這些牛逼的臺灣半導體企業(yè) 中國大陸怎么追
臺積電
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/285027.htm(一)公司簡介
沿革與背景
臺積電成立于1987年2月21日,是全球第一家也是全球最大的專業(yè)集成電路(IC)制造服務公司,公司經營策略為只提供客戶專業(yè)集成電路之制造技術服務,而不設計、生產、或銷售自有品牌產品,不與客戶做商品之競爭。
公司在北美、歐洲、日本、中國大陸、南韓、印度等地均設有子公司或辦事處,產能亦來自海外子公司為WaferTech美國子公司、臺積電(上海)有限公司,及新加坡合資SSMC公司之支援。
公司首創(chuàng)建置資訊平臺—虛擬晶圓廠(Virtual Fab),提供整套服務,客戶也可從晶圓廠、封裝廠、到測試廠整個供應鏈掌握訂單進度。
2.營業(yè)項目與產品結構
業(yè)務范圍涵蓋IC制造服務及其相關項目,提供包括晶圓制造、光罩制作、晶圓測試與錫鉛凸塊封裝及測試等客戶支援服務。
晶圓代工服務,包括一般邏輯制程技術、非揮發(fā)性嵌入式存儲(Embedded Non-volatile Memory)制程、嵌入式動態(tài)隨機存取存儲(Embedded DRAM)制程、混合訊號/射頻(Mixed Signal/ RF)制程、高壓(High Voltage)制程、互補金屬氧化物半導體影像感應器(CMOS Image Sensor)、彩色濾光片(Color Filter)、微機電系統(tǒng)(MEMS)、硅鍺(Silicon Germanium)制程等。 2015年Q3,16/20納米占21%、28納米營收占比27%、40/45納米14%、65納米占11%、90納米占8%、0.11/0.13微米占2%、0.15/0.18微米占12%、0.25/0.35微米占5%。下游應用比重:通訊占59%、消費性電子8%、工業(yè)用25%、電腦相關8%。
(二)產品與競爭條件
產品與技術簡介
臺積電在技術及產能均居產業(yè)領導地位,是全球第一家有能力量產40納米以下技術的晶圓代工廠,其40納米規(guī)模與 良率優(yōu)于同業(yè),40納米占全球8~ 9成市占,28/20納米生產時程至少領先同業(yè)三季以上。 先進制程發(fā)展上,于2002年,在十二廠完成十二吋支持90納米(nm)研發(fā)試產線;2007年,公司為全球第一家導入45nm量產之晶圓代工廠。至2009年第四季,來自于65nm及其他更先進制程占營收達39%。2011年10月,完成首件采用20納米制程技術生產的ARM Cortex-A15處理器設計定案(Tape Out)。
臺積電布局3D IC的硅穿孔(TSV)制程,以CoWoS(Chip on Wafer on Substrate)制程模式生產,即將邏輯芯片和DRAM放在硅中介層(interposer)上面,然后封裝在基板上,公司要提供全套服務,包括下游封裝測試。整套流程包括,整合晶圓鍵合(Wafer Bonding)、薄晶圓(Wafer Thinning)、芯片基板鍵合(Chip on Substrate)及芯片封測等技術,將各種邏輯和存儲芯片精準疊合。
2012年下半年起開始20nm制程技術進行試產工作,以平面制程(planar process)為基礎,并采用高介電層/金屬閘(High-k Metal Gate)、第五代創(chuàng)新應變硅(strained silicon )以及超低介電值銅導線等技術。跳過22nm制程,直接導入20nm制程技術,主因于20nm制程技術的閘密度、芯片效能與成本比,較22nm更具成本優(yōu)勢,臺積電的微影技術也跨入下一世代,與Mapper合作無光罩多重電子束微影技術,以及與ASML合作的極紫外光(EUV)微影技術等。
