新聞中心

EEPW首頁(yè) > 消費(fèi)電子 > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 微美全息宣布獲得霧化粒徑為2-4微米全息實(shí)時(shí)成像系統(tǒng)專利

微美全息宣布獲得霧化粒徑為2-4微米全息實(shí)時(shí)成像系統(tǒng)專利

作者: 時(shí)間:2021-04-26 來(lái)源:美通社 收藏

軟件有限公司(納斯達(dá)克: WiMi)(以下簡(jiǎn)稱為“”或“公司”),一家領(lǐng)先的全息AR應(yīng)用技術(shù)提供商,獲得霧化粒徑為2-4微米的專利。本專利為公司自主研發(fā)的成果,有利于公司進(jìn)一步完善知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)體系,保持技術(shù)領(lǐng)先地位,提升公司的核心競(jìng)爭(zhēng)力。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202104/424835.htm

本專利提供的系統(tǒng),其有益效果在于,利用空間光調(diào)制器取代傳統(tǒng)的全息干板,由計(jì)算機(jī)生成數(shù)字全息圖并實(shí)現(xiàn)了全息圖的實(shí)時(shí)光學(xué)再現(xiàn)功能,和傳統(tǒng)的光學(xué)全息技術(shù)相比,它具有計(jì)算機(jī)接口、操作方便、可實(shí)時(shí)顯示等優(yōu)點(diǎn)。本專利系統(tǒng),包括輸入模塊、載體模塊和屏幕模塊;所述輸入模塊為電腦制作的全息圖;所述載體模塊包括激光器、擴(kuò)束準(zhǔn)直鏡頭、起偏器、空間光調(diào)制器、檢偏器、傅里葉透鏡,所述激光器輸出的光束依次經(jīng)擴(kuò)束準(zhǔn)直鏡頭、起偏器、空間光調(diào)制器、檢偏器、傅里葉透鏡,在所述屏幕模塊上顯示載入的輸入單元全息圖的物體。

本專利依據(jù)全息圖像建立數(shù)據(jù)庫(kù),存儲(chǔ)實(shí)驗(yàn)全息數(shù)據(jù)和背景全息數(shù)據(jù)。刪除實(shí)驗(yàn)全息數(shù)據(jù)中的原始背景,獲取液滴霧化全息數(shù)據(jù),對(duì)液滴霧化全息數(shù)據(jù)進(jìn)行灰度化處理。中值濾波,全息數(shù)據(jù)二值化,進(jìn)行填補(bǔ),獲得圖形填補(bǔ)閉合全息數(shù)據(jù),并進(jìn)行圖形標(biāo)定。作為優(yōu)選,所述屏幕模塊包括全息靜電霧化器,所述全息靜電霧化器產(chǎn)生的霧化粒徑為2-4微米,霧化量為100-150ml/h,形成的霧幕厚度在3-20cm。作為優(yōu)選,所述空間光調(diào)制器為透射式電尋址空間光調(diào)制。

本專利全息靜電霧化破碎過(guò)程中,空間非均勻電場(chǎng)的復(fù)雜性以及電場(chǎng)和流場(chǎng)的耦合等因素使得破碎較為復(fù)雜,因此通過(guò)將壓力霧化和全息靜電霧化相結(jié)合,采用雙相流液體全息靜電霧化裝置,結(jié)合雙相流全息靜電霧化的霧化性能進(jìn)行算法處理:1)對(duì)全息靜電霧化以及液體荷電方式進(jìn)行算法處理;2)建立霧化液滴粒徑無(wú)量綱分布的數(shù)學(xué)算法模型;3)結(jié)合粒徑的無(wú)量綱分布,建立粒徑無(wú)量綱分布與電壓、氣體壓力的算法模型。

本專利全息靜電霧化是通過(guò)電場(chǎng)力、電荷庫(kù)侖力、液滴表面張力及黏性力之間相互作用使霧化分裂。全息靜電霧化與其他霧化方法相比,具有霧化粒徑小、粒徑尺寸單一、空間彌散程度廣等優(yōu)點(diǎn)。通過(guò)控制不同算法參數(shù)能得到不同粒徑的霧化,霧化粒徑為2-4微米全息靜電霧化未來(lái)會(huì)在醫(yī)學(xué)、工業(yè)、環(huán)境、交通、靜電成像、3D打印、電動(dòng)車等方面應(yīng)用廣泛。




評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