新聞中心

EEPW首頁 > 模擬技術(shù) > 設(shè)計應(yīng)用 > 雙極性器件還是CMOS器件比較

雙極性器件還是CMOS器件比較

作者: 時間:2012-02-11 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏
在這種工藝技術(shù)中必須權(quán)衡性能與漏電。一般來說,這些工藝的柵極長度在130nm到350nm之間,將來也可能達到到90nm。對于可移植設(shè)備而言,漏電流性能可隨工藝、溫度或電源的變化而變化,這是一個重要參數(shù),因為它將直接影響電池的使用壽命。圖4顯示了采用NMOS工藝設(shè)備的漏電流(Ioff)與驅(qū)動電流(Idrive)隨溫度變化而變化的情況。Idrive與溫度變化關(guān)系不大,而Ioff則具有顯著的溫度相關(guān)性。圖5是PMOS設(shè)備的溫度相關(guān)性圖。由于溫度變化幅度不大,Ioff隨溫度變動的情況可以接受。圖6所示的是環(huán)形振蕩器頻率,是一項顯示設(shè)備電源電壓功能典型的品質(zhì)因數(shù),在實際應(yīng)用中也可作為權(quán)衡漏電與性能的準則。

  

雙極性器件還是CMOS器件比較

  圖4:NMOS設(shè)備中漏電流與驅(qū)動電流隨溫度變化

  

雙極性器件還是CMOS器件比較

  圖5:PMOS設(shè)備中漏電流與驅(qū)動電流隨溫度變化

  

雙極性器件還是CMOS器件比較

  圖6:環(huán)形振蕩器頻率被看作電源功能之一

設(shè)計低功耗混合信號設(shè)備的另一個重要組件是高可靠性、小型、低功耗非易失性存儲器。鐵電存儲器(FRAM)可提供獨特的性能,是眾多應(yīng)用中極具吸引力的非易失性存儲器選擇,其與眾不同的特性包括類似RAM的快速寫入速度、低電壓低功耗寫入工作、超長使用壽命以及高靈活度的架構(gòu)等。該存儲器已經(jīng)集成至上文所述的低功耗數(shù)字工藝技術(shù)中。

  FRAM的工作電壓為1.5V,與浮柵器件不同,它不需要充電泵。與所有非易失性存儲器一樣,其可靠性問題主要涉及寫入/讀取周期持久性、數(shù)據(jù)保持以及高溫使用壽命。即便在多次工作之后,F(xiàn)RAM也可保持優(yōu)異的非周期和周期位性能。

  封裝技術(shù)

  當需要在同一IC中實現(xiàn)不同性能指標時,可高效使用封裝技術(shù)。例如,一些應(yīng)用需要同時具有低噪聲、低功耗數(shù)字性能,可通過將兩種不同工藝的硅裸片布置在同一封裝中來實現(xiàn)??蓪⒐杪闫M行堆棧,節(jié)省電路板空間。隨著封裝技術(shù)的不斷發(fā)展,還可將電感器與電容器等無源元件集成在封裝內(nèi)。板上裸片貼裝(Chip on Board)技術(shù)能夠?qū)⒄麄€IC完全嵌入到印刷電路板中,為密集型應(yīng)用節(jié)省寶貴的空間。

模數(shù)轉(zhuǎn)換器相關(guān)文章:模數(shù)轉(zhuǎn)換器工作原理


漏電開關(guān)相關(guān)文章:漏電開關(guān)原理
衰減器相關(guān)文章:衰減器原理

上一頁 1 2 下一頁

關(guān)鍵詞: 雙極性 CMOS

評論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