2012年10月,CoWoS測試芯片成功地整合Wide I/O介面將邏輯系統(tǒng)單芯片與動態(tài)隨機存取存儲結合于單一模組,在芯片成品制造完成之前,公司的CoWoSTM技術透過將芯片堆疊于晶圓之上(Chip on Wafer)的封裝技術,提供客戶前端晶圓制造服務,藉由搭配Wide I/O行動動態(tài)隨機存取存儲介面,使這顆整合芯片可提供優(yōu)化的系統(tǒng)效能,更小的產品外觀尺寸,并且明顯改善芯片之間的傳輸頻寬。此次合作伙伴結合SK Hynix公司提供Wide I/O動態(tài)隨機存取存儲、Cadence公司支援Wide I/O行動動態(tài)隨機存取存儲硅智財、益華(Cadence)公司與明導國際(MentorGraphics )公司提供電子設計自動化工具。
因為嵌入式Flash MCU持續(xù)成長,且隨ARM架構Cortex系列處理器發(fā)展、行動終端裝置走向輕薄化,公司于2013年量產CoWos模型,以整合TSV與Silicon Interposer,并與晶圓代工業(yè)務結合。
臺積電3D IC技術進程表
2013年4月,ARM與臺積電完成首件采用16納米FinFET制程技術生產的ARM Cortex-A57處理器產品設計定案(tape-out),雙方在6個月內完成從暫存器轉換階層到產品設計定案整個流程。Cortex-A57處理器,可支援行動運算、伺服器等高階產品。16納米FinFET量產時間提前至2015年。
臺積電的28納米產品線有低耗電(28LP)、高效能(28HP)、高效能低耗電(28HPL)、高效能行動運算(28HPM)、高效能精簡型(HPC)五大制程。
28納米HKMG制程采用的是后閘極(gate-last)技術,對手提供的則是前閘極(gate-first)技術,后閘極技術能提供更佳的芯片效能。另外20納米將于2014年1月試產,產能規(guī)劃達1萬片,2014年底產能預估達6萬片。28納米HKMG制程又可分為HPM、HPC兩種。公司的28納米HPM制程已獲得約60個客戶的tape-out,相較于同業(yè)的LP制程,在耗電相同的情況下,產品速度可提升30%。另外,公司推出28納米HPC的低價版本,以供應中低階智慧型手機客戶。
臺積電的16/20納米有90%的機臺設備均相容,故16納米FinFET制程的良率改善速度快,其良率已近20納米制程。此外,16nm FinFET制程區(qū)分為“16nm FinFET(CLN16FF)”及其改良版“16nm FinFET+(CLN16FF+)”兩種,已取得20個以上的設計定案(tape-out),產品包括基頻、AP應用處理器、網(wǎng)通、繪圖芯片、CPU、伺服器等,規(guī)劃于2015年Q3量產。
公司先進制程進度
資料日期:2015年10月
2015年臺積電資本支出預估在105~110億美元之間,主要用于8/12吋產能布建、先進制程研發(fā),以及先進封裝產能;其中,16納米FinFET+月產能Q4將提升至5萬片,2016年Q1將達8.7萬片,2016年Q2則可達10萬片目標,將成為公司未來營收成長主力,產品比重將逐步超越20納米比重。公司宣布積極布局10納米制程,規(guī)劃2016年底前投產,2017年Q1出貨,主要競爭對手英特爾、三星等預計最快在2017年內進入量產,三星則規(guī)劃于2017下半年量產。 公司另跨足封裝領域,InFo封裝技術預計2016年開始挹注獲利。 2015年12月,臺積電向投審會申請赴南京設立16納米制程的12吋晶圓廠,初步規(guī)劃月產能為2萬片,預計2018年下半年投產。
2.重要原物料及相關供應商
IC制造從硅晶圓開始,經過一連串制程步驟,包括光學顯影、快速高溫制程、化學氣相沉積、離子植入、蝕刻、化學機械研磨等制程,需要原物料包括硅芯片、制程用化學原料、光阻、氣體,以及研磨液、研磨墊與鉆石碟等。
3.產能狀況與生產能力
公司在臺灣設有3座先進的十二吋超大型晶圓廠(fab 12、14 & 15)、4座八吋晶圓廠(fab 3, 5, 6 & 8) 和1座六吋晶圓廠(fab 2),并擁有二家海外子公司:WaferTech 美國子公司、臺積電(中國),以及新加坡(與NXP合資)SSMC公司之八吋晶圓廠產能支援。全球總部以及晶圓二廠、三廠、五廠、八廠及十二廠皆位于臺灣新竹科學園區(qū);晶圓六廠及十四廠則位于臺灣臺南科學園區(qū)),大陸廠則位于上海松江。
