X-FAB在制造工藝上的突破為電隔離解決方案增加CMOS集成選項

全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries（“X-FAB”）近日宣布，在電隔離技術領域取得重大進展——X-FAB在2018年基于其先進工藝XA035推出針對穩(wěn)健的分立電容或電感耦合器優(yōu)化之后，現(xiàn)又在此平臺上實現(xiàn)了將電隔離元件與有源電路的直接集成。這是X-FAB對半導體制造工藝上的又一重大突破。這一集成方法使隔離產(chǎn)品的設計更加靈活，從而應對可再生能源、EV動力系統(tǒng)、工廠自動化和工業(yè)電源領域的新興機遇。

XA035基于350納米工藝節(jié)點，非常適合制造車用傳感器和高壓工業(yè)設備；XA035目前支持的高壓信號隔離能力意味著即使在苛刻的環(huán)境中也能保持持續(xù)穩(wěn)定的運行性能。該技術可以制造符合AEC-Q100 0級標準和工業(yè)等級的堅固元件，如數(shù)字隔離器、隔離柵極驅動器和隔離放大器IC。X-FAB提供全面的PDK，支持所有主要EDA供應商全新及改進的工藝技術。

“我們看到電隔離產(chǎn)品設計領域客戶對強大代工解決方案的需求日益增長，X-FAB在分立耦合器實施方面的高可靠性隔離層也已投產(chǎn)數(shù)年。”X-FAB高壓產(chǎn)品市場經(jīng)理Tilman Metzger表示，“通過利用相同的工藝模塊，我們現(xiàn)能夠在同一裸片上直接集成CMOS電路，從而為此類產(chǎn)品的設計打造更大靈活性。我們也十分高興看到客戶的首批集成型產(chǎn)品即將投產(chǎn)?！?/p>

縮略語：

CMOS   互補金屬氧化物半導體

EDA   電子設計自動化

EV   電動汽車

IC   集成電路

PDK   工藝設計套件