新聞中心

EEPW首頁 > 光電顯示 > 設計應用 > Si襯底設計的功率型GaN基LED制造技術

Si襯底設計的功率型GaN基LED制造技術

作者: 時間:2011-12-29 來源:網(wǎng)絡 收藏
為反射鏡,大大提高了反射效率,通過改進反射鏡的設計并引入粗化技術,提高了光輸出功率。改進了Ag反射鏡蒸鍍前p型GaN表面的清洗工藝和晶片焊接工藝,改善了銀反射鏡的歐姆接觸,量子阱前引入緩沖結(jié)構(gòu),提高了芯片發(fā)光效率,優(yōu)化量子阱/壘界面生長工藝,發(fā)光效率進一步提高,通過改進焊接技術,減少了襯底轉(zhuǎn)移過程中芯片裂紋問題,芯片制備的良率大幅度提高,且可靠性獲得改善。通過上述多項技術的應用和改進,成功制備出尺寸1 mm×1 mm,350 mA下光輸出功率大于380 mW的藍色發(fā)光芯片,發(fā)光波長451 nm,工作電壓3.2 V,完成課題規(guī)定的指標。表1為芯片光電性能參數(shù)測試結(jié)果。


注:測試條件為350 mA直流,Ta=25℃恒溫。

3.2 Si襯底LED封裝

根據(jù)LED的光學結(jié)構(gòu)及芯片、封裝材料的性能,建立了光學設計模型和軟件仿真手段,優(yōu)化了封裝的光學結(jié)構(gòu)設計。通過封裝工藝技術改進,減少了光的全反射,提高了產(chǎn)品的取光效率。改進導電膠的點膠工藝方式,并對裝片設備工裝結(jié)構(gòu)與精度進行了改進,采用電熱隔離封裝結(jié)構(gòu)和優(yōu)化的熱沉設計,降低了器件熱阻,提高了產(chǎn)品散熱性能。采用等離子清洗工藝,改善了LED封裝界面結(jié)合及可靠性。針對照明應用對光源的光色特性的不同要求,研究暖白、日光白、冷白光LED顏色的影響因素:芯片參數(shù)、熒光粉性能、配方、用量,并通過改進熒光膠涂覆工藝,提高了功率LED光色參數(shù)的控制能力,生產(chǎn)出與照明色域規(guī)范對檔的產(chǎn)品。藍光和白光LED封裝測試結(jié)果見表2。表中:φ為光通量;K為光效;P為光功率;R為熱阻;μ為光衰;I為飽和電流。



4 結(jié)語

Si襯底的GaN基是國際上第三條路線,是LED三大原創(chuàng)技術之一,與前兩條技術路線相比,具有四大優(yōu)勢:第一,具有原創(chuàng)技術產(chǎn)權,產(chǎn)品可銷往國際市場,不受國際專利限制。第二,具有優(yōu)良的性能,產(chǎn)品抗靜電性能好,壽命長,可承受的電流密度高。第三,器件封裝工藝簡單,芯片為上下電極,單引線垂直結(jié)構(gòu),在器件封裝時只需單電極引線,簡化了封裝工藝,節(jié)約了封裝成本。第四,由于Si襯底比前兩種技術路線使用的藍寶石和SiC價格便宜得多,而且將來生產(chǎn)效率更高,因此成本低廉。經(jīng)過三年的科技攻關,課題申請發(fā)明專利12項、實用新型專利7項,該技術成功突破了美國、日本多年在半導體發(fā)光芯片(LED)方面的專利技術壁壘,打破了目前日本日亞公司壟斷藍寶石襯底和美國CREE公司壟斷SiC襯底半導體照明技術的局面,形成了藍寶石、SiC、Si襯底半導體照明技術方案三足鼎立的局面。因此采用Si襯底GaN的LED產(chǎn)品的推出,對于促進我國擁有知識產(chǎn)權的半導體LED照明產(chǎn)業(yè)的發(fā)展有著重大意義。


上一頁 1 2 下一頁

評論


相關推薦

技術專區(qū)

關閉