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寬禁帶半導(dǎo)體
寬禁帶半導(dǎo)體 文章 進(jìn)入寬禁帶半導(dǎo)體技術(shù)社區(qū)
什么是寬禁帶半導(dǎo)體?
- 禁帶寬度和電場(chǎng)強(qiáng)度越高,器件越不容易被擊穿,耐壓可以更高;熱導(dǎo)率和熔點(diǎn)越高,器件越容易散熱,也更容易耐高溫;電子遷移率越高,器件的開(kāi)關(guān)速度也就越快,因此可以做高頻器件。不難看出,SiC和GaN器件在高溫、高壓、高頻應(yīng)用領(lǐng)域的顯著優(yōu)勢(shì)。半導(dǎo)體迄今為止共經(jīng)歷了三個(gè)發(fā)展階段:第一代半導(dǎo)體以硅(Si)、鍺(Ge)為代表;第二代半導(dǎo)體以砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)等化合物為代表;第三代半導(dǎo)體是以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)為主的寬禁帶半導(dǎo)體材料,具有高擊穿電場(chǎng)、高飽和電子速度、高熱導(dǎo)率、高電子密度、高
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力科發(fā)布更精確的寬禁帶半導(dǎo)體分析測(cè)量系統(tǒng)
- 力科近日宣布推出新的DL-ISO 1 GHz高壓光隔離探頭和功率器件測(cè)試軟件,與高精度示波器 (HDO) 結(jié)合使用時(shí),可提供最準(zhǔn)確的氮化鎵 (GaN) 和碳化硅 (SiC) 功率半導(dǎo)體器件的電氣特性表征。三十多年來(lái),工程師們一直在使用硅 (Si) 金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管 (MOSFET) 和絕緣柵雙極型晶體管 (IGBT) 功率半導(dǎo)體器件來(lái)生產(chǎn)電源和功率轉(zhuǎn)換系統(tǒng)。然而,消費(fèi)者需要體積更小、重量更輕的電源和系統(tǒng),而政府要求更高的效率。寬禁帶 (WBG) 材料,例如GaN 和 SiC,開(kāi)關(guān)速度比 Si
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英飛凌將投資逾20億歐元擴(kuò)大寬禁帶半導(dǎo)體產(chǎn)能
- 英飛凌將顯著擴(kuò)大寬禁帶(碳化硅和氮化鎵)半導(dǎo)體的產(chǎn)能,進(jìn)一步鞏固和增強(qiáng)其在功率半導(dǎo)體市場(chǎng)的領(lǐng)導(dǎo)地位。公司將斥資逾20億歐元,在馬來(lái)西亞居林工廠建造第三個(gè)廠區(qū)。建成之后,新廠區(qū)將用于生產(chǎn)碳化硅和氮化鎵功率半導(dǎo)體產(chǎn)品,每年可為英飛凌創(chuàng)造20億歐元的收入。 此次擴(kuò)建是英飛凌根據(jù)公司半導(dǎo)體生產(chǎn)制造長(zhǎng)期戰(zhàn)略而做出的決策,居林工廠在200毫米晶圓生產(chǎn)方面所取得的規(guī)模經(jīng)濟(jì)效應(yīng)為該項(xiàng)目打下了良好的基礎(chǔ)。英飛凌位于菲拉赫和德累斯頓的300毫米晶圓廠奠定了公司在半導(dǎo)體市場(chǎng)的領(lǐng)導(dǎo)
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英諾賽科寬禁帶半導(dǎo)體項(xiàng)目完成主體施工
- 據(jù)看看新聞網(wǎng)報(bào)道,目前,英諾賽科(蘇州)半導(dǎo)體有限公司項(xiàng)目主體施工已經(jīng)完成。資料顯示,英諾賽科寬禁帶半導(dǎo)體項(xiàng)目總投資68.55億元人民幣,注冊(cè)資本20億元,占地368.6畝,主要建設(shè)從器件設(shè)計(jì),驅(qū)動(dòng)IC設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā),材料制造,器件制備,后段高端封測(cè)以及模塊加工的全產(chǎn)業(yè)鏈寬禁帶半導(dǎo)體器件制造平臺(tái)。建成后將成為世界一流的集研發(fā)、設(shè)計(jì)、外延生產(chǎn)、芯片制造、分裝測(cè)試等于一體的第三代半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈研發(fā)生產(chǎn)平臺(tái)。據(jù)規(guī)劃,項(xiàng)目開(kāi)工后兩年內(nèi)投產(chǎn),投產(chǎn)后三年實(shí)現(xiàn)年產(chǎn)78萬(wàn)片功率控制電路及半導(dǎo)體電力電子器件的總目標(biāo),年銷售收入約
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從1998年至2018年寬禁帶半導(dǎo)體材料研究報(bào)告
