Synopsys推出IC COMPILER 2007.03版

　　Synopsys 今天發(fā)布了下一代布局布線解決方案——IC Complier 2007.03 版。該版本運行時間更快、容量更大、多角/多模優(yōu)化（MCMM）更加智能、而且具有改進的可預測性，可顯著提高設計人員的生產(chǎn)效率。

　　同時，新版本還推出了支持正在興起的45納米技術(shù)的物理設計。目前，有近百個采用IC Compiler的客戶設計正在進行中，訂單金額超過一億美元。IC Compiler正成為越來越多市場領先的IC設計公司在各種應用和廣泛硅技術(shù)中的理想選擇。2007.03 版的重大技術(shù)創(chuàng)新將為加速其廣泛應用起到重要作用。

　　Synopsys設計產(chǎn)品集團高級副總裁兼總經(jīng)理Antun Domic 表示：“2007.03版是至今為止IC Compiler最重要的版本，將給數(shù)量龐大的用戶群帶來前所未有的優(yōu)勢。該版本提供先進的核心技術(shù)，能夠使用戶在整個板設計中獲益，同時，通過提高MCMM優(yōu)化和簽核驅(qū)動時序收斂等主要功能的自動化水平，提高生產(chǎn)效率?！?/P>

　　IC Compiler 2007.03引入了用于快速運行模式的新技術(shù)，在保證原有質(zhì)量的情況下使運行時間縮短了35%。新技術(shù)將16 Gb平臺的容量增加到接近1,000萬門，有助于用戶實現(xiàn)更大的模塊劃分。該版增加了集成的、層次化的設計規(guī)劃的早期介入，有助于用戶高效處理一億門級的設計。提高生產(chǎn)能效的另一個關鍵在于物理可行性流程，它能夠使用戶迅速生成和分析多次試驗布局，以確定具體實現(xiàn)的最佳起始值。

　　IC Compiler 2007.03為高級設計引入了自適應性MCMM優(yōu)化技術(shù)，能夠在保持精度水平相同的情況下，實現(xiàn)更快的運行速度、更小的內(nèi)存需求。IC Compiler為設計提供了多角/多模，實現(xiàn)了真正的并行優(yōu)化，這對高級用戶而言是一種巨大的優(yōu)勢。這些用戶不能承受其他布局布線工具連續(xù)優(yōu)化對時序安排的影響，或接受低精度技術(shù)融合。高級設計也可受益于目前已經(jīng)提供的IC Compiler簽核驅(qū)動時序收斂。

　　對于新興的45納米設計，IC Compiler 2007.03可為前沿用戶提供45納米布局及布線設計規(guī)則早期支持，并滿足光刻和與化學機械拋光（CMP）有關的金屬一致性的需求。目前，Synopsys正在與全球主要半導體廠商合作，為45納米設計的采用提供生產(chǎn)支持。與90納米和65納米設計一樣，Synopsys的物理部署解決方案率先啟動了45納米的流片。

　　IC Compiler 2007.03版即將出貨。