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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 光刻系統(tǒng)

EVG推出EVG620HBL光刻系統(tǒng)

  • 　　EVG在SEMICON China 2011展會期間推出EVG620HBL光刻系統(tǒng)。 這一全新的EVG620HBL全自動光刻系統(tǒng)以經(jīng)過實戰(zhàn)作業(yè)驗證的EVG光刻機平臺為基礎(chǔ)，旨在優(yōu)化高亮度發(fā)光二極管(HB - LED)、復(fù)合半導(dǎo)體和動力電子設(shè)備的生產(chǎn)制造。據(jù)悉，EVG620HBL增加了一個高強度紫外線光源和五個向盒裝卸臺，可以不間斷地制造設(shè)備。
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EVG推出EVG620HBL光刻系統(tǒng)

  • 　　世界領(lǐng)先的先進半導(dǎo)體與封裝、微機電系統(tǒng)、硅絕緣體(SOI)和新興納米技術(shù)市場晶圓鍵合與光刻設(shè)備應(yīng)供應(yīng)商EVG宣布，其產(chǎn)品組合中再添新成員。 這一全新的EVG620HBL全自動光刻系統(tǒng)以經(jīng)過實戰(zhàn)作業(yè)驗證的EVG光刻機平臺為基礎(chǔ)，旨在優(yōu)化高亮度發(fā)光二極管(HB - LED)、復(fù)合半導(dǎo)體和動力電子設(shè)備的生產(chǎn)制造。據(jù)悉，EVG620HBL增加了一個高強度紫外線光源和五個向盒裝卸臺，可以不間斷地制造設(shè)備。
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Maskless Lithography推出用于大批量PCB生產(chǎn)的直寫光刻設(shè)備

  • 　　Maskless Lithography公司今天首次公開推出全新的可提高印制電路板(PCB) 生產(chǎn)門檻的直寫數(shù)字成像技術(shù)。這種MLI-2027直寫光刻系統(tǒng)首次在業(yè)內(nèi)同時實現(xiàn)高精度、高生產(chǎn)效率和高成品率，並采用標準的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過在洛杉磯的工廠中對Maskless MLI-2027設(shè)備進行測試、驗證和認證后，購買了該公司的首臺產(chǎn)品。 　　“這臺設(shè)備的售出標志著我們五年的研發(fā)工
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光刻系統(tǒng)介紹

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