臺(tái)積電年末試產(chǎn)2nm工藝!蘋果芯片又要遙遙領(lǐng)先了
雖然目前來看2025年還早,但是隨著時(shí)間的推移,蘋果下一代芯片已經(jīng)在路上了。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202404/457488.htm據(jù)報(bào)道,蘋果芯片供應(yīng)商臺(tái)積電正在制造2nm和1.4nm芯片方面取得進(jìn)展,這些芯片很可能用于未來幾代蘋果芯片——最早可能搭載于2025年秋發(fā)布的iPhone 17 Pro上。
根據(jù)目前已知的消息,2nm和1.4nm芯片的量產(chǎn)時(shí)間顯然已經(jīng)確定。2nm節(jié)點(diǎn)將于2024年下半年開始試生產(chǎn),小規(guī)模生產(chǎn)將于2025年第二季度逐步推進(jìn)。
值得注意的是,臺(tái)積電位于亞利桑那州的新工廠也將加入2nm生產(chǎn)的行列。而在更遠(yuǎn)期的2027年,臺(tái)灣的工廠將開始轉(zhuǎn)向生產(chǎn) 1.4nm芯片。
臺(tái)積電的首個(gè)1.4nm節(jié)點(diǎn)被正式命名為“A14”,將緊隨其“N2”節(jié)點(diǎn)2nm芯片之后。臺(tái)積電計(jì)劃于2025年底量產(chǎn)N2節(jié)點(diǎn),隨后將于2026年底推出增強(qiáng)型“N2P”節(jié)點(diǎn)。
蘋果是最早嘗鮮先進(jìn)制程芯片的公司之一,2023年,蘋果在iPhone 15 Pro和iPhone 15 Pro Max中率先采用了基于臺(tái)積電3nm制程工藝A17 Pro 芯片。
值得一提的是,蘋果向來喜歡在iPhone上搭載最先進(jìn)芯片,然后再將這些芯片的衍生版本帶到iPad和Mac產(chǎn)品線。我們可以回顧并展望一下iPhone芯片技術(shù)的未來發(fā)展方向:
iPhone XR和XS(2018):A12 仿生(7nm,N7)
iPhone 11系列(2019):A13 仿生(7nm,N7P)
iPhone 12系列(2020):A14 仿生(5nm,N5)
iPhone 13 Pro系列 (2021):A15 仿生(5nm,N5P)
iPhone 14 Pro系列 (2022):A16 仿生(4nm,N4P)
iPhone 15 Pro系列 (2023):A17 Pro( 3nm ,N3B)
以下為未發(fā)布的蘋果芯片,按照慣例猜測(cè)命名,僅供參考。
iPhone 16 Pro (2024):“A18”( 3nm ,N3E)
“ iPhone 17 Pro”(2025):“A19”(2nm,N2)
“ iPhone 18 Pro”(2026):“A20”(2nm,N2P)
“ iPhone 19 Pro”(2027):“A21”(1.4nm,A14)
蘋果自研芯片M1系列基于A14仿生,采用臺(tái)積電的N5節(jié)點(diǎn),而M2和M3系列分別使用N5P和N3B。Apple Watch的S4和S5芯片使用N7節(jié)點(diǎn),S6、S7和S8芯片使用N7P,最新的S9芯片則使用N4P節(jié)點(diǎn)。
每個(gè)連續(xù)的臺(tái)積電節(jié)點(diǎn)在晶體管密度、性能和效率方面都超越了其前身。去年年底就已經(jīng)有消息稱,臺(tái)積電已經(jīng)向蘋果展示了2nm芯片原型,當(dāng)時(shí)的說法是“預(yù)計(jì)將于2025年推出”。
盡管芯片工藝在穩(wěn)步推進(jìn),但眼下臺(tái)積電面臨兩個(gè)挑戰(zhàn)。首先是剛剛過去的地震對(duì)臺(tái)積電的2nm工廠沖擊嚴(yán)重,部分設(shè)備需要更換,該工廠目前僅生產(chǎn)少量用于測(cè)試的芯片。
為了規(guī)避自然災(zāi)害風(fēng)險(xiǎn),臺(tái)積電本周宣布,除了已經(jīng)在建的兩座大型工藝工廠外,還將在亞利桑那州建造一座2nm工廠。總體來說,按照臺(tái)積電的規(guī)劃,我們最早見到2nm制程工藝的芯片的時(shí)間會(huì)在2024年末到2025年,而具體到產(chǎn)品上,iPhone 17 Pro和iPhone 17 Pro Max或?qū)⒊蔀槭着钶d2nm芯片的智能機(jī)型。
這也意味著將于今年九月發(fā)布的iPhone 16 Pro系列將無緣2nm制程芯片,不過全新N3E節(jié)點(diǎn)還是有優(yōu)勢(shì)的,此前在2023年技術(shù)研討會(huì)上,臺(tái)積電業(yè)務(wù)開發(fā)副總裁張曉強(qiáng)曾表示:N3E在良率、工藝復(fù)雜性方面將優(yōu)于N3,這直接轉(zhuǎn)化為更寬的工藝窗口。
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