- 寬禁帶半導(dǎo)體材料也被稱為第三代半導(dǎo)體材料(一代和二代分別為硅、鍺),其帶隙大于或等于2.3 eV。寬禁帶半導(dǎo)體材料一般具有電子漂移飽和速度高、介電常數(shù)小、導(dǎo)電性能好等特點(diǎn),受到了研究者廣泛研究。傳統(tǒng)的寬禁帶半導(dǎo)體有SiC、GaN、ZnO和Ga2O3等,以及其他II-VI組化合物材料。這類寬禁帶材料具有短波吸收、高擊穿電壓等特點(diǎn),因此在發(fā)光二極管(LEDs)與激光二極管(LDs)領(lǐng)域具有巨大的應(yīng)用前景。此外,隨著近些年太陽(yáng)能電池(SCs)的迅猛發(fā)展,寬禁帶半導(dǎo)體材料開(kāi)始在太陽(yáng)能電池領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。比如
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第三代半導(dǎo)體技術(shù)、應(yīng)用、市場(chǎng)全解析
- 第一代半導(dǎo)體材料是元素半導(dǎo)體的天下,第一代半導(dǎo)體材料是化合物半導(dǎo)體材料,然而隨著半導(dǎo)體器件應(yīng)用領(lǐng)域的不斷擴(kuò)大,特別是特殊場(chǎng)合要求半導(dǎo)體能夠在高溫、強(qiáng)輻射、大功率等環(huán)境下依然堅(jiān)挺,第一、二代半導(dǎo)體材料便無(wú)能為力,于是賦予使命的第三代半導(dǎo)體材料——寬禁帶半導(dǎo)體材料誕生了。
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相控陣?yán)走_(dá)性能的基石:寬禁帶半導(dǎo)體
- 現(xiàn)代電子產(chǎn)品的基礎(chǔ)是半導(dǎo)體器件,因此半導(dǎo)體器件的性能就決定了整個(gè)電子產(chǎn)品的性能,所謂半導(dǎo)體就是導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體和絕緣體之間的物理器件。最開(kāi)始時(shí),人們對(duì)這些物質(zhì)并不感興趣,后來(lái)才發(fā)現(xiàn)半導(dǎo)體的獨(dú)特性能,有導(dǎo)體和絕緣體不可替代的優(yōu)勢(shì)。最常見(jiàn)的半導(dǎo)體器件是二極管,其他所有的半導(dǎo)體器件都是建立在此基礎(chǔ)之上的?! ≡咏Y(jié)構(gòu)和半導(dǎo)體器件 導(dǎo)體之所以導(dǎo)電是因?yàn)槠鋬?nèi)部有容易活動(dòng)的自由電子,自由電子在電場(chǎng)的作用下開(kāi)始運(yùn)動(dòng),這個(gè)運(yùn)動(dòng)就是電流。物質(zhì)都是由原子組成,每個(gè)原子都由原子核和繞在其外面的軌道的自由電子組成,一般從外
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電子行業(yè):寬禁帶半導(dǎo)體即將形成板塊效應(yīng)
- 報(bào)告起因 國(guó)內(nèi)上市公司紛紛涉足寬禁帶半導(dǎo)體,我們從三大維度看好:實(shí)現(xiàn)國(guó)家戰(zhàn)略層面的彎道超車:半導(dǎo)體行業(yè)實(shí)現(xiàn)技術(shù)升級(jí)以及股票層面將形成板塊效應(yīng),我們此前的三安光電報(bào)告是市場(chǎng)第一篇詳細(xì)描述化合物半導(dǎo)體的深度報(bào)告。此行業(yè)報(bào)告也是市場(chǎng)上領(lǐng)先的深度梳理寬禁帶半導(dǎo)體行業(yè)的報(bào)告。 核心觀點(diǎn) 寬禁帶半導(dǎo)體材料性能突出,有望替代Si 基半導(dǎo)體:電和光的轉(zhuǎn)化性能突出,在微波信號(hào)傳輸方面的效率更高,可被廣泛應(yīng)用到照明、顯示、通訊等各個(gè)領(lǐng)域。 碳化硅將在功率器件領(lǐng)域快速發(fā)展,市場(chǎng)空間上百億美元:1)S
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寬禁帶半導(dǎo)體介紹
固體中電子的能量具有不連續(xù)的量值,電子都分布在一些相互之間不連續(xù)的能帶上。價(jià)電子所在能帶與自由電子所在能帶之間的間隙稱為禁帶或帶隙。所以禁帶的寬度實(shí)際上反映了被束縛的價(jià)電子要成為自由電子所必須額外獲得的能量。硅的禁帶寬度為1.12電子伏特(eV),而寬禁帶半導(dǎo)體材料是指禁帶寬度在2.3eV及以上的半導(dǎo)體材料,典型的是碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、金剛石等材料。寬禁帶半導(dǎo)體材料是被稱為第三代半 [ 查看詳細(xì) ]
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