光刻系統(tǒng) 文章進(jìn)入光刻系統(tǒng)技術(shù)社區(qū)

EVG推出EVG620HBL光刻系統(tǒng)

　　EVG在SEMICON China 2011展會(huì)期間推出EVG620HBL光刻系統(tǒng)。這一全新的EVG620HBL全自動(dòng)光刻系統(tǒng)以經(jīng)過(guò)實(shí)戰(zhàn)作業(yè)驗(yàn)證的EVG光刻機(jī)平臺(tái)為基礎(chǔ)，旨在優(yōu)化高亮度發(fā)光二極管(HB - LED)、復(fù)合半導(dǎo)體和動(dòng)力電子設(shè)備的生產(chǎn)制造。據(jù)悉，EVG620HBL增加了一個(gè)高強(qiáng)度紫外線光源和五個(gè)向盒裝卸臺(tái)，可以不間斷地制造設(shè)備。
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　　世界領(lǐng)先的先進(jìn)半導(dǎo)體與封裝、微機(jī)電系統(tǒng)、硅絕緣體(SOI)和新興納米技術(shù)市場(chǎng)晶圓鍵合與光刻設(shè)備應(yīng)供應(yīng)商EVG宣布，其產(chǎn)品組合中再添新成員。這一全新的EVG620HBL全自動(dòng)光刻系統(tǒng)以經(jīng)過(guò)實(shí)戰(zhàn)作業(yè)驗(yàn)證的EVG光刻機(jī)平臺(tái)為基礎(chǔ)，旨在優(yōu)化高亮度發(fā)光二極管(HB - LED)、復(fù)合半導(dǎo)體和動(dòng)力電子設(shè)備的生產(chǎn)制造。據(jù)悉，EVG620HBL增加了一個(gè)高強(qiáng)度紫外線光源和五個(gè)向盒裝卸臺(tái)，可以不間斷地制造設(shè)備。
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　　Maskless Lithography公司今天首次公開(kāi)推出全新的可提高印制電路板(PCB) 生產(chǎn)門(mén)檻的直寫(xiě)數(shù)字成像技術(shù)。這種MLI-2027直寫(xiě)光刻系統(tǒng)首次在業(yè)內(nèi)同時(shí)實(shí)現(xiàn)高精度、高生產(chǎn)效率和高成品率，並采用標(biāo)準(zhǔn)的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過(guò)在洛杉磯的工廠中對(duì)Maskless MLI-2027設(shè)備進(jìn)行測(cè)試、驗(yàn)證和認(rèn)證后，購(gòu)買(mǎi)了該公司的首臺(tái)產(chǎn)品。　　“這臺(tái)設(shè)備的售出標(biāo)志著我們五年的研發(fā)工
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