2013年臺積電竹科12吋廠Fab12生產線投片,Q4于南科12吋廠Fab14以20納米量產蘋果A7處理器。臺積電規(guī)劃2014年底之前,20納米及16納米月產能達11萬片,其中Fab14的P6廠采用16納米制程FinFET技術,預計在2014年5月投產,F(xiàn)ab14的P7廠預計于2015年4月開始量產。18吋晶圓在新竹12廠第8期研發(fā)與試產,預計于2017年在中科15廠第5期正式量產。20納米已于Fab 12、Fab 14開始量產,出貨時間于2014年Q2,2014年Q3放量。
2014年全年總產能1845萬片相當于8吋晶圓。
2014年Q2,竹科12 吋廠Fab12第6期、南科12吋廠Fab14第5期均進入量產,F(xiàn)ab14第6期將于7月量產,第7期于2014下半年裝機,規(guī)畫2015年開出16nm鰭式場效電晶體(FinFET)制程產能。
2014年11月,公司擴展后段封測布局,收購Qualcomm龍?zhí)稄S,將該廠作為封測生產據(jù)點,以InFO技術拓展3D封裝市場,以強化一條龍服務,提升接單能力,預計2016年上半年可量產16納米芯片的整合扇出型(InFO)晶圓級封裝。2015年,上海松江廠規(guī)劃月產能增加至120千片。
2015年2月,臺積電于中科的晶圓廠投資案已通過,公司10納米級8納米的投資金額為7,000億元,其中中科廠占5,500億元,竹科研發(fā)中線與實驗性產線占1,500億元;竹科十二廠規(guī)畫于2015年6月裝機,10納米制程于2016年Q4投片,2017年量產,期初月產能1萬片;竹科十五廠方面,則是規(guī)畫興建3座廠房,主要為10納米制程,至2018年三座廠房產能全部啟用時,月產能可達9萬片。 2015年政府開放半導體業(yè)者赴陸獨資設立12吋晶圓廠,公司選定南京浦口經濟開發(fā)區(qū)作為設廠點,預計2016年動工興建,2017年下半年進行試產。
臺積電晶圓廠產能(千片):
資本支出
2014年資本支出為95~100億元,但折舊金額將年增35%。其中,95%用于提升先進制程,包括28nm擴展及布建16nm、20nm制程。 臺積電董事會于2014年11月11日決議投入1,672億元,用來建置、擴充28納米以下先進制程及40納米以上制程產能。 2015年資本支出原訂為105~110 億美元,8成用于提升先進制程。2015年10月,考量公司投片及生產效率提升,加上設備采購時間延至2016年,將資本支出調降至80億美元。 2015年11月,公司透過董事會核定資本預算為1253.58億元,將用于擴充先進制程及先進封裝產能,以及興建廠房、安裝廠務系統(tǒng)等。
4.新產品與新技術
2018年量產18吋晶圓,屆時導入的技術將以10納米鰭式場效電晶體(FinFET)制程為主,希望可以導入新一代的微影技術,除極紫外光(EUV)方案外,多重電子束(Multi E-Beam)也是考慮之一。
20納米之產能于2014年6月起量產,公司預期2014Q3、2014Q4及2015年將貢獻營收分別為10%、20%與20%以上。
10納米制程則預定2015年下半年進行風險試產,10納米與16納米相比之下,速度快20%、功耗減少45%,電晶體密度也高出2.2倍,將于2016年量產。
16納米制程方面,公司規(guī)畫FinFET制程于2014年Q3進行試產,量產時間為2014年Q4,首批晶圓已于8月試產成功,產品為海思的64位元手機芯片Kirin 930,F(xiàn)inFET Plus制程則于2014年Q4試產,2015年Q1量產。
2014年9月,臺積電推出全球最低功耗及成本效益最佳的28納米高效能精簡制程(28HPC),該制程已開始量產,主要應用于智慧型手機、平板電腦等地64位元CPU ,且可將芯片尺寸縮小,功耗減少30%,速度在增加近兩成。
臺積電于2014年9月25日宣布,公司以16納米FinFET制程,為海思生產4G基地臺及網(wǎng)通設備用的處理器。公司表示16納米FinFET制程可改善速度與功率、降低漏電流,且解決先進系統(tǒng)單芯片技術微縮時產生的障礙。
