又一個要取代矽的新型二維半導(dǎo)體：黑磷

　　近年來，二維晶體材料因其優(yōu)越的電氣特性，成為半導(dǎo)體材料研究的新方向。繼石墨烯、二硫化鉬之后，本月初，在《自然·納米技術(shù)》雜志??上，復(fù)旦大學(xué)物理系張遠(yuǎn)波教授課題組發(fā)現(xiàn)了一種新型二維半導(dǎo)體材料——黑磷，并成功制備了相應(yīng)的場效應(yīng)晶體管器件，它將有可能替代傳統(tǒng)的矽，成為電子線路的基本材料。

　　二維晶體是由幾層單原子層堆疊而成的納米厚度的平面晶體，比如大名鼎鼎的石墨烯，但是石墨烯沒有半導(dǎo)體帶隙，即分隔電子導(dǎo)電能帶(導(dǎo)帶)和非導(dǎo)電能帶(價帶)之間的無人禁區(qū)，也就是說它難以完成導(dǎo)體和絕緣體之間的轉(zhuǎn)換，不能實現(xiàn)數(shù)字電路的邏輯開與關(guān)。同樣由單原子層堆疊而成的黑磷，則具有一個半導(dǎo)體帶隙。

　　“兩年前中國科技大學(xué)的陳仙輝教授告訴我他們可以生長黑磷時，當(dāng)時直覺就告訴我，這有可能是一個很好的半導(dǎo)體材料，”張遠(yuǎn)波教授說，“果然，現(xiàn)在我們把黑磷做成納米厚度的二維晶體后，發(fā)現(xiàn)它有非常好的半導(dǎo)體性質(zhì)，這樣就有可能用在未來的集成電路里。”

　　他們發(fā)現(xiàn)，黑磷二維晶體有良好的電子遷移率(~1000cm2/Vs)，還有非常高的漏電流調(diào)制率(是石墨烯的10000倍)，與電子線路的傳統(tǒng)材料矽類似。

　　除了電性能優(yōu)越以外，黑磷的光學(xué)性能同包括矽和硫化鉬在內(nèi)的其他材料相比也有巨大的優(yōu)勢。它的半導(dǎo)體帶隙是直接帶隙(如圖)，即電子導(dǎo)電能帶(導(dǎo)帶)底部和非導(dǎo)電能帶(價帶)頂部在同一位置，實現(xiàn)從非導(dǎo)到導(dǎo)電，電子只需要吸收能量(光能)，而傳統(tǒng)的矽或者硫化鉬等都是間接帶隙，不僅需要能量(能帶變化)，還要改變動量(位置變化)。

　　這意味著黑磷和光可以直接耦合，這個特性讓黑磷成為未來光電器件(例如光電傳感器)的一個備選材料，可以檢測整個可見光到近紅外區(qū)域的光譜。這些初步的研究結(jié)果，遠(yuǎn)沒有達(dá)到黑磷性能的極限，還有極大的拓展空間。張遠(yuǎn)波教授表示，黑磷還只是一個剛剛被發(fā)現(xiàn)的材料，現(xiàn)在其前景作任何的推斷都還太早。