I-Scan壓力分布分析系統(tǒng)在化學機械拋光(CMP)中的應用
材料打磨的不均勻很可能是由于晶片上所受的研磨頭的壓力不均勻造成的,
在研磨頭的兩個邊垂位置產生的壓力較高。
鑒定不平研磨、磨損部位和高、低壓區(qū)
設備調整前后比較
相同設備間比較
可靠性和設計驗證
優(yōu)勢:
優(yōu)化機器安裝
節(jié)省時間和成本
提高產品合格率
提高設備使用率
增加制造產出
材料打磨的不均勻很可能是由于晶片上所受的研磨頭的壓力不均勻造成的,
在研磨頭的兩個邊垂位置產生的壓力較高。
評論