臺積電于2014年9月30日與ARM(安謀)共同宣布,完成驗證以ARM的big.LITTLE技術及16納米FinFET制程的Cortex-A57與Cortex-A53處理器。2014年10月2日,攜手合作研發(fā)10納米FinFET制程,規(guī)劃2015年Q4完成首顆10納米制程64位元的ARM架構處理器設計定案。 2014年11月13日,臺積電宣布已完成16納米FinFET+制程的網(wǎng)通IC及手機AP試產,規(guī)劃于2015年7月量產。 公司28nm制程及16nm制程皆具備成本優(yōu)勢,2015年推出HPC plus可大幅提升省電效能。此外10nm制程于2015年進入認證階段,7nm制程于同年開始研發(fā),預計2017年上半年可進入量產。
臺積電之物聯(lián)網(wǎng)計畫
一、超低功耗平臺
利用開放創(chuàng)新平臺的硅智財與設計流程,建置物聯(lián)網(wǎng)生態(tài)系統(tǒng)。臺積電于2014年下半年進行研發(fā),其0.18微米極低漏電、90納米超低漏電制程已進入量產,而50/40/28納米制程也將于2015年內逐步進入量產,且提供加入RF及eFlash技術。超低功耗制程可降低操作電壓近三成,物聯(lián)網(wǎng)與穿戴式裝置電池壽命可延長2倍以上。
二、MEMS
公司提供整合型制程,包括以晶圓級封裝將CMOS影像感測器與DSP整合,以及開發(fā)CMOS MEMS取代傳統(tǒng)以封裝打線制程生產ASIC MEMS。
(三)市場需求與銷售競爭
產業(yè)結構與供需
IC產業(yè)鏈由上而下為設計、制造、封裝及測試,提供晶圓制造服務包括整合元件廠(IDM)及專業(yè)晶圓代工(Foundry),其中IDM業(yè)務涵蓋IC設計、制造、封裝和測試整個流程;Foundry如臺積電,僅從事IC制造之專業(yè)分工。
因為先進制程需要不斷投入資本并且因成本考量,IDM廠陸續(xù)將制造與后段封測等制程委外,大多IDM廠逐漸轉型成Fabless(無晶圓廠)經營型態(tài),或Fablite(輕晶圓)趨勢。
受到IDM廠委外代工的趨勢,以晶圓代工產值按客戶型態(tài)之比重,F(xiàn)ables與IDM各占7:3,自2009年起擴大到8:2,2010年IDM長期外包比重超過2成,IDM廠對12吋產能需求持續(xù)提升,也是未來主要委外的部分。
在晶圓代工領域,全球前四大包括臺積電、聯(lián)電、GF(Global Foundries)和中芯國際,即占7成的營收比重,顯示產業(yè)為寡占市場。
2013年全球半導體市場約成長4%,2014年成長約5%,F(xiàn)abless產業(yè)方面,2013年成長9%,至于晶圓代工產業(yè),將成長11%,2014年成長約9%。
臺積電預估2014年全球半導體產業(yè)將年增7%、Fabless IC設計將年增9%、晶圓代工則年增14%。
2.銷售狀況
2014年Q1臺積電客戶以Fabless占87%、IDM廠占13%,前5大客戶為Qualcomm、NVIDIA、TI、Marvell、ADI等。
公司28納米市占率為100%,主要客戶有Altera及Xilinx、Nvidia、AMD和Qualcomm。
2013年上市的iPhone 5s改采A7芯片,逾五成訂單由臺積電負責。
2013年客戶營收比重為高通為16%、博通9%、NVIDIA 9%、MTK7%、AMD/ATI 7%、其他53%。
2013年Q4銷售區(qū)域比重為北美74%、亞洲11%、大陸5%、歐洲7%、日本3%。
2014年Q2,公司獲得Apple A8處理器代工訂單。 2015年,公司獲蘋果擴大釋出A9處理器代工訂單,自6月起正式量產,并以16納米鰭式場效電晶體加強版制程(FinFET Plus)量產,月投片量超過2萬片。公司所生產的16納米A9芯片體積為104.5mm,較三星的14納米芯片體積稍大,但在效能測試軟體測試結果顯示,臺積電的芯片運算功耗較三星的領先近2小時,有助公司取得iPhone A10訂單。 公司爭取蘋果16納米制程的A10處理器訂單,已規(guī)劃2016年3月開始量產投片。而10納米制程陸續(xù)有客戶導入產品設計階段。
