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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 濕制程設(shè)備

Manz發(fā)布業(yè)界產(chǎn)出量最快的濕制程設(shè)備 加快cSi生產(chǎn)制程整合

  • 　　高科技產(chǎn)業(yè)整合解決方案供應(yīng)商Manz將參展SNEC 2012第六屆國(guó)際太陽能產(chǎn)業(yè)及光伏工程(上海)展覽會(huì)暨論壇 (展位：E3館，310)，屆時(shí)將展示其最新的晶體硅太陽能電池濕制程設(shè)備：IPSG CEI 4800。該設(shè)備主要用于去除晶片背部及邊緣的高摻雜層，進(jìn)而產(chǎn)生化學(xué)邊緣隔離(CEI)，還能去除之前擴(kuò)散過程中在晶片正面生成的磷硅玻璃(PSG)。Manz創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官Dieter Manz先生說：“憑借新式的濕制程設(shè)備，我們真正填補(bǔ)了Manz先前在光伏制程工藝中缺失的環(huán)節(jié)?！?/li>
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濕制程設(shè)備介紹

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