FinFET工藝技術要求,客戶可以使用最新的解決方案為其先進的IC 設計tapeouts進行驗證和sign-off。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202008/417345.htm

三星5nm FinFET 工藝在功耗、性能和面積 (PPA) 方面表現優(yōu)異,其本身具備的增強功能,結合更加精細的5nm 幾何尺寸,能夠獲得比前幾代工藝節(jié)點更為出色的性能提升。

三星電子設計支持團隊副總裁 Jongwook Kye 表示:“三星與 Mentor 的合作由來已久,我們的共同客戶能夠以此充分使用Calibre 解決方案的各種功能?,F在,Calibre 和 AFS 都已通過最新的三星Foundry的工藝認證,雙方的專業(yè)知識再次結合,幫助設計人員快速開發(fā)和驗證創(chuàng)新型 IC,以應對各種高速增長的市場和應用需求?!?/p>

除 Calibre nmDRC 之外,同時通過三星Foundry的最新工藝認證的Mentor 工具還包括:

●   Calibre? xACT - 該工具能夠解決與先進納米設計相關的技術挑戰(zhàn),包括多重曝光、FinFET、局部互連、高復雜性和更嚴苛的約束條件。其獨特的混合引擎提供了場求解器的高精度,這對于FinFET 這類的精細3D 結構而言至關重要,此外Calibre xACT還提供快速的吞吐能力,可迅速完成全芯片設計。

●   Calibre? YieldEnhancer - 具備 SmartFill 和ECO Fill 功能,客戶可以控制設計平面度,并減少多次設計迭代的周轉時間。Calibre YieldEnhancer 還可以通過自動 PowerVia 流程減少 IR 壓降,從而幫助客戶提升設計的可靠性。三星與 Mentor 合作定制了該工作流程,為其領先的制程技術提供最高數量的過孔加插。

●   Calibre? PERC - 該工具采用獨特集成的方法對物理版圖和網表進行分析,進而將復雜的可靠性驗證檢查自動化。支持5/4nm 工藝的三星Foundry Calibre PERC 設計工具套件能夠提供額外的驗證檢查功能,幫助客戶應對與靜電放電和閂鎖效應可靠性相關的挑戰(zhàn)。

●   Calibre? nmLVS 可以作為任何三星Foundry提取流程的前端。Calibre nmLVS致力于解決持續(xù)增加的布局復雜性,并滿足設計團隊的高級計算需求,助其在驗證復雜電路的同時,以預期的運行時間實現先進工藝節(jié)點設計。

●   Calibre? RealTime 數字和定制接口平臺 - 該平臺利用同樣通過三星Foundry認證批量Calibre的設計套件,在數字化和定制的設計流程中即時進行sign-off質量的DRC檢查。在先進和成熟節(jié)點設計的 DRC 收斂期間,這些接口可帶來顯著的生產率優(yōu)勢,幫助客戶快速優(yōu)化其手動的DRC 修復,從而能更加專注于其PPA目標。

●   AFS平臺,該平臺助力芯片級系統(tǒng) (SoC) 設計人員充滿信心地完成電路驗證。三星Foundry的器件模型和設計工具套件均支持AFS 平臺。雙方的共同客戶能夠以此在驗證模擬、射頻、混合信號、存儲器和定制數字電路上,實現比傳統(tǒng) SPICE 仿真器速度更快的納米級 SPICE 精度驗證。

“三星Foundry憑借最新工藝,不斷提供高度創(chuàng)新的技術,以應對日趨復雜的 IC 設計難題,”Mentor Calibre 設計解決方案產品管理副總裁 Michael Buehler-Garcia 表示:“我們很高興能與三星Foundry繼續(xù)深化合作,并作為其創(chuàng)新解決方案中的關鍵設計要素,幫助雙方的共同客戶設計和制造最先進的IC產品?!?/p>



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