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maskless-lithography 文章 進入maskless-lithography技術社區(qū)

佳能發(fā)售半導體光刻機解決方案平臺“Lithography Plus”

  • 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺“Lithography Plus１”服務（以下簡稱“Lithography Plus”），該系統(tǒng)匯聚佳能在半導體制造領域超過50年的技術積淀，以包括曝光工藝在內(nèi)的海量半導體制造數(shù)據(jù)為支持，在提升設備維護運轉(zhuǎn)率的同時，能夠?qū)崿F(xiàn)半導體制造工藝的優(yōu)化。?佳能陸續(xù)推出了具有高處理性能的KrF光刻機和支持多種設備的i線光刻機等一系列產(chǎn)品，多年來一直積極地為購置佳能光刻機的客戶提供技術支持?！癓ithography Plus”通過綜合運用技術經(jīng)驗與數(shù)據(jù)積累，在實
  • 關鍵字： 佳能  半導體光刻機  Lithography Plus  

Vistec Lithography宣布與華中科技大簽署戰(zhàn)略合作伙伴協(xié)議

  • 　　電子束光刻系統(tǒng)的知名廠商Vistec Lithography公司近日宣布他們與中國武漢華中科技大學光電工程學院簽署了戰(zhàn)略合作伙伴協(xié)議。武漢華中科技大學是大陸國家級重點院校之一，而 Vistec Lithography則是電子束光刻設備的領先廠商，按協(xié)議規(guī)定，兩家將在納米光刻技術研究和教學領域開展合作。 　　這次合作的核心是Vistec公司提供給華中科技大學的EBPG5000pES電子束光刻系統(tǒng)，裝備這套系統(tǒng)之后，華中科技大學在教學，科研以及對外合作方面的實力將如虎添翼。華中科技大學稱：“
  • 關鍵字： Vistec-Lithography  光刻  掩膜  

Maskless Lithography推出用于大批量PCB生產(chǎn)的直寫光刻設備

  • 　　Maskless Lithography公司今天首次公開推出全新的可提高印制電路板(PCB) 生產(chǎn)門檻的直寫數(shù)字成像技術。這種MLI-2027直寫光刻系統(tǒng)首次在業(yè)內(nèi)同時實現(xiàn)高精度、高生產(chǎn)效率和高成品率，並采用標準的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過在洛杉磯的工廠中對Maskless MLI-2027設備進行測試、驗證和認證后，購買了該公司的首臺產(chǎn)品。 　　“這臺設備的售出標志著我們五年的研發(fā)工
  • 關鍵字： Maskless-Lithography  PCB  光刻系統(tǒng)  MLI-2027  
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maskless-lithography介紹

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