晶圓代工應用市占率
2014年Q2,公司20納米制程用于手機,已于6月出貨,而28納米受惠FPGA、LTE手機IC、GPU、車用IC等客戶訂單,為營收成長動能。
截至2014年底,臺積電16納米客戶包括Avago、Freescale、LG、MTK、NVIDIA、Renesas、Xilinx等。
3.競爭廠商
臺積電為全球第一大,就先進制程上,根據(jù)研調機構統(tǒng)計,2013年全球晶圓代工市占率:臺積電(46%)、聯(lián)電(9%)、GF(1%)及Samsung(9 %)。
GlobalFoundries是從AMD分拆出來的,并且合并特許(Chartered)半導體后,成為全球第3大專業(yè)晶圓代工廠,GF在先進制程已追上聯(lián)電。 市調機構Gartner(顧能)公告2014年全球晶圓代工市場統(tǒng)計,臺積電因’28納米領先同業(yè),市占率提升至53.8%,排名市場第一。
(四)財務相關
主要轉投資事業(yè)
(1)晶圓代工方面,包括持股38%世界先進與SSMC,SSMC是NXP和臺積電在新加坡合資的8吋晶圓廠,臺積電持股40%,NXP為60%。還有轉投資美國子公司-WaferTech。 2014年4月11日,公司以每股42.55元出售世界8200萬股,約5%股權,總金額為34.9億元,持股比例降至33%
(2)創(chuàng)意:提供IP設計服務,持股35%。
(3)采鈺:提供CMOS影像感測芯片測試業(yè)務,并于2007年跨入LED硅基封裝。2015年8月董事會通過以不超過39億元額度,取得CMOS影像感測器廠豪威(OmniVision)在臺投資公司、雙方合資公司采鈺(VisEra)股權,持股比重提升至98.2%。
(4)精材:提供晶圓級芯片尺寸封裝技術(WLCSP)封裝。持股比重77%。
(5)普瑞光電(BridgeLux):為美國LED磊晶大廠,于2008年投資。
(6)茂迪:2009年12月,臺積電與茂迪簽署認股結盟合約,正式入股太陽能電池大廠茂迪,以認購茂迪公司私募發(fā)行之普通股新股共7,532萬股,認購之總金額約62億元(約美金1.93億元),掌握茂迪二成持股成為該公司最大股東。
(7)Stion:2010年6月,宣布旗下VentureTech Alliance公司投資美商Stion公司5000萬美元(折合新臺幣約16億元),并持有該公司約21%的股份,取得薄膜CIGS制程技術,雙方并在技術授權、生產供應以及合作開發(fā)方面簽訂協(xié)議。
(8)太陽能方面:2009年12月,入股結晶硅太陽能電池茂迪,成為最大股東;2010年6月,入股薄膜太陽能電池廠Stion,取得CIGS(銅銦鉀硒)制程技術,Stion授權并移轉其CIGS薄膜制程給臺積電,同時公司提供太陽能電池模組給Stion。在太陽能領域,公司同時發(fā)展結晶硅與薄膜太陽能電池。
(9)2011年4月,將太陽能事業(yè)獨立分割為新公司-臺積太陽能股份有限公司,基準日為8/1。 2015年8月,公司宣布旗下持股100%的臺積太陽能,因業(yè)務發(fā)展已不具長期經濟效益,于8月底結束工廠營運。
(10)2008年投資美國LED磊晶大廠普瑞光電(BridgeLux),BridgeLux開發(fā)出氮化鎵上硅(GaN-On-Silicon)之LED技術,達每瓦135流明,為硅基板LED業(yè)界第一家具商品化等級效能的廠商。
(11)2011年4月,將LED事業(yè)獨立分割為新公司-臺積固態(tài)照明股份有限公司,基準日為8/1。
2014年臺積電決定將臺積固態(tài)照明的94%持股售予晶電。
(12)2008年投資設備大廠ASML,預計于2015年Q2~Q3處分ASML持股。
(13)2015年8月董事會通過收購臺灣豪威控股公司100%股權。
由于篇幅原因,這里只介紹了上游知名的IC設計企業(yè)和中游的臺積電,另外還有另一個代工廠和封測廠商,在以下的文章會分析,敬請期待。
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