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佳能發(fā)售半導體光刻機解決方案平臺“Lithography Plus”

• 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺“Lithography Plus１”服務（以下簡稱“Lithography Plus”），該系統(tǒng)匯聚佳能在半導體制造領域超過50年的技術積淀，以包括曝光工藝在內(nèi)的海量半導體制造數(shù)據(jù)為支持，在提升設備維護運轉(zhuǎn)率的同時，能夠?qū)崿F(xiàn)半導體制造工藝的優(yōu)化。?佳能陸續(xù)推出了具有高處理性能的KrF光刻機和支持多種設備的i線光刻機等一系列產(chǎn)品，多年來一直積極地為購置佳能光刻機的客戶提供技術支持?！癓ithography Plus”通過綜合運用技術經(jīng)驗與數(shù)據(jù)積累，在實
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