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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 納米壓印光刻技術(shù)

納米壓印光刻技術(shù)旨在挑戰(zhàn)EUV

  • 9 月，佳能推出了這項(xiàng)技術(shù)的第一個(gè)商業(yè)版本，有朝一日可能會(huì)顛覆最先進(jìn)的硅芯片的制造。它被稱為納米壓印光刻 （NIL），能夠?qū)π≈?14 納米的電路特征進(jìn)行圖案化，使邏輯芯片能夠與目前正在量產(chǎn)的 Intel、AMD 和 Nvidia 處理器相媲美。NIL 系統(tǒng)提供的優(yōu)勢(shì)可能會(huì)挑戰(zhàn)價(jià)值 1.5 億美元的機(jī)器，這些機(jī)器在當(dāng)今先進(jìn)的芯片制造中占據(jù)主導(dǎo)地位，即極紫外 （EUV） 光刻掃描儀。如果佳能是正確的，其機(jī)器最終將以極低的成本提供 EUV 質(zhì)量的芯片。該公司的方法與 EUV 系統(tǒng)完全不同，后者完全由總部位于荷
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惠普向第三方授權(quán)納米壓印光刻技術(shù)

  • 　　加州Nanolithosolutions公司日前獲得了惠普實(shí)驗(yàn)室授權(quán)的一項(xiàng)納米壓印光刻技術(shù)，該技術(shù)可用于生產(chǎn)線寬只有15納米的電路板原型。 　　對(duì)此，公司首席執(zhí)行官Bo Pi稱：“利用惠普的該項(xiàng)技術(shù)，我們可以從事生物芯片、光子芯片，以及相關(guān)應(yīng)用的研究?！? 　　利用惠普的新技術(shù)，Nanolithosolutions已經(jīng)開發(fā)出一套工具。該款工具包含一個(gè)模塊和掩模對(duì)準(zhǔn)器，可用于創(chuàng)建基片上的晶體管模式。 　　據(jù)悉，該款工具簡(jiǎn)單易用，成本低廉，可以將普通的掩模對(duì)準(zhǔn)器變成高分辨率的納米壓印光刻機(jī)。
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納米壓印光刻技術(shù)介紹

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