Toppan宣布28nm光刻掩膜準(zhǔn)備就緒 通過IBM認(rèn)證

　　Toppan Printing公司在同IBM的合作下，開發(fā)出新的光刻掩膜制造技術(shù)，可用于制造32nm和28nm掩膜。

　　該公司稱，這些掩膜在日本Asaka工廠制成，通過了IBM的認(rèn)證。

　　Toppan從45nm節(jié)點(diǎn)就開始和IBM合作，去年雙方簽署了32nm掩膜技術(shù)的最后階段的合作協(xié)議，以及22nm掩膜的合作開發(fā)協(xié